CN111430425B - 显示基板及其制备方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了显示基板及其制备方法和显示装置,该显示基板包括:基底;彩膜界定层,所述彩膜界定层设在所述基底的一侧,具有多个镂空区域,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;多个量子点彩膜,多个所述量子点彩膜一一对应的设在多个所述镂空区域中,厚度大于等于3微米。该显示基板中,彩膜界定层中的镂空区域深度较大,进而量子点彩膜的厚度也可以较厚,则量子点彩膜的色转换能够力较佳,显示效果较好。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体的,涉及显示基板及其制备方法和显示装置。
背景技术
一些有机发光显示装置中,需要在发光器件的上方设置量子点彩膜进行色转换,但目前打印工艺形成的量子点彩膜层色转换能力较低,显示装置的显示效果不是很理想。
因而,目前的量子点彩膜层的相关技术仍有待改进。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种具有量子点彩膜厚度较大、色转换能力好,不会损伤基底的显示基板。
在本发明的一个方面,本发明提供了一种显示基板。根据本发明的实施例,该显示基板包括:基底;彩膜界定层,所述彩膜界定层设在所述基底的一侧,具有多个镂空区域,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;多个量子点彩膜,多个所述量子点彩膜一一对应的设在多个所述镂空区域中,厚度大于等于3微米。该显示基板中,彩膜界定层中的镂空区域深度较大,进而量子点彩膜的厚度也可以较厚,则量子点彩膜的色转换能够力较佳,显示效果较好。
根据本发明的实施例,所述彩膜界定层包括:长度沿第二方向延伸且沿与所述第二方向交叉的第一方向间隔设置的多个第一子界定层,相邻的两个所述第一子界定层之间的间隙构成所述镂空区域;其中,所述第一子界定层远离所述基底的表面向远离所述基底的方向凸起。
根据本发明的实施例,每个所述第一子界定层包括:柔性应激层,所述柔性应激层设在所述基底的一侧,且在宽度方向上,所述柔性应激层中部向远离所述基底的方向拱起以形成穹顶状结构;刚性层,所述刚性层设在所述柔性应激层远离所述基底的表面上,且包括在所述第一方向上间隔设置的第一子刚性层和第二子刚性层,所述第一子刚性层和第二子刚性层分别位于所述柔性应激层宽度方向上的两侧。
根据本发明的实施例,所述柔性应激层的弹性模量小于1MPa,所述刚性层的弹性模量为大于10MPa。
根据本发明的实施例,所述柔性应激层和所述基底共同限定出一中空腔室。根据本发明的实施例,所述中空腔室的高度和所述第一子界定层的厚度的比大于2。
根据本发明的实施例,所述彩膜界定层的外表面为疏液表面。
根据本发明的实施例,所述第一子界定层还包括:第一疏液层,所述第一疏液层设在所述刚性层和/或所述柔性应激层远离所述基底的表面上。
根据本发明的实施例,所述第一疏液层、所述刚性层和所述柔性应激层共同限定出一容纳空间,所述容纳空间中设有柔性填充层。
根据本发明的实施例,该显示基板满足以下条件的至少之一:形成所述柔性应激层的材料包括凝胶材料,橡胶高分子,形状记忆材料,热塑性弹性体和填充菲尔德金属的多孔有机硅泡沫的至少一种;形成所述刚性层的材料包括银浆和低熔点金属中的至少一种;形成所述柔性填充层的材料包括凝胶材料,液态金属和橡胶中的只至少一种;所述柔性应激层的厚度为0.5μm~5μm;所述刚性层的厚度为0.1μm~2μm;所述柔性填充层的厚度为0.5μm~3μm;所述第一疏液层的厚度为10nm~1μm。
根据本发明的实施例,所述第一子界定层包括:颗粒堆叠层,所述颗粒堆叠层设在所述基底的一侧,其中,所述颗粒堆叠层向远离所述基底的方向凸起,其中,所述颗粒堆叠层向远离所述基底的方向凸起;第二疏液层,所述第二疏液层设在所述颗粒堆叠层的外表面上。
根据本发明的实施例,该显示基板满足以下条件的至少一种:形成所述颗粒堆叠层的材料为硅纳米颗粒;所述硅纳米颗粒的粒径为10nm~500nm;形成所述第二疏液层的材料为含氟有机物,所述含氟有机物包括氟化聚(甲基)丙烯酸酯和氟化聚酰亚氨中的至少一种;所述第二疏液层的厚度为10nm-1μm。
根据本发明的实施例,该显示基板满足以下条件的至少之一:所述第一子界定层的高宽比为0.1-1:1;所述镂空区域的宽度和所述第一子界定层的宽度的比为1-100:1。
根据本发明的实施例,所述彩膜界定层还包括:多个长度沿所述第一方向延伸且沿所述第二方向间隔设置的第二子界定层,每个所述第二子界定层长度方向上的两端分别与相邻的两个所述第一子界定层相连,以限定出多个镂空区域。
根据本发明的实施例,所述基底包括衬底和设在所述衬底上的发光器件层,所述发光器件包括发光层,所述发光层在所述像素界定层的侧壁上的攀爬高度不大于0.5微米。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备前面所述的显示基板的方法。根据本发明的实施例,该方法包括:所述基底的一侧形成具有多个镂空区域的彩膜界定层,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;在多个所述镂空区域中形成量子点彩膜。该方法可以方便、快速的制备获得厚度较厚的量子点彩膜,提高其色转换能力,进而提高显示效果,且不会对基底产生损伤。
根据本发明的实施例,所述彩膜界定层如前所述具有第一子界定层,且第一子界定层包括柔性应激层和刚性层,形成所述彩膜界定层中的第一子界定层的步骤包括:依次在所述基底的一侧形成柔性应激层和刚性层;对所述柔性应激层施加外部刺激,使得在宽度方向上所述柔性应激层中部向远离所述基底的方向拱起以形成穹顶状结构;任选地,所述外部刺激包括电场、磁场、光照和加热中的至少一种。
根据本发明的实施例,在形成所述柔性应激层之前,还包括:对待形成柔性应激层的表面进行表面处理,以在所述待形成柔性应激层的表面上形成亲液区域和疏液区域,所述柔性应激层在所述待形成柔性应激层的表面上的正投影与所述亲液区域重叠。
根据本发明的实施例,该方法还包括:对所述刚性层和/或所述柔性应激层远离的外表面进行疏液处理;或者在所述刚性层和/或所述柔性应激层的外表面上形成第一疏水层。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在所述第一疏液层、所述刚性层和所述柔性应激层共同限定的容纳空间中形成柔性填充层。
根据本发明的实施例,所述柔性应激层、所述刚性层、所述填充层和所述第一疏液层各自独立的通过涂覆、印刷和打印中的至少一种方法形成。
根据本发明的实施例,所述彩膜界定层包括第一子界定层,且第一子界定层包括颗粒堆叠层第二疏液层,形成所述彩膜界定层中的第一子界定层的步骤包括:在所述基底的一侧一步形成第一复合墨水层,所述第一复合墨水层包括颗粒堆叠墨水层和第一载液层,所述第一载液层包覆在所述颗粒堆叠墨水层未与待形成所述第一子界定层的表面相接触的外表面上;使所述第一复合墨水层进行减压干燥,去除所述颗粒堆叠墨水层中的溶剂和所述第一载液层,得到颗粒堆叠层;在所述颗粒堆叠层的外表面上形成第二疏液层。
根据本发明的实施例,该方法满足以下条件的至少一种:所述颗粒堆叠墨水层中的溶剂和所述第一载液层中的溶剂基本不互溶;所述颗粒堆叠墨水层中含有硅纳米颗粒和第一溶剂,所述第一溶剂为水系溶剂或醇系溶剂;所述第一载液层中含有有机芳香类溶剂。
根据本发明的实施例,所述第一复合墨水层是通过共同打印的方式一步形成的;所述第二疏液层是通过打印的方式形成的。
根据本发明的实施例,基底中设有发光器件结构层,该发光器件结构层包括发光层,形成所述发光层的步骤包括:在待形成所述发光层的表面上一步形成第二复合墨水层,所述第二复合墨水层包括发光墨水层和第二载液层,所述第二载液层包覆在所述发光墨水层未与待形成所述发光层的表面相接触的外表面上;使所述第二复合墨水层进行减压干燥,去除所述发光墨水层中的溶剂和所述第二载液层,得到所述发光层。
根据本发明的实施例,该方法满足以下条件的至少一种:所述发光墨水层中的溶剂和所述第二载液层中的溶剂基本不互溶;所述第二载液层与所述像素界定层侧壁之间的亲和力大于所述发光墨水层与所述像素界定层侧壁之间的亲和力;所述发光墨水层中含有发光材料和第二溶剂,所述第二载液层中含有第三溶剂,其中,所述第二溶剂和所述第三溶剂中的一种为大极性溶剂,另一种为小极性溶剂,所述大极性溶剂包括醇类溶剂,醚类溶剂和酯类溶剂中的至少一种,所述小极性溶剂包括芳香类有机溶剂。根据本发明的实施例,所述第二复合墨水层是通过共同打印的方式一步形成的。
在本发明的又一方面,本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例,该显示装置包括前面所述的显示基板。该显示装置中的量子点彩膜层具有较好的色转换能力,显示画面的颜色鲜艳,饱和度高,用户体验好。
附图说明
图1是本发明一个实施例中显示基板的剖面结构示意图。
图2是本发明一个实施例中彩膜界定层的平面结构示意图。
图3是本发明一个实施例中图2中沿A-A线的剖面结构示意图。
图4是本发明另一个实施例中图2中沿A-A线的剖面结构示意图。
图5是本发明另一个实施例中图2中沿A-A线的剖面结构示意图。
图6是本发明另一个实施例中图2中沿A-A线的剖面结构示意图。
图7是本发明另一个实施例中图2中沿A-A线的剖面结构示意图。
图8是本发明另一个实施例中图2中沿A-A线的剖面结构示意图。
图9是本发明一个实施例中的咖啡环效应的原理示意图。
图10是本发明一个实施例中的制备第一子界定层的方法的流程示意图。
图11是本发明一个实施例中形成第一复合墨水层的示意图。
图12是本发明另一个实施例中的制备第一子界定层的方法的流程示意图。
图13是本发明另一个实施例中彩膜界定层的平面结构示意图。
具体实施方式
本发明是基于发明人的以下认识和发现而完成的:
目前采用打印量子点彩膜的显示装置中,光利用率较低,显示效果欠佳,发明人研究发现,主要原因之一是由于量子点的吸光度较低,色转换能力较低,而目前制备对墨水容纳和限定作用的彩膜界定层的工艺和材料只能满足小于2微米厚度的彩膜界定层的制备,则制备得到的量子点彩膜的厚度较小,使其色转换能力不理想。发明人进一步研究后发现,如需要达到较好的色转换能力,量子点彩膜的厚度一般需要大于等于3微米,因而如果能够制备得到具有较大深度镂空区域的彩膜界定层,则可以明显提高量子点彩膜的色转换能力,进而提高显示装置的显示效果。尤其是当该彩膜界定层需要在OLED发光器件层上直接制作时,如果能够保证彩膜界定层的制备工艺对发光器件性能不造成大的伤害,则可进一步扩展量子点彩膜的应用范围。针对发明人发现的上述问题,经过深入探索和研究后,发明人提出了一种能够上述厚度量子点彩膜层的技术方案。
有鉴于此,在本发明的一个方面,本发明提供了一种显示基板。根据本发明的实施例,参照图1,该显示基板包括:基底10;彩膜界定层20,所述彩膜界定层20设在所述基底10的一侧,具有多个镂空区域21,且多个所述镂空区域21的深度H1大于等于3微米;多个量子点彩膜30,多个所述量子点彩膜30一一对应的设在多个所述镂空区域21中,厚度H2大于等于3微米。该显示基板中,彩膜界定层中的镂空区域深度较大,进而量子点彩膜的厚度也可以较厚,则量子点彩膜的色转换能够力较佳,显示效果较好。
一些具体实施例,上述镂空区域的深度H1可以大于等于6微米,另一些具体实施例中,上述镂空区域的深度H1可以大于等于10微米,又一些实施例中,上述镂空区域的深度H1可以为3~15微米,具体如3微米、4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、9微米、10微米、11微米、12微米、13微米、14微米、15微米等。
根据本发明的实施例,该显示基板中的基底的具体结构没有特别限制,可以根据实际需要灵活选择。一些具体实施例中,参照图8,基底可以包括衬底11和设在衬底上的发光器件结构层13,其中,发光器件结构层13可以包括像素界定层131和多个发光器件132,像素界定层131限定出多个子像素开口中,多个发光器件132一一对应的设在子像素开口中。具体的,发光器件132可以包括阳极1321、发光层1322和阴极1323。进一步的,为了更好地保护发光器件,发光器件结构层中还可以包括设在像素界定层和发光器件远离衬底一侧的保护层133,具体可以为封装薄膜等。另外,可以理解,衬底11和发光器件结构层13之间还可以设有用于驱动和控制发光器件发光的电路结构层12,具有可以包括薄膜晶体管阵列和必要的走线等,在此不再过多赘述。
可以理解,显示基板上设有多个间隔设置且颜色不同的子像素,而每个子像素中,子像素的发光颜色和量子点彩膜的颜色需要相同,由此,量子点彩膜需要根据不同颜色的子像素的排布方式设置。
一些具体实施例中,相同颜色的子像素成行或者成列分布,而相邻两行或者两列子像素的颜色不同,此时,每行或者每列的量子点彩膜颜色也相同,此时,与每行或者每列子像素对应的量子点彩膜可以为一体结构,即一个量子点彩膜与一行或者一列子像素对应设置,相应的,彩膜界定层中的每个镂空区域也与一行或者一列子像素对应设置,从而,参照图2,所述彩膜界定层20包括:长度沿第二方向延伸且沿与第二方向交叉的第一方向间隔设置的多个第一子界定层22,相邻的两个所述第一子界定层22之间的间隙构成所述镂空区域21;其中,所述第一子界定层22远离所述基底10的表面向远离所述基底10的方向凸起。由此,可以大幅增加镂空区域的深度,进而实现大厚度的量子点彩膜。
根据本发明的一些实施例,参照图3,每个所述第一子界定层22包括:柔性应激层221,所述柔性应激层221设在所述基底10的一侧,且在宽度方向上,所述柔性应激层221中部向远离所述基底10的方向拱起以形成穹顶状结构;刚性层222,所述刚性层222设在所述柔性应激层221远离所述基底10的表面上,且包括在所述第一方向上间隔设置的第一子刚性层2221和第二子刚性层2222,所述第一子刚性层2221和第二子刚性层2222分别位于所述柔性应激层221宽度方向上的两侧。该结构中,可以先形成平整的柔性应激层和刚性层,然后对柔性应激层施加外部刺激,使其发生变形弯曲,形成向远离基底方向拱起的穹顶状结构,而刚性层一方面可以用于为柔性应激层提供外部刺激,同时也可以更好的控制柔性应激层的拱起方向,得到目标形状,不仅制备工艺简单,条件温和,不会对基底上的发光器件产生损伤,同时能够实现厚度较大的量子点彩膜。
根据本发明的实施例,为了获得更好的变形效果,柔性应激层具有较小的弹性模量,而刚性层具有较大的弹性模量。一些具体实施例中,所述柔性应激层的弹性模量小于1MPa(具体如0.9MPa、0.8MPa、0.7MPa、0.6MPa、0.5MPa、0.4MPa、0.3MPa、0.2MPa、0.1MPa等),所述刚性层的弹性模量大于10MPa(具体如11MPa、12MPa、13MPa、14MPa、15MPa、16MPa、17MPa、18MPa、19MPa、20MPa等)。一个具体实施例中,刚性层的弹性模量为16MPa,柔性应激层的弹性模量为0.162MPa。
根据本发明的实施例,参照图3,第一子界定层向远离基底的方向凸起可以是通过柔性应激层拱变形形成的,此时所述柔性应激层22和所述基底10共同限定出一中空腔室25。一些具体实施例中,所述中空腔室的高度H3和所述第一子界定层的厚度D的比值大于2,例如为2~5,具体如2.1、2.2.2.3、2.4、2.5、2.6、2.7、2.8、2.9、3、3.5、4、4.5、5等。其中,需要说明的是,当第一子界定层不同位置的厚度不同时,此处第一子界定层的厚度D为第一子界定层的平均厚度。
根据本发明的实施例,为了保证较好的变形能力,柔性应激层为整层结构,而刚性层可以由间隔的第一子刚性层和第二子刚性层构成(参照图3);也可以为整层结构,且在宽度方向上该刚性层的两侧的厚度大于中间的厚度,且厚度较大的部分构成第一子刚性层和第二子刚性层(参照图4)。
根据本发明的实施例,为了更好地容纳形成量子点彩膜的墨水,所述彩膜界定层的外表面为疏液表面。由此,可以更好的引导墨水进入镂空区域,避免不同颜色的墨水串扰。一些具体实施例中,可以直接对彩膜界定层的外表面进行疏液处理,如光照、温度等处理,使得材料亲疏液性质改变为疏液性质,此时不需要形成额外的层结构。另一些具体实施例中,可以通过形成单独的疏液层使得彩膜界定层的外表面构成疏液表面,此时,参照图5,所述第一子界定层22还包括:第一疏液层223,所述第一疏液层223设在所述刚性层223和/或所述柔性应激层221远离所述基底10的表面上。
根据本发明的实施例,参照图6,所述第一疏液层223、所述刚性层222和所述柔性应激层221共同限定出一容纳空间224,所述容纳空间224中设有柔性填充层225。由此,可以使得彩膜界定层的外表面形成比较光滑和平整的表面。
根据本发明的实施例,形成柔性应激层的材料需要能够在外部刺激作用下发生形变,以向远离基底的方向拱起,具体的,形成所述柔性应激层的材料包括凝胶材料,也可以包括橡胶高分子,形状记忆材料,热塑性弹性体和填充菲尔德金属(铋、铟和锡的合金,熔点约为62摄氏度)的多孔有机硅泡沫中的至少一种。其中,菲尔德金属不含铅,具有良好的生物相容性和安全性,而多孔有机硅泡沫能够产生高度形变,将菲尔德金属注入多孔有机硅泡沫内部形成的柔性应激层,可以在低温条件下、电场刺激作用下发生形变,得到目标形状的彩膜界定层。
根据本发明的实施例,形成所述刚性层的材料可以包括银浆和低熔点金属(可以为熔点100摄氏度以下的金属)中的至少一种,具体可以为镓-铟合金等。一些具体实施例中,刚性层的材料为导电材料,配合对电场相应的柔性应激层,则可以通过给刚性层加电,刺激柔性应激层发生形变。
根据本发明的实施例,柔性填充层主要起到填充柔性应激层和疏水层之间的间隙的作用,其基本可以满足变形的要求即可。一些具体实施中,柔性填充层的材料可以与形成柔性应激层的材料相同,在此不再一一赘述。另一些实施例中,柔性填充层可以与柔性应激层一体成型。
根据本发明的实施例,形成第一疏液层的材料需要具有较好的疏液性能,一些具体实施例中,可以为含氟、低表面能的物质,具体可以为含氟有机物,所述含氟有机物包括氟化聚(甲基)丙烯酸酯和氟化聚酰亚氨中的至少一种。
根据本发明的实施例,彩膜界定层的厚度可能会影响柔性应激层的变形能力,一些具体实施例中,所述柔性应激层的厚度为0.5μm~5μm(具体如0.5μm、1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、5μm等);所述刚性层的厚度为0.1μm~2μm(具体如0.1μm、0.2μm、0.5μm、0.8μm、1μm、1.2μm、1.5μm、1.8μm、2μm等);所述柔性填充层的厚度为0.5μm~3μm(具体如0.1μm、0.2μm、0.5μm、0.8μm、1μm、1.2μm、1.5μm、1.8μm、2μm、2.2μm、2.5μm、2.8μm、3μm等);所述第一疏液层的厚度为10nm~1μm(具体如10nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm等)。
根据本发明的另一些实施例,参照图7,所述第一子界定层22包括:颗粒堆叠层226,所述颗粒堆叠层226设在所述基底10的一侧;第二疏液层227,所述第二疏液层227设在所述颗粒堆叠层226的外表面上,其中,所述颗粒堆叠层226向远离所述基底10的方向凸起。通过颗粒堆叠形成凸起,可以有效加深镂空区域的深度,进而实现大厚度的彩膜界定层。另外,颗粒堆叠层可以通过打印的方式形成,操作简单,条件温和,不会损伤基底,尤其是基底中设有发光器件时,不会对发光器件造成。
根据本发明的实施例,形成所述颗粒堆叠层的材料为硅纳米颗粒。由此,其具有较低的放气性和稳定性,并且其易分散在极性溶剂中,比如水性或醇类溶剂中形成墨水,便于通过打印技术形成颗粒堆叠层。具体的,所述硅纳米颗粒的粒径为10nm~500nm,具体可以为50~200nm,如50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm、120nm、130nm、140nm、150nm、160nm、170nm、180nm、190nm、200nm等。在该粒径范围内,堆叠效果较好,如果粒径范围过大,堆叠的致密度不高,笔墨安眠轮廓较粗糙。
根据本发明的实施例,形成所述第二疏液层的材料可以为含氟且低表面能的材料,具体可以为含氟的聚合物材料,具体如分子侧链或主链上包括氟分子的聚合物材料。一些具体实施例中,形成所述第二疏液层的材料可以为氟化聚(甲基)丙烯酸酯和氟化的聚酰亚氨中的至少一种。
根据本发明的实施例,所述第二疏液层的厚度为10nm-1μm(具体如10nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm等)。
根据本发明的实施例,所述第一子界定层的高宽比H1/W1为0.1-1:1(具体如0.1:1、0.2:1、0.3:1、0.4:1、0.5:1、0.6:1、0.7:1、0.8:1、0.9:1、1:1等);所述镂空区域的宽度和所述第一子界定层的宽度的比d1/d2为1-100:1(具体如1:1、10:1、20:1、30:1、40:1、50:1、60:1、70:1、80:1、90:1、100:1等)。由此,可以实现较大的开口率,利于提高显示效果。
可以理解,除了上述相同颜色子像素成行或者成列分布的情况,不同颜色的子像素也可以采用其他异性或者错位的排布方式,具体以pentile排布方式为例说明,参照图13,彩膜界定层包括多个上述第一子界定层22和多个长度沿第一方向延伸且沿第二方向间隔设置的第二子界定层23,每个所述第二子界定层23长度方向上的两端分别与相邻的两个所述第一子界定层22相连,以限定出多个镂空区域21。其中,第二子界定层可以与前面所述的第一子界定层一致,在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例,如前所述,参照图8,基底10中可以设有发光器件结构层13,所述发光器件包括发光层1322,所述发光层1322在所述像素界定层131的侧壁上的攀爬高度H4不大于0.5微米,具体如0.5微米、0.4微米、0.3微米、0.2微米、0.1微米、0微米等。需要说明的是,发光层在制备过程中在与像素界定层接触的部分会向像素界定层的侧壁上攀爬,从而使得得到的发光层与像素界定层接触的部分厚度较大,而其他部分厚度较小,导致膜厚不均匀,而发光层与像素界定层接触的部分的厚度与其他部分的厚度之间的差值,即为发光层在像素界定层的侧壁上的攀爬高度。而本发明中攀爬高度较小,发光层的膜厚更加均匀。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备前面所述的显示基板的方法。根据本发明的实施例,该方法包括:所述基底的一侧形成具有多个镂空区域的彩膜界定层,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;在多个所述镂空区域中形成量子点彩膜。该方法可以方便、快速的制备获得厚度较厚的量子点彩膜,提高其色转换能力,进而提高显示效果,且不会对基底产生损伤。
根据本发明的实施例,所述彩膜界定层如前所述具有第一子界定层,且第一子界定层包括柔性应激层和刚性层,此时,形成所述彩膜界定层中的第一子界定层的步骤可以包括:依次在基底的一侧形成柔性应激层和刚性层;对所述柔性应激层施加外部刺激,使得在宽度方向上所述柔性应激层中部向远离所述基底的方向拱起以形成穹顶状结构。该步骤中通过诱导柔性应激层变形而增加彩膜界定层的厚度,进而形成深度较深的镂空区域,以制备厚度较大的量子点彩膜。
根据本发明的实施例,柔性应激层和刚性层均可以通过打印、印刷、涂覆墨水等方式形成,具体可以在相应位置形成墨水层,然后再经过干燥等方式得到柔性应激层或刚性层。由此,彩膜界定层制备工艺中,不需要曝光、显影和刻蚀的操作,也不需要高温工艺步骤,在实现厚度较大的量子点彩膜的同时,也不会对基底,尤其是基底中的发光器件产生损伤。
一些具体实施例中,刚性层可以仅由间隔设置的第一子刚性层和第二子刚性层形成,此时,可以形成间隔的刚性层墨水层,然后干燥形成第一子刚性层和第二子刚性层。另一些具体实施例中,刚性层可以为中间薄、两侧厚的整层结构,此时可以形成整层的刚性层墨水层,然后在墨水干燥成膜过程中控制咖啡环效应,得到中间薄、两侧厚的整层刚性层。
其中,墨水干燥形成咖啡环现象的过程即原理如下:参照图9,当墨水滴落后,由于墨水层形状的原因,墨水层中体积/单位面积比较小的中心部分与体积/单位面积比较大的边缘部分的蒸发速率不同,所以墨水层的边缘部分干燥速率更快。随着墨水层边缘部分溶剂的不断挥发,中心部分和边缘部分的固含量分布变得不同,存在一个浓度梯度差,从而引起溶剂从中心部分向边缘部分的补偿流动现象,溶剂的这种流动势必会带动部分溶质也向边缘部分迁移,从而导致边缘部分的溶质的量不断增加,同时液滴内部还存在一个逆向的Marangoni流动现象(马兰戈尼流),最终薄膜的干燥形貌是这两种微流动效应共同决定的效果,导致咖啡环效应的形成。而咖啡环效应的强弱可以通过墨水中溶剂和溶质的表面张力、非定、挥发速率、干燥温度等进行调节,具体可以根据实际需要灵活调整,在此不再一一详述。
根据本发明的实施例,柔性应激层只要能够在合适的外部刺激作用下发生目标变形即可,其具体材料种类可以根据实际需要进行选择,根据柔性应激层采用的具体材料,对其采用的外部刺激可以包括电场、磁场、光照和加热中的至少一种。
根据本发明的实施例,在形成所述柔性应激层之前,该方法还包括:对待形成柔性应激层的表面进行表面处理,以在所述待形成柔性应激层的表面上形成亲液区域和疏液区域,所述柔性应激层在所述待形成柔性应激层的表面上的正投影与所述亲液区域重叠。由此,利于柔性应激层的变形,同时可以使得容纳量子点墨水的区域具有疏液的表面,更利于量子点彩膜的制备。
根据本发明的实施例,形成亲液区域和疏液区域的具体方法没有特别限制,可以根据形成柔性应激层的表面性质进行选择。具体的,如果待形成柔性应激层的表面固有疏液性质,则只需要对预定区域进行亲液处理即可,具体可根据待形成柔性应激层的表面的材料种类通过光照(如紫外关照)、或者在相应区域的表面涂覆亲液材料层等方式形成亲液区域;如果待形成柔性应激层的表面固有亲液性质,则只需要对预定区域进行疏液处理即可,具体操作方式与上述亲液处理类似,在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例,该方法还包括:对所述刚性层和/或所述柔性应激层的外表面进行疏液处理;或者在所述刚性层和/或所述柔性应激层的外表面上形成第一疏水层。具体的,具有疏液的表面更加利于后续量子点彩膜的制备,因此可以通过一定方式对第一子界定层的外表面处理为疏液表面,上述疏液处理可以是对刚性层和/或柔性应激层的外表面直接进行改性处理(如光照等),不需要形成额外的层结构,而第一疏水层则是另外形成一层疏液层结构。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在所述第一疏液层、所述刚性层和所述柔性应激层共同限定的容纳空间中形成柔性填充层。具体的,由于刚性层在宽度方向上的两侧厚度较大,形成刚性层后,第一子界定层的外表面并不是平整的表面,此时可以在刚性层厚度较薄或者未形成刚性层的柔性应激层的外表面上形成柔性填充层,可选的,柔性填充层远离基底的表面与刚性层中的第一子刚性层和第二子刚性层远离基底的表面平齐。
根据本发明的实施例,柔性填充层可以通过涂覆、印刷和打印中的至少一种方法形成。由此,彩膜界定层制备工艺中,不需要曝光、显影和刻蚀的操作,也不需要高温工艺步骤,在实现厚度较大的量子点彩膜的同时,也不会对基底,尤其是基底中的发光器件产生损伤。
在一些具体实施例中,参照图10,可以通过以下步骤形成第一子界定层:在包括EL器件的基底101上,采取表面处理的方式,分别形成亲液区域1011和疏液区域1012;再利用印刷等涂覆方式在亲液区域1011上涂覆柔性应激层墨水2011,经过减压干燥后形成柔性应激层201,接着在柔性应激层201上,利用打印等方式打印刚性层的墨水,通过控制咖啡环效应,使得干燥的墨水决大部分均在201的两端边缘部分,形成刚性材料层301,然后在其上依次填充柔性填充层401,并形成第一疏液层501,使得表面呈现疏液特性,然后再在外部刺激条件下,诱导应激层弯曲变形,形成穹顶状结构。
根据本发明的一些实施例,所述彩膜界定层包括第一子界定层,且第一子界定层包括颗粒堆叠层第二疏液层,此时,形成所述彩膜界定层中的第一子界定层的步骤可以包括:在所述基底的一侧一步形成第一复合墨水层,所述第一复合墨水层包括颗粒堆叠墨水层和第一载液层,所述第一载液层包覆在所述颗粒堆叠墨水层未与待形成所述第一子界定层的表面相接触的外表面上;使所述第一复合墨水层进行减压干燥,去除所述颗粒堆叠墨水层中的溶剂和所述第一载液层,得到颗粒堆叠层;在所述颗粒堆叠层的外表面上形成第二疏液层。该方法中,不仅可以形成厚度较大的彩膜界定层,且步骤简单,条件温和,不需要曝光、显影、刻蚀和高温等可能会损害基底的工序。
根据本发明的实施例,第一复合墨水层可以通过共同打印的方式一步形成。具体的,参照图11,采用包含第一载液的共同打印方式,其喷头包括两部分,一部分为输运第一载液,另一部分为输运颗粒堆叠墨水,按照图中喷头上方的箭头所示方向移动,其中,第一载液与颗粒堆叠墨水的溶剂具有较大的极性差异,即基本不互溶(如可以极性差异大于3等)。一些具体实施例中,所述颗粒堆叠墨水层中含有硅纳米颗粒和第一溶剂,所述第一溶剂为水系溶剂或醇系溶剂;所述第一载液层中含有有机芳香类溶剂,而颗粒堆叠墨水层中的溶剂为水系或醇系。由于水或醇与有机芳香类溶剂完全不互溶,所以颗粒堆叠墨水层在载液层中呈现团聚类球体形状,在打印完成后进行减压干燥,由于马兰戈尼效应和钉扎效应导致颗粒堆叠墨水层中的堆叠颗粒逐层堆积,由于其外围载液层的限制作用,所以其只能向上堆积,即可以达到较高的高度。
根据本发明的实施例,所述第二疏液层是通过打印的方式形成的。具体的,可以在上述形成的颗粒堆叠层的外表面上打印第二疏液层墨水,然后经过减压干燥,得到第二疏液层。
一些具体实施例中,参照图12,可以通过以下步骤形成第一子界定层:首先利用上述的共同打印的方式在基底上形成条状的第一复合墨水层,并在真空下进行减压干燥,其中,颗粒堆叠墨水层含有硅纳米颗粒和水,第一载液层含有有机芳香类溶剂。由于水与有机芳香类完全不互溶,所以颗粒堆叠墨水层在第一载液中呈现团聚类球体形状,而减压干燥过程中,由于马兰戈尼效应和钉扎效应会导致硅基纳米颗粒逐层堆积,由于其外围第一载液层的限制作用,所以其只能向上堆积,得到高度较高的颗粒堆叠层(或称纳米颗粒线性堆栈),然后再在如上形成的硅基纳米颗粒线性堆栈上,打印少量的聚合物修饰层墨水,由于纳米颗粒的钉扎效应,导致这些聚合物修饰层墨水会主动吸附到其表面。同时由于纳米颗粒线性堆栈间的空隙,也有利于聚合物修饰层墨水往内部渗透,进而增强其粘附力,在通过减压干燥使聚合物修饰层墨水在纳米颗粒层表面形成第二疏液层。使用本发明的上述方法,不需要曝光显影等容易对发光器件特性造成影响的工艺步骤,同时选择的无机硅基纳米颗粒具有很好的稳定性(即低的放气率),以及采用的双重液滴所具有自限效应导致其内层结构与固体基底的接触面积很小,即可以在纵向上堆积的较高,从而满足高的打印量子点彩膜所需的彩膜界定层结构。
根据本发明的实施例,基底中设有发光器件结构层,该发光器件结构层包括发光层,形成所述发光层的步骤可以包括:在待形成所述发光层的表面上一步形成第二复合墨水层,所述第二复合墨水层包括发光墨水层和第二载液层,所述第二载液层包覆在所述发光墨水层未与待形成所述发光层的表面相接触的外表面上;使所述第二复合墨水层进行减压干燥,去除所述发光墨水层中的溶剂和所述第二载液层,得到所述发光层。具体的,形成第二复合墨水层的步骤和远离均与形成第一复合墨水层相同,在此不再一一赘述。如前所述,第二载液层可以限制发光墨水层的形状,从而可以限制发光墨水向像素界定层的侧壁上攀爬,有效减小攀爬高度,提高发光层的均一性。
可以理解,第二复合墨水层中发光墨水层中的溶剂和第二载液层基本不互溶,一些具体实施例中,所述发光墨水层中含有发光材料和第二溶剂,所述第二载液层中含有第三溶剂,其中,所述第二溶剂和所述第三溶剂中的一种为大极性溶剂,另一种为小极性溶剂,所述大极性溶剂包括醇类溶剂,醚类溶剂和酯类溶剂中的至少一种,所述小极性溶剂包括芳香类有机溶剂。具体的,可以根据发光材料的种类选择第二溶剂和第三溶剂的具体种类,如果发光材料易溶于极性较大的溶剂,则第二溶剂选择大极性溶剂,如果发光材料易溶于小极性溶剂,则第二溶剂选择消极性溶剂,而具体的发光材料可以按照发光颜色选择常用的发光材料,在此不再一一详述。
另一些具体实施例中,所述第二载液层与所述像素界定层的侧壁之间的亲和力大于所述发光墨水层与所述像素界定层之间的亲和力。由此,在亲和力的作用下,第二载液层更易于与像素界定层相接触,而发光墨水层则相对更难向像素界定层攀爬,从而可以进一步提高发光层的均一性。
在本发明的又一方面,本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例,该显示装置包括前面所述的显示基板。该显示装置中的量子点彩膜层具有较好的色转换能力,显示画面的颜色鲜艳,饱和度高,用户体验好。
根据本发明的实施例,该显示装置的具体种类没有特别限制,例如包括但不限于手机、电视、计算机显示器、广告显示屏幕、游戏机、可穿戴设备等。可以理解,除了前面所述的显示基板,该显示装置还包括常规显示装置必要的结构和部件,例如触控组件、壳体、储存器等等,均可参照常规技术进行,在此不再一一描述。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (26)
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
基底;
彩膜界定层,所述彩膜界定层设在所述基底的一侧,具有多个镂空区域,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;
多个量子点彩膜,多个所述量子点彩膜一一对应的设在多个所述镂空区域中,厚度大于等于3微米,
所述彩膜界定层包括:
长度沿第二方向延伸且沿与所述第二方向交叉的第一方向间隔设置的多个第一子界定层,相邻的两个所述第一子界定层之间的间隙构成所述镂空区域;
其中,所述第一子界定层远离所述基底的表面向远离所述基底的方向凸起,
每个所述第一子界定层包括:
柔性应激层,所述柔性应激层设在所述基底的一侧,且在宽度方向上,所述柔性应激层中部向远离所述基底的方向拱起以形成穹顶状结构;
刚性层,所述刚性层设在所述柔性应激层远离所述基底的表面上,且包括在所述第一方向上间隔设置的第一子刚性层和第二子刚性层,所述第一子刚性层和第二子刚性层分别位于所述柔性应激层宽度方向上的两侧。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述柔性应激层的弹性模量小于1MPa,所述刚性层的弹性模量大于10 MPa。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述柔性应激层和所述基底共同限定出一中空腔室。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述中空腔室的高度和所述第一子界定层的厚度的比值大于2。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述彩膜界定层的外表面为疏液表面。
6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一子界定层还包括:
第一疏液层,所述第一疏液层设在所述刚性层和/或所述柔性应激层远离所述基底的表面上。
7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,所述第一疏液层、所述刚性层和所述柔性应激层共同限定出一容纳空间,所述容纳空间中设有柔性填充层。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,满足以下条件的至少之一:
形成所述柔性应激层的材料包括凝胶材料,橡胶高分子,形状记忆材料,热塑性弹性体和填充菲尔德金属的多孔有机硅泡沫中的至少一种;
形成所述刚性层的材料包括银浆和低熔点金属中的至少一种;
形成所述柔性填充层的材料包括凝胶材料,液态金属和橡胶中的只至少一种;
所述柔性应激层的厚度为0.5μm~5μm;
所述刚性层的厚度为0.1μm~2μm;
所述柔性填充层的厚度为0.5μm~3μm;
所述第一疏液层的厚度为10nm~1μm。
9.一种显示基板,其特征在于,包括:
基底;
彩膜界定层,所述彩膜界定层设在所述基底的一侧,具有多个镂空区域,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;
多个量子点彩膜,多个所述量子点彩膜一一对应的设在多个所述镂空区域中,厚度大于等于3微米,
所述彩膜界定层包括:长度沿第二方向延伸且沿与所述第二方向交叉的第一方向间隔设置的多个第一子界定层,相邻的两个所述第一子界定层之间的间隙构成所述镂空区域;其中,所述第一子界定层远离所述基底的表面向远离所述基底的方向凸起,
所述第一子界定层包括:
颗粒堆叠层,所述颗粒堆叠层设在所述基底的一侧,其中,所述颗粒堆叠层向远离所述基底的方向凸起,其中,所述颗粒堆叠层向远离所述基底的方向凸起;
第二疏液层,所述第二疏液层设在所述颗粒堆叠层的外表面上。
10.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,满足以下条件的至少一种:
形成所述颗粒堆叠层的材料为硅纳米颗粒;
所述硅纳米颗粒的粒径为10nm~500nm;
形成所述第二疏液层的材料为含氟有机物,所述含氟有机物包括氟化聚(甲基)丙烯酸酯和氟化聚酰亚氨中的至少一种;
所述第二疏液层的厚度为10nm-1μm。
11.根据权利要求2-10中任一项所述的显示基板,其特征在于,满足以下条件的至少之一:
所述第一子界定层的高宽比为0.1-1:1;
所述镂空区域的宽度和所述第一子界定层的宽度的比为1-100:1。
12.根据权利要求2-10中任一项所述的显示基板,其特征在于,所述彩膜界定层还包括:
多个长度沿所述第一方向延伸且沿所述第二方向间隔设置的第二子界定层,每个所述第二子界定层长度方向上的两端分别与相邻的两个所述第一子界定层相连,以限定出多个镂空区域。
13.根据权利要求2-10中任一项所述的显示基板,其特征在于,所述基底包括衬底和设在所述衬底上的发光器件层,所述发光器件包括发光层,所述发光层在像素界定层的侧壁上的攀爬高度不大于0.5微米。
14.一种制备权利要求1-8中任一项所述的显示基板的方法,其特征在于,包括:
在基底的一侧形成具有多个镂空区域的彩膜界定层,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;
在多个所述镂空区域中形成量子点彩膜,
所述彩膜界定层包括:长度沿所述第二方向延伸且沿与所述第二方向交叉的第一方向间隔设置的多个第一子界定层,相邻的两个所述第一子界定层之间的间隙构成所述镂空区域;其中,所述第一子界定层远离所述基底的表面向远离所述基底的方向凸起,形成所述彩膜界定层中的第一子界定层的步骤包括:
依次在所述基底的一侧形成柔性应激层和刚性层;
对所述柔性应激层施加外部刺激,使得在宽度方向上所述柔性应激层中部向远离所述基底的方向拱起以形成穹顶状结构。
15.根据权利要求14所述的方法,其特征在于,所述外部刺激包括电场、磁场、光照和加热中的至少一种。
16.根据权利要求14所述的方法,其特征在于,在形成所述柔性应激层之前,还包括:
对待形成柔性应激层的表面进行表面处理,以在所述待形成柔性应激层的表面上形成亲液区域和疏液区域,所述柔性应激层在所述待形成柔性应激层的表面上的正投影与所述亲液区域重叠。
17.根据权利要求14所述的方法,其特征在于,还包括:
对所述刚性层和/或所述柔性应激层远离的外表面进行疏液处理;或者
在所述刚性层和/或所述柔性应激层的外表面上形成第一疏液层。
18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,还包括:
在所述第一疏液层、所述刚性层和所述柔性应激层共同限定的容纳空间中形成柔性填充层。
19.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,所述柔性应激层、所述刚性层、所述填充层和所述第一疏液层各自独立的通过涂覆、印刷和打印中的至少一种方法形成。
20.一种制备权利要求9-13中任一项所述的显示基板的方法,其特征在于,包括:
在基底的一侧形成具有多个镂空区域的彩膜界定层,且多个所述镂空区域的深度大于等于3微米;
在多个所述镂空区域中形成量子点彩膜,
所述彩膜界定层包括:长度沿所述第二方向延伸且沿与所述第二方向交叉的第一方向间隔设置的多个第一子界定层,相邻的两个所述第一子界定层之间的间隙构成所述镂空区域;其中,所述第一子界定层远离所述基底的表面向远离所述基底的方向凸起,形成所述彩膜界定层中的第一子界定层的步骤包括:
在所述基底的一侧一步形成第一复合墨水层,所述第一复合墨水层包括颗粒堆叠墨水层和第一载液层,所述第一载液层包覆在所述颗粒堆叠墨水层未与待形成所述第一子界定层的表面相接触的外表面上;
使所述第一复合墨水层进行减压干燥,去除所述颗粒堆叠墨水层中的溶剂和所述第一载液层,得到颗粒堆叠层;
在所述颗粒堆叠层的外表面上形成第二疏液层。
21.根据权利要求20所述的方法,其特征在于,满足以下条件的至少一种:
所述颗粒堆叠墨水层中的溶剂和所述第一载液层中的溶剂基本不互溶;
所述颗粒堆叠墨水层中含有硅纳米颗粒和第一溶剂,所述第一溶剂为水系溶剂或醇系溶剂;
所述第一载液层中含有有机芳香类溶剂。
22.根据权利要求20所述的方法,其特征在于,所述第一复合墨水层是通过共同打印的方式一步形成的;
所述第二疏液层是通过打印的方式形成的。
23.根据权利要求14~22中任一项所述的方法,其特征在于,所述基底包括衬底和设在所述衬底上的发光器件层,所述发光器件层包括发光层,形成所述发光层的步骤包括:
在待形成所述发光层的表面上一步形成第二复合墨水层,所述第二复合墨水层包括发光墨水层和第二载液层,所述第二载液层包覆在所述发光墨水层未与待形成所述发光层的表面相接触的外表面上;
使所述第二复合墨水层进行减压干燥,去除所述发光墨水层中的溶剂和所述第二载液层,得到所述发光层。
24.根据权利要求23所述的方法,其特征在于,满足以下条件的至少一种:
所述发光墨水层中的溶剂和所述第二载液层中的溶剂基本不互溶;
所述第二载液层与像素界定层侧壁之间的亲和力大于所述发光墨水层与所述像素界定层侧壁之间的亲和力;
所述发光墨水层中含有发光材料和第二溶剂,所述第二载液层中含有第三溶剂,其中,所述第二溶剂和所述第三溶剂中的一种为大极性溶剂,另一种为小极性溶剂,所述大极性溶剂包括醇类溶剂,醚类溶剂和酯类溶剂中的至少一种,所述小极性溶剂包括芳香类有机溶剂。
25.根据权利要求23所述的方法,其特征在于,所述第二复合墨水层是通过共同打印的方式一步形成的。
26.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~13中任一项所述的显示基板。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111430425A CN111430425A (zh) | 2020-07-17 |
CN111430425B true CN111430425B (zh) | 2023-04-18 |
Family
ID=71557844
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010260693.3A Active CN111430425B (zh) | 2020-04-03 | 2020-04-03 | 显示基板及其制备方法和显示装置 |
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Country | Link |
---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
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CN111430425A (zh) | 2020-07-17 |
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