CN111504889A - 极紫外累积辐照损伤测试系统及方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种极紫外累积辐照损伤测试系统及方法，该测试系统包括：EUV光源腔室、收集镜腔室和测试腔室；EUV光源腔室用于产生EUV辐照源，该EUV辐照源用于辐射出宽谱辐照光；收集镜腔室用于容纳反射镜，该反射镜用于将宽谱辐照光中的EUV光反射聚焦到测试腔室中；测试腔室中，滤光片用于滤除反射光中的长波段光，从而得到窄谱EUV光用于样品辐照测试；衰减片装载台对EUV辐照光进行不同衰减倍率的光能量衰减；样品调节台用于调节样品移动，从而实现材料累积辐照自动控制。本方案，能够提供金属、非金属、光学材料等多种固态材料长时间辐照损伤测试平台，且结构简单，操作方便，测试效率高。
Description
技术领域
本申请涉及材料测试技术领域，具体涉及一种极紫外累积辐照损伤测试系统及方法。
背景技术
在半导体技术领域，有些工艺设备需基于短波长工作且长时间持续运行，如极紫外(Extreme ultraviolet，简写为EUV)光刻机、极紫外掩模检测系统等。在极紫外光刻机系统内，光路上的光学元件受到极紫外光长时间的直接辐照，非光路上的光部件会受到杂散光长时间的间接辐照。极紫外波段光子能量高，长时间的极紫外光辐照，将会引起材料的累积辐照损伤，因此需要研制极紫外累积辐照损伤测试系统，以对用于极紫外光刻机中的材料受到极紫外光长时间辐照后的损伤性能进行测试研究。
目前，已有多个关于材料短波长辐照损伤的相关研究，如参考文献“Damagethreshold measurements on EUV optics using focused radiation from a table-toplaser produced plasma source”中介绍了基于LPP(Laser Produced Plasma)光源建立的辐照损伤测试系统及对Mo/Si多层膜、Au膜、熔融石英、单晶硅等辐照损伤阈值的测试研究；还比如，参考文献“Damage thresholds of various materials irradiated by 100-pspulses of 21.2-nm laser radiation”中发表了基于类氖锌软X射线激光建立的辐照损伤测试系统及对非晶硅的辐照损伤的测试分析。
但目前的研究中，大多是使用单脉冲或少数几个脉冲的辐照方法研究材料的辐照损伤阈值特性，而极紫外光刻机持续运行对材料长时间辐照损伤的影响，是材料受到低于损伤阈值的能量密度长时间辐照导致的累积辐照损伤，因此损伤阈值不能评估长时间累积辐照损伤特性。
发明内容
本申请的目的是提供一种极紫外累积辐照损伤测试系统及方法，以实现对金属、非金属、光学等固体材料的极紫外累积辐照损伤的测试研究。
本申请第一方面提供一种极紫外累积辐照损伤测试系统，包括：
EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)；其中，
所述EUV光源腔室(1)用于产生EUV辐照源(2)，该EUV辐照源(2)用于辐射出宽谱辐照光(4)；
所述收集镜腔室(3)用于容纳反射镜(5)，该反射镜(5)用于将所述宽谱辐照光(4)中的EUV光反射聚焦到所述测试腔室(7)中；
所述测试腔室(7)用于容纳在光路上依次设置的滤光片(8)、衰减片装载台(9)以及样品调节台(11)；
其中，所述滤光片(8)用于将反射光中的长波段光滤波得到测试需要的窄谱辐照光；所述衰减片装载台(9)用于装载多个不同衰减倍率的衰减片(15)，以对所述窄谱辐照光进行不同衰减倍率的光能量衰减；所述样品调节台(11)用于设置所要测试的样品(20)，并且能够控制样品(20)移动，从而实现材料累积辐照自动控制。
根据本申请的一些实施方式中，所述衰减片装载台(9)为包含多个通光孔(14)的电动旋转圆盘(13)，不同衰减倍率的衰减片(15)按照衰减倍率顺时针从低到高的排序装载于多个通光孔(14)中。
根据本申请的一些实施方式中，所述测试腔室(7)中还安装有能量探测器(10)，该能量探测器(10)用于测试辐照光能量，在需要能量测试时调节至衰减片装载台(9)和样品调节台(11)之间的光路中，测试结束后调至光路外。
根据本申请的一些实施方式中，所述样品调节台(11)为三维平移台，由三个一维运动导轨及样品架组合连接而成，样品调节台(11)可以设置自动控制运动方向、运动步数、运动步长、停留时间。
根据本申请的一些实施方式中，所述样品调节台(11)包括x轴运动导轨(16)、y轴运动导轨(18)、z轴运动导轨(17)和样品架(19)；其中，
所述z轴运动导轨(17)可滑动安装在所述y轴运动导轨(18)上，所述x轴运动导轨(16)可滑动安装在所述z轴运动导轨(17)上，所述样品架(19)可滑动安装在所述x轴运动导轨(16)上，该样品架(19)上固定安装所述样品(20)。
根据本申请的一些实施方式中，所述x轴运动导轨(16)上设置有通孔(21)。
根据本申请的一些实施方式中，所述测试腔室(7)中还安装有光斑探测器(12)，该光斑探测器(12)用于测试样品表面的光斑大小，在光斑测试时调节该光斑探测器(12)至所述通孔(21)位置的样品平面。
根据本申请的一些实施方式中，所述测试系统还包括抽真空装置，该抽真空装置分别与EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)连接，用于调节所述EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)中的气压达到所需真空度。
根据本申请的一些实施方式中，所述测试系统还包括安装在所述收集镜腔室(3)和所述测试腔室(7)之间的电动开关快门(6)，用于控制辐照光的传输或截止。
根据本申请的一些实施方式中，所述反射镜(5)为Mo/Si多层膜椭球面反射镜。
根据本申请的一些实施方式中，所述滤光片(8)为锆(Zr)膜结构。
本申请第二方面提供一种材料极紫外累积辐照损伤测试方法，基于上述第一方面中所述的极紫外累积辐照损伤测试系统，所述方法包括：
EUV光源腔室(1)产生的EUV辐照源(2)辐射出宽谱辐照光(4)；
收集镜腔室(3)中的反射镜(5)将所述宽谱辐照光(4)中的EUV光反射聚焦到测试腔室(7)中；
反射光依次被所述测试腔室(7)中的滤光片(8)滤波成测试需要的窄谱辐照光，继续被衰减片装载台(9)衰减为测试需要的光能量后，到达样品调节台(11)上的样品(20)表面来进行样品测试，样品调节台(11)可以设置自动控制运动方向、运动步数、运动步长、停留时间,从而实现自动控制样品(20)的累积辐照。。
相较于现有技术，本申请提供的极紫外累积辐照损伤测试系统及方法，能够实现对材料进行多条件、多种测试时间的辐照，具有开展材料累计辐照损伤测试研究能力，提供金属、非金属、光学材料等多种固态材料长时间辐照损伤测试平台，且结构简单，操作方便，测试效率高。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本申请的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
图1示出了本申请实施例所提供的一种极紫外累积辐照损伤测试系统的结构图；
图2示出了本申请实施例所提供的衰减片装载台的示意图，其中(a)和(b)分别是衰减片装载台装载衰减片前、后的示意图；
图3示出了本申请实施例所提供的样品调节台的示意图，其中(a)为样品中心辐照测试时的示意图，(b)为样品调节至光束外的示意图，(c)为光斑探测器从腔壁平面调节至样品平面的示意图；
图4示出了本申请实施例所提供的方形样品表面辐照点的示意图。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域技术人员所理解的通常意义。
另外，术语“第一”和“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
本申请实施例提供一种极紫外累积辐照损伤测试系统及方法，可以对金属、非金属、光学材料等多种固态材料的长时间辐照损伤特性进行自动测试。下面以中心波长为13.5nm的极紫外累积辐照损伤测试系统为例，说明测试系统的主要结构及测试方法，下面结合附图及具体实施例进行详细说明。
请参考图1，其示出了本申请实施例所提供的一种极紫外累积辐照损伤测试系统的结构图，如图所示，所述测试系统100，包括：EUV光源腔室1、收集镜腔室3和测试腔室7。可选的，各个腔室采用模块化设计，可以通过标准法兰接口相连，方便各器件之间装拆和调试。
由于EUV只能在真空环境中传播，因此，所述测试系统100还包括抽真空装置(例如抽气泵组以及相应量程的真空计，图中未画出)，该抽真空装置分别与EUV光源腔室1、收集镜腔室3和测试腔室7连接，用于调节EUV光源腔室1、收集镜腔室3和测试腔室7中的气压达到所需真空度。
EUV光源腔室1用于产生EUV辐照源2，该EUV辐照源2用于辐射出宽谱辐照光4，该EUV光源腔室1可为LPP光源、DPP(Discharge Produced Plasma)光源、HHG光源等EUV光源。
收集镜腔室3用于容纳反射镜5，该反射镜5用于将宽谱辐照光4中的EUV光反射聚焦到测试腔室7中。可选的，反射镜5为Mo/Si多层膜椭球面反射镜。
测试腔室7用于容纳在光路上依次设置的滤光片8、衰减片装载台9以及样品调节台11。其中，滤光片8用于将经反射镜5的反射光滤波成测试需要的窄谱辐照光，滤光片8可选为锆(Zr)膜结构；衰减片装载台9用于装载多个不同衰减倍率的衰减片15(如图2中(b)所示的15a、15b、15c、15d)，以对所述窄谱辐照光进行不同衰减倍率的光能量衰减；样品调节台11用于设置所要测试的样品20，并且能够使样品20移动至能够接受辐照光的位置。
举例来说，EUV光源腔室1产生EUV辐照源2，发出的辐照光4经过收集镜腔室3的反射镜5后，被反射聚焦到测试腔室7中，由滤光片8进行光谱纯化后得到中心波长为13.5nm的极紫外光，经过衰减片装载台9后传输到样品调节台11上进行样品辐照损伤测试。该测试系统中，辐照光4是宽光谱光，通过反射镜5得到窄带13.5nm的极紫外光及长波段杂光，之后由滤光片8滤除长波段杂光，得到用于辐照测试的窄带极紫外光。
根据本申请的一些实施方式中，所述测试系统100还包括安装在收集镜腔室3和所述测试腔室7之间的电动开关快门6，用于控制辐照光在样品20上的辐照次数和辐照时间。具体的，电动开关快门6通过开/关状态的改变来控制光束的后续传播或截止，测试期间，打开电动开关快门6，进行测试研究；非测试时间，关闭电动开关快门6，避免光路后续的光学部件在非测试期间受到光辐照而导致性能下降。
根据本申请的一些实施方式中，测试腔室7中还安装有能量探测器10，该能量探测器10用于测试辐照光能量，在需要能量测试时调节至衰减片装载台9和样品调节台11之间的光路中，测试结束后调至光路外。
根据本申请的一些实施方式中，所述测试腔室7中还安装有光斑探测器12，该光斑探测器12用于测试样品表面的光斑大小，在光斑测试时调节至样品平面(即，样品接受辐照的平面)，测试结束后沿着光路方向调至腔壁平面(即，测试腔室的腔壁平面)。
在辐照损伤测试过程中，为了得到不同能量密度的辐照光，通过两种方法实现不同能量密度，一是衰减片装载台9对辐照光进行不同倍率的光能量衰减，二是改变样品调节台11与聚焦点的距离以改变光能量密度。
衰减片装载台9的示意图如图2所示，图2中(a)和(b)分别是装载衰减片前、后的示意图，衰减片装载台9的主要结构是包含多个通光孔14的电动旋转圆盘13，不同衰减倍率的衰减片15a、15b、15c、15d按照衰减倍率从低到高的排序装载于不同的通光孔14中，通过逆时针转动电动旋转圆盘13，依次将空载的通光孔14、衰减片15a、衰减片15b、衰减片15c、衰减片15d调节到光路中，从而实现光能量不同倍率的衰减。
样品调节台11可以为三维平移台，由三个一维运动导轨及样品架组合连接而成。
具体的，样品调节台11的示意图如图3所示，图3中(a)、(b)、(c)分别是样品中心辐照测试时、样品调节至光束外、光斑探测器12从腔壁平面调节至样品平面的示意图。具体的，样品调节台11包括x轴运动导轨16、y轴运动导轨18、z轴运动导轨17和样品架19；其中，z轴运动导轨17可滑动安装在y轴运动导轨18上，x轴运动导轨16可滑动安装在z轴运动导轨17上，样品架19可滑动安装在x轴运动导轨16上，该样品架19上固定安装所述样品20。x轴运动导轨16上设置有通孔21。
也就是说，样品20安装在样品架19上，样品架19安装在电动的xyz三轴样品调节台11上，可通过对x轴运动导轨16、y轴运动导轨18、z轴运动导轨17的调节实现样品20在x、y、z三个方向上的调节。当需要测试样品20表面光斑尺寸时，先将样品20调节到样品中心辐照测试的x、y、z位置，如图3(a)所示；再将样品调节至x轴的最大量程处，使样品架19在光束外从而不遮挡通孔21，如图3(b)所示；之后将光斑探测器12从腔壁平面调节至样品平面，即可对样品平面的光斑大小进行测试，如图3(c)所示。
样品20表面辐照测试点的数量、分布、辐照时间等参数，可以通过程序软件控制样品调节台11的运动步数、运动步长、停留时间等来设置。以方形样品辐照损伤测试为例，图4为方形样品表面辐照点示意图。如图4所示，拟测试t1至t6的6种依次增长的不同的辐照时间，时间t1至t6可根据需要设定时间，一般为20分钟至5小时之间。为了减少测试误差，每种辐照时间测试的样品点数量N最好≥3个，该例中每种辐照时间为3个样品点N1、N2、N3，测试样品点之间y向距离w，x向距离h，为了减少对未辐照区域的污染，辐照样品点的测试顺序从下往上进行，所以测试顺序运动方向如图为t1N1→t1N2→t1N3→t2N3→t2N2→t2N1→t3N1→t3N2→t3N3→t4N3→t4N2→t4N1→t5N1→t5N2→t5N3→t6N3→t6N2→t6N1。
本申请实施例提供的极紫外累积辐照损伤测试系统，能够实现对材料进行多条件、多种测试时间的辐照，具有开展材料累计辐照损伤测试研究能力，提供金属、非金属、光学材料等多种固态材料长时间辐照损伤测试平台，且结构简单，操作方便，测试效率高。
基于上述实施例中提供的极紫外累积辐照损伤测试系统，本申请还提供一种材料极紫外累积辐照损伤测试方法，所述方法包括：
步骤S101：EUV光源腔室(1)产生EUV辐照源(2)辐射出宽谱辐照光(4)；
步骤S102：收集镜腔室(3)中的反射镜(5)将所述宽谱辐照光(4)中的EUV光反射聚焦到测试腔室(7)中；
步骤S103：所述宽谱辐照光(4)经反射后依次被所述测试腔室(7)中的滤光片(8)滤波成测试需要的窄谱辐照光，继续被衰减片装载台(9)衰减为测试需要的光能量后，到达样品调节台(11)上的样品(20)表面来进行样品测试。
具体的测试过程如下：
在辐照测试前，使用150×倍的显微镜观察样品20表面，确保样品面没有明显的损伤划痕，之后将待测样品20安装在样品调节台11上，关闭测试腔室7，打开电动开关快门6(以下简称快门6)，启动抽气泵组对整个真空系统抽真空，并启动真空计监测各腔室气压。在抽真空过程中，将样品调节台11及光斑探测器12调节至如图3(c)所示的位置，能量探测器10调至光路中，衰减片装载台9调节至所需的衰减片位置，如15a。当系统气压达到所需真空度，如进入10-4Pa时，关闭快门6，启动极紫外光源系统，设定光源参数，其中光源重频为F，打开快门6，通过能量探测器10测试样品表面辐照光单脉冲能量E，之后将能量探测器10调出光路，通过光斑探测器12测试样品表面的辐照光斑面积S，通过E/S即可估算辐照单脉冲能量密度D。关闭快门6，将光斑探测器12调节至腔壁平面。
在辐照测试时，根据测试样品20的辐照测试点的数量、分布、辐照时间等测试要求，如图4所示，设置三轴样品调节台11的运动参数，包括：时间种数t＝6，并设置停留时间t1至t6的数值；每个样品点测试点数N＝3；运动步长y向为w，x向为h。确认运动参数设置，此时样品20在xy平面上运动，直至第一个辐照样品点t1N1位于光路。启动样品调节台11开始运动，同时打开快门6，通过程序软件控制样品调节台11的运动，完成预设样品点的对应时间的辐照。当最后一个样品点t6N1辐照结束时，关闭快门6，此时全部样品点已完成对应累积时长的辐照。
在辐照测试后，停止极紫外光源系统，打开快门6，真空腔室充入惰性气体(如N2等)直至测试系统腔内约为1个大气压，停止充气，关闭快门6，打开测试腔室7，取出测试样品20。样品20表面样品点长时间辐照后，与非辐照的区域相比，辐照样品点的物理特性、化学特性、光学特性等可能会产生变化，如表面可能有烧灼、凹坑、熔化以及物质组分、透过率等变化。对于不同的样品材料，一般可通过显微镜、扫描电子显微镜、3D表面轮廓仪等观测分析表面微观形貌变化，通过能谱仪等观察物质组分变化，通过反射率及透过率测试分析反射/透过率的变化。通过辐照样品点与未辐照区域的材料性能变化，评估材料在单脉冲能量密度为D，频率为F条件下，极紫外辐照t1、t2、t3、t4、t5、t6时间后的累积辐照损伤特性。对于研究不同单脉冲能量密度下的累积辐照损伤测试需求，可通过调节衰减片装载9改变光的衰减倍数，或者改变样品20与聚焦点的距离实现。
需要说明的是，在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，又例如，多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些通信接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。
所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外，在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。
所述功能如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本申请的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等)执行本申请各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM，Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本申请的权利要求和说明书的范围当中。
Claims (12)
1.一种极紫外累积辐照损伤测试系统，其特征在于，包括：EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)；其中，
所述EUV光源腔室(1)用于产生EUV辐照源(2)，该EUV辐照源(2)用于辐射出宽谱辐照光(4)；
所述收集镜腔室(3)用于容纳反射镜(5)，该反射镜(5)用于将所述宽谱辐照光(4)中的EUV光反射聚焦到所述测试腔室(7)中；
所述测试腔室(7)用于容纳在光路上依次设置的滤光片(8)、衰减片装载台(9)以及样品调节台(11)；
其中，所述滤光片(8)用于将反射光中长波段光滤波，得到测试所需的窄谱辐照光；所述衰减片装载台(9)用于装载多个不同衰减倍率的衰减片(15)，以对所述窄谱辐照光进行不同衰减倍率的光能量衰减；所述样品调节台(11)用于设置所要测试的样品(20)，并且能控制样品(20)的移动，从而实现材料累积辐照自动控制。
2.根据权利要求1所述的测试系统，其特征在于，所述衰减片装载台(9)为包含多个通光孔(14)的电动旋转圆盘(13)，不同衰减倍率的衰减片(15)按照衰减倍率顺时针从低到高的排序装载于多个通光孔(14)中。
3.根据权利要求1所述的测试系统，其特征在于，所述测试腔室(7)中还安装有能量探测器(10)，该能量探测器(10)用于测试辐照光能量，在需要能量测试时调节至衰减片装载台(9)和样品调节台(11)之间的光路中，测试结束后调至光路外。
4.根据权利要求1所述的测试系统，其特征在于，所述样品调节台(11)为三维平移台，由三个一维运动导轨及样品架组合连接而成，样品调节台(11)可以设置自动控制运动方向、运动步数、运动步长、停留时间。
5.根据权利要求4所述的测试系统，其特征在于，所述样品调节台(11)包括x轴运动导轨(16)、y轴运动导轨(18)、z轴运动导轨(17)和样品架(19)；其中，
所述z轴运动导轨(17)可滑动安装在所述y轴运动导轨(18)上，所述x轴运动导轨(16)可滑动安装在所述z轴运动导轨(17)上，所述样品架(19)可滑动安装在所述x轴运动导轨(16)上，该样品架(19)上固定安装所述样品(20)。
6.根据权利要求5所述的测试系统，其特征在于，所述x轴运动导轨(16)上设置有通孔(21)。
7.根据权利要求6所述的测试系统，其特征在于，所述测试腔室(7)中还安装有光斑探测器(12)，该光斑探测器(12)用于测试样品表面的光斑大小，在光斑测试时调节该光斑探测器(12)至所述通孔(21)位置的样品平面。
8.根据权利要求1所述的测试系统，其特征在于，所述测试系统还包括抽真空装置，该抽真空装置分别与EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)连接，用于调节所述EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)中的气压达到所需真空度。
9.根据权利要求1所述的测试系统，其特征在于，所述测试系统还包括安装在所述收集镜腔室(3)和所述测试腔室(7)之间的电动开关快门(6)，用于控制辐照光的传输或截止。
10.根据权利要求1所述的测试系统，其特征在于，所述反射镜(5)为Mo/Si多层膜椭球面反射镜。
11.根据权利要求1所述的测试系统，其特征在于，所述滤光片(8)为锆(Zr)膜结构。
12.一种材料极紫外累积辐照损伤测试方法，基于权利要求1至11任一项所述的极紫外累积辐照损伤测试系统，其特征在于，所述方法包括：
EUV光源腔室(1)产生的EUV辐照源(2)辐射出宽谱辐照光(4)；
收集镜腔室(3)中的反射镜(5)将所述宽谱辐照光(4)中的EUV光反射聚焦到测试腔室(7)中；
反射光依次被所述测试腔室(7)中的滤光片(8)滤波成测试需要的窄谱辐照光，继续被衰减片装载台(9)衰减为测试需要的光能量后，到达样品调节台(11)上的样品(20)表面来进行样品测试，样品调节台(11)可以设置自动控制运动方向、运动步数、运动步长、停留时间,从而实现自动控制样品(20)的累积辐照。
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| CN202010328028.3A CN111504889A (zh) | 2020-04-23 | 2020-04-23 | 极紫外累积辐照损伤测试系统及方法 |
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