CN111474787A - 阵列基板及显示面板 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种阵列基板及显示面板,在阵列基板中,基底覆盖边框区;信号线层设置在所述基底上,信号线层包括多条第一信号线,多条所述第一信号线设置在边框区;保护层覆盖在信号线层上;绿色滤光体设置保护层上,且设置在边框区,滤光体至少覆盖在第一信号线之间;平坦层设置在滤光体上;黑色垫隔物层包括黑色遮光体,黑色遮光体覆盖整个所述边框区。本申请通过滤光体和黑色遮光体的堆叠设置,降低了边框区的漏光程度。
Description
技术领域
本申请涉及一种显示技术领域,特别涉及一种阵列基板及显示面板。
背景技术
在现有显示面板中,在制备间隔柱时,通常采用双层色阻堆叠加上覆盖黑色垫隔物(Black Photo Spacer,BPS)作主间隔柱,采用单层色阻加上覆盖BPS作为副间隔柱,而在边框区则整面覆盖BPS遮光。但是由于BPS材料在背光400纳米左右波段存在轻微漏光(如图2),严重影响BPS面板的质量。
发明内容
本申请实施例提供一种阵列基板及显示面板,以解决现有的显示面板采用BPS覆盖边框区,导致边框侧漏光的技术问题。
本申请实施例提供一种阵列基板,其包括显示区和边框区,所述边框区设置在所述显示区的周侧,所述阵列基板包括:
基底,所述基底包括边框区;
信号线层,所述信号线层设置在所述基底上,所述信号线层包括多条第一信号线,多条所述第一信号线设置在所述边框区;
保护层,所述保护层覆盖在所述信号线层上,且覆盖所述边框区;
滤光体,所述滤光体为绿色,所述滤光体设置在所述保护层上,且设置在所述边框区,所述滤光体至少覆盖在所述第一信号线之间;
平坦层,所述平坦层设置在所述滤光体上,且覆盖所述边框区;以及
黑色垫隔物层,所述黑色垫隔物层设置在所述平坦层上,所述黑色垫隔物层包括黑色遮光体,所述黑色遮光体覆盖整个所述边框区。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述滤光体覆盖整个所述边框区。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述滤光体间隔设置在所述第一信号线之间。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述黑色遮光体的厚度大于或等于2.0微米,所述滤光体的厚度大于等于1.5微米。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述黑色遮光体的厚度大于或等于2.5微米。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述基底还包括显示区,所述阵列基板还包括多个色阻,所述色阻设置在所述显示区,所述色阻与所述滤光体同层设置;
多个所述色阻包括绿色色阻,所述滤光体的材料和所述绿色色阻的材料相同。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述绿色色阻的厚度大于所述滤光体的厚度。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述基底、所述信号线层、所述保护层、所述平坦层和所述黑色垫隔物层也覆盖所述显示区;
所述阵列基板还包括第一垫块和第二垫块,所述第一垫块、所述第二垫块与所述色阻同层设置,所述第一垫块和所述第二垫块分别设置在所述色阻之间;
所述黑色垫隔物层包括黑色矩阵、主间隔柱和辅间隔柱,所述黑色矩阵设置在多个所述色阻之间,所述主间隔柱和所述辅间隔柱均设置在所述黑色矩阵的区域上;
所述主间隔柱对应设置在所述第一垫块上,所述辅间隔柱对应设置在所述第二垫块上,所述第一垫块的厚度大于所述第二垫块的厚度。
在本申请实施例所述的阵列基板中,所述信号线层为源漏金属层或栅极金属层。
本申请实施例还涉及一种显示面板,其包括上述实施例的阵基列板。
本申请的阵列基板及显示面板,在边框区上的第一信号线之间至少覆盖绿色的滤光体,以及在滤光体上叠加覆盖整个边框区的黑色遮光体,从而降低甚至避免了边框区的漏光概率。
具体地,背光的光线自下而上进入边框区时,经过绿色滤光体后过滤掉波段在400纳米左右的光,过滤后的光继续向上辐射至黑色遮光体,而至少绝大部分的光被黑色遮光体吸收,从而达到降低显示面板的边框区漏光的效果。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本申请的部分实施例,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获取其他的附图。
图1为本申请第一实施例的阵列基板的结构示意图;
图2为BPS材料的透射光谱及对应波段的示意图;
图3为红绿蓝色阻的透射光谱及对应波段的示意图;
图4为本申请第一实施例的阵列基板中形成滤光体的掩模板的第二透光部分的结构示意图;
图5为本申请第二实施例的阵列基板的结构示意图;
图6为本申请实施例的显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参照图1,图1为本申请第一实施例的阵列基板的结构示意图。本第一实施例提供一种阵列基板100,其包括基底11、信号线层12、保护层13、滤光体14、色阻15、第一垫块16、第二垫块17、平坦层18、黑色垫隔物层19。
阵列基板100包括显示区AA和边框区NA,边框区NA设置在显示区AA的周侧。
基底11覆盖显示区AA和边框区NA。需要说明的是,本第一实施例的阵列基板100,基底11为包括依次设置的基板、缓冲层、半导体层、第一绝缘层、栅极金属层和第二绝缘层的器件基底。基板可以为玻璃基板或柔性基板。由于基底11为现有技术,故此处不再赘述。
信号线层12设置在基底11上。信号线层12为源漏金属层,信号线层12包括同层设置的多条第一信号线121、源极122和漏极123。多条第一信号线121设置在边框区NA。源极122和漏极123设置在显示区AA,用于构成薄膜晶体管。可选的,所述第一信号线121可以为栅极驱动电路中的至少部分走线和/或源极驱动电路中的至少部分走线。
可选的,在一些实施例中,信号线层12也可以为栅极金属层(未有示意图),信号线层12包括同层设置的多条第一信号线121和栅极。多条第一信号线121设置在边框区NA。栅极设置在显示区AA,用于构成薄膜晶体管。
保护层13覆盖在信号线层12上,且覆盖显示区AA和边框区NA。
滤光体14为绿色。滤光体14设置保护层13上,且设置在边框区NA。滤光体14至少覆盖在第一信号线121之间。在本第一实施例中,滤光体14间隔设置在第一信号线121之间,以过滤从第一信号线121之间穿透的背光光线。
多个色阻15与滤光体14同层设置。色阻15设置在保护层13上,且设置在显示区AA。多个色阻15包括红色色阻151、绿色色阻152和蓝色色阻153。
第一垫块16和第二垫块17与色阻15同层设置。第一垫块16和第二垫块对应设置在黑色矩阵192的区域。也就是说,至少部分第一垫块16和第二垫块17分别设置在色阻15之间。
平坦层18设置在滤光体14、色阻15、第一垫块16和第二垫块17上,且覆盖显示区AA和边框区NA。
黑色垫隔物层(Black Photo Spacer,BPS)19设置在平坦层18上。黑色垫隔物层19包括黑色遮光体191、黑色矩阵192、主间隔柱193和辅间隔柱194。黑色遮光体191覆盖整个边框区NA。黑色矩阵192设置在多个色阻15之间。主间隔柱193和辅间隔柱194均设置在黑色矩阵192的区域上。主间隔柱193对应设置在第一垫块16上,辅间隔柱194对应设置在第二垫块17上。
可以理解的是,在现有技术的显示面板的边框区仅铺设黑色垫隔物层(BlackPhoto Spacer,BPS)以遮光,但是请参照图2,BPS材料在波段为400纳米左右和640纳米以上时,会出现漏光,从而导致边框区漏光的现象。
请参照图3,从图3中可得知,绿色色阻材料的透过光谱正好避开了400纳米左右的波段和640纳米以上的波段。因此绿色色阻材料对光线的过滤属性正好弥补了BPS材料漏光的缺点。
因此在本第一实施例的阵列基板100中,在边框区NA上的第一信号线121之间至少覆盖绿色的滤光体14,以及在滤光体14上叠加覆盖整个边框区的黑色遮光体191,从而降低甚至避免了边框区NA的漏光概率。
具体地,背光模组的光线自下而上进入边框区NA,一部分的光线辐射至第一信号线121时被第一信号线121遮挡;另一部分光线穿过第一信号线121之间的膜层辐射至绿色的滤光体14。滤光体14过滤掉波段在400纳米左右的光线,过滤后的光线继续向上辐射至黑色遮光体191,黑色遮光体191遮挡至少大部分的剩余光线,从而达到降低边框区NA漏光的效果。
在本第一实施例的阵列基板100中,黑色遮光体191的厚度大于或等于2.0微米,滤光体14的厚度大于等于1.5微米。也就是说,黑色遮光体191的厚度为大于或等于2.0微米的任一值即可,滤光体14的厚度为大于或等于1.5微米的任一值即可。
具体地,请参照表1,黑色遮光体191的材料是BPS,其光学致密性(OpticalDensity,OD)为1.2/um。滤光体14的材料是绿色光阻的材料。
黑色遮光体厚度 | 2.5微米 | 2.5微米 | 2.5微米 | 2.0微米 | 3.0微米 | 3.0微米 | 3.0微米 |
滤光体厚度 | 0微米 | 1.5微米 | 2.0微米 | 2.0微米 | 2.4微米 | 1.9微米 | 0微米 |
漏光程度 | 严重 | 轻微 | 轻微 | 较严重 | 无漏光 | 无漏光 | 严重 |
表1
根据表1可知,当黑色遮光体191的厚度为2.0微米,漏光的情况较为严重,但相对于仅有黑色遮光体191的结构,还是降低了漏光的程度。
根据表1,可选的,黑色遮光体191的厚度大于或等于2.5微米。本第一实施例的阵列基板100在设置有1.5微米(包含1.5微米)以上的滤光体14的基础上,黑色遮光体191的厚度大于或等于2.5微米,漏光程度为轻微或无漏光。故黑色遮光体191的厚度大于或等于2.5微米的设置具有较好的效果。
可选的,黑色遮光体191的厚度为2.1微米、2.2微米、2.3微米、2.4微米、2.5微米、2.6微米、2.7微米、2.8微米、2.9微米、3.0微米、3.5微米、4微米、5微米或6微米。滤光体14的厚度为1.5微米、1.6微米、1.7微米、1.8微米、1.9微米、2.0微米、2.1微米、2.2微米、2.3微米、2.4微米、3微米、4微米、5微米或6微米。
另外,在本第一实施例中,相同BPS材料膜厚越厚,OD越大,遮光性越好。不同BPS材料,若BPS材料本身OD越大,膜厚可以相应降低。
在第一实施例的阵列基板100中,滤光体14的材料和绿色色阻152的材料相同。在一些实施例中,滤光体14的材料也可以与绿色色阻152的材料不同,只要滤光体14为绿色的材料即可。
可选的,绿色色阻152的厚度大于滤光体14的厚度。多个色阻15的厚度相同。其中,滤光体14的厚度小于绿色色阻152的厚度,促使黑色遮光体191和滤光体14堆叠位置的膜厚较薄,便于后续膜层的扩散,避免了后续膜层材料回流形成周边不均匀的情况。后续膜层可以是聚酰亚胺配向膜。
具体的,滤光体14和绿色色阻152可以采用一掩模板一次制成。其中掩模板包括对应于绿色色阻152的第一透光部分和对应于滤光体14的第二透光部分M。请参照图4,第二透光部分M包括依次平行排列的多个透光狭缝M1,相邻两个狭缝M1之间具有遮光条M2。
其中,遮光条M2的宽度为5微米,狭缝M1的宽度为2微米。这样的设置可以较大程度的减薄滤光体14,且不存在剥落的技术问题。
请参照图1,第一垫块16的厚度大于第二垫块17的厚度。第一垫块16由两块不同的色阻堆叠形成。第二垫块16由一块色阻形成。这样的设置使得主间隔柱193的高度高于辅间隔柱194的高度。
在一些实施例中,第一垫块16由三种色阻15中的一种色阻形成。第二垫块17由剩余的两种色阻15中的任一种形成。比如第一垫块16由蓝色色阻153的材料形成,第二垫块17由红色色阻151的材料形成。
请参照图5,在本申请第二实施例的阵列基板200中,阵列基板200包括基底21、信号线层22、保护层23、滤光体24、色阻25、第一垫块26、第二垫块27、平坦层28、黑色垫隔物层29。
本第二实施例的阵列基板200与第一实施例的阵列基板100的不同之处仅在于:滤光体24覆盖整个边框区NA。
本第二实施例的阵列基板200将滤光体24覆盖整个边框区NA,进一步降低了边框区NA的漏光程度。
请参照图6,本申请实施例还涉及一种显示面板1000,其包括阵列基板300、彩膜基板400、液晶500和框胶600。框胶600连接设置在阵列基板300和彩膜基板400之间的周沿。液晶500设置在阵列基板300和彩膜基板400之间。
其中,阵列基板300的结构分别第一实施例的阵列基板100或第二实施例的阵基列板200的结构相似或相同。具体请参照第一实施例的阵列基板100和第二实施例的阵列基板200的内容,此处不再赘述。
本申请的阵列基板及显示面板,在边框区上的第一信号线之间至少覆盖绿色的滤光体,以及在滤光体上叠加覆盖整个边框区的黑色遮光体,从而降低甚至避免了边框区的漏光概率。
具体地,背光的光线自下而上进入边框区时,经过绿色滤光体后过滤掉波段在400纳米左右的光,过滤后的光继续向上辐射至黑色遮光体,而至少绝大部分的光被黑色遮光体吸收,从而达到降低显示面板的边框区漏光的效果。
以上对本申请实施例所提供的一种阵列基板及显示面板进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种阵列基板,其包括显示区和边框区,所述边框区设置在所述显示区的周侧,其特征在于,所述阵列基板包括:
基底,所述基底覆盖所述边框区;
信号线层,所述信号线层设置在所述基底上,所述信号线层包括多条第一信号线,多条所述第一信号线设置在所述边框区;
保护层,所述保护层覆盖在所述信号线层上,且覆盖所述边框区;
滤光体,所述滤光体为绿色,所述滤光体设置在所述保护层上,且设置在所述边框区,所述滤光体至少覆盖在所述第一信号线之间;
平坦层,所述平坦层设置在所述滤光体上,且覆盖所述边框区;以及
黑色垫隔物层,所述黑色垫隔物层设置在所述平坦层上,所述黑色垫隔物层包括黑色遮光体,所述黑色遮光体覆盖整个所述边框区。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述滤光体覆盖整个所述边框区。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述滤光体间隔设置在所述第一信号线之间。
4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述黑色遮光体的厚度大于或等于2.0微米,所述滤光体的厚度大于等于1.5微米。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述黑色遮光体的厚度大于或等于2.5微米。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述基底还包括显示区,所述阵列基板还包括多个色阻,所述色阻设置在所述显示区,所述色阻与所述滤光体同层设置;
多个所述色阻包括绿色色阻,所述滤光体的材料和所述绿色色阻的材料相同。
7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述绿色色阻的厚度大于所述滤光体的厚度。
8.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述基底、所述信号线层、所述保护层、所述平坦层和所述黑色垫隔物层也覆盖所述显示区;
所述阵列基板还包括第一垫块和第二垫块,所述第一垫块、所述第二垫块与所述色阻同层设置,所述第一垫块和所述第二垫块分别设置在所述色阻之间;
所述黑色垫隔物层包括黑色矩阵、主间隔柱和辅间隔柱,所述黑色矩阵设置在多个所述色阻之间,所述主间隔柱和所述辅间隔柱均设置在所述黑色矩阵的区域上;
所述主间隔柱对应设置在所述第一垫块上,所述辅间隔柱对应设置在所述第二垫块上,所述第一垫块的厚度大于所述第二垫块的厚度。
9.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述信号线层为源漏金属层或栅极金属层。
10.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的阵列基板。
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