CN111415960B - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及显示装置。包括以矩阵布置的多个像素的显示装置包括衬底、第一阳极和不透明导电层，其中，第一阳极设置在衬底上，不透明导电层设置在衬底与第一阳极之间，其中，多个像素包括开口像素，开口像素包括第一阳极布置区域、针孔区域和第一阳极未布置区域，其中，针孔区域位于第一阳极布置区域内并由第一阳极围绕，第一阳极未布置区域包括位于第一阳极外部的暴露区域，并且不透明导电层完全覆盖暴露区域，并至少部分暴露针孔区域。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年1月4日提交的第10-2019-0001284号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请出于所有目的通过引用并入本文，就好像在本文中全面阐述那样。
技术领域
本发明的示例性实施方式总体上涉及显示装置。
背景技术
随着多媒体的发展，显示装置变得越来越重要。因此，正在使用各种类型的显示装置，诸如液晶显示器(LCD)、有机发光显示器(OLED)等。在这些显示装置之中，有机发光显示装置使用有机发光元件来显示图像，其中，有机发光元件通过电子和空穴的复合来产生光。有机发光显示装置包括向有机发光元件提供驱动电流的多个晶体管。
在该背景技术部分中公开的以上信息仅用于理解本发明构思的背景技术，并且因此，其可能包括不构成现有技术的信息。
发明内容
根据本发明的示例性实施方式构造的显示装置能够减少嵌入式指纹传感器中的噪声。
本发明构思的附加特征将在下面的描述中进行阐述，并且根据描述部分将是显而易见的，或者可以通过实践本发明构思而习得。
根据示例性实施方式的包括以矩阵布置的多个像素的显示装置包括衬底、第一阳极和不透明导电层，其中，第一阳极设置在衬底上，不透明导电层设置在衬底与第一阳极之间，其中，多个像素包括开口像素，开口像素包括第一阳极布置区域、针孔区域以及第一阳极未布置区域，其中，针孔区域位于第一阳极布置区域内并由第一阳极围绕，第一阳极未布置区域包括位于第一阳极外部的暴露区域，并且不透明导电层完全覆盖暴露区域，并至少部分暴露针孔区域。
多个像素还可以包括与开口像素相邻的阻光像素，其中，阻光像素可以包括第二阳极布置区域和位于第二阳极布置区域周围的第二阳极未布置区域，并且第二阳极未布置区域可以由不透明导电层完全覆盖。
针孔区域可以由第一阳极完全围绕。
显示装置还可以包括：光学传感器布置区域，其与设置在衬底下方的光学传感器重叠；以及光学传感器未布置区域，其不与光学传感器重叠。
光学传感器未布置区域可以仅包括阻光像素。
光学传感器还可以包括光学指纹传感器。
显示装置还可以包括与设置在衬底下方的光学传感器重叠的光学传感器布置区域，其中光学传感器布置区域可以包括开口像素和阻光像素的至少一部分。
不透明导电层可以包括设置在衬底上的第一导电层以及设置在第一导电层与第一阳极之间的第二导电层。
第二导电层可以设置成与第一阳极布置区域和第二阳极布置区域之间的第一间隙重叠。
第二导电层可以延伸到第一阳极布置区域和与其相邻的第二阳极布置区域。
显示装置还可以包括通孔层，通孔层具有第一厚度并且设置在第二导电层与第一阳极之间，其中，第二导电层可以从第一间隙延伸使得第二导电层在从第一阳极朝向第二阳极的方向上与第一阳极重叠的部分可以具有等于或大于第一厚度的三倍的第二厚度。
第一间隙可以包括第一区域、第二区域和第三区域，第一间隙与第二导电层在第一区域中彼此重叠，第一间隙与第一导电层在第二区域中彼此重叠，第一间隙、第一导电层和第二导电层在第三区域中彼此重叠。
第一导电层可以包括扫描信号线、发射信号线和初始化信号线中的至少一种。
第二导电层可以包括数据线和第一电源电压线中的至少一种。
第一阳极布置区域在开口像素中的占有比和第二阳极布置区域在阻光像素中的占有比可以分别为约80％至约95％。
根据另一示例性实施方式的包括以矩阵布置的多个像素的显示装置包括衬底、第一阳极和不透明导电层，其中，第一阳极设置在衬底上，不透明导电层设置在衬底与第一阳极之间，其中，多个像素包括开口像素和阻光像素，开口像素包括第一阳极布置区域、位于第一阳极布置区域内且由第一阳极围绕的针孔区域以及包括位于第一阳极外部的暴露区域的第一阳极未布置区域，阻光像素与开口像素相邻并且包括第二阳极布置区域和位于第二阳极布置区域周围的第二阳极未布置区域，并且不透明导电层完全覆盖第一阳极未布置区域的暴露区域和第二阳极未布置区域，并且至少部分暴露针孔区域。
针孔区域可以由第一阳极完全围绕。
显示装置还可以包括：光学传感器布置区域，其与设置在衬底下方的光学传感器重叠；以及光学传感器未布置区域，其不与光学传感器重叠。
光学传感器布置区域可以包括开口像素和阻光像素的至少一部分，并且光学传感器未布置区域可以仅包括阻光像素。
光学传感器可以包括光学指纹传感器。
应理解，前面的概述性描述和下面的详细描述两者都是示例性和解释性的，并且旨在提供对要求保护的本发明的进一步解释。
附图说明
附图示出了本发明的示例性实施方式，并且与说明书一起用于解释本发明构思，包括附图以提供对本发明的进一步理解，并且附图并入本说明书中并构成本说明书的一部分。
图1是根据示例性实施方式的显示装置的立体图。
图2是根据示例性实施方式的显示装置的分解立体图。
图3是沿着图2的线III-III'截取的剖视图。
图4是示出根据示例性实施方式的像素和光学传感器的平坦形状的立体图。
图5是根据示例性实施方式的显示装置的多个像素的布局图。
图6是沿着图5的线VI-VI'截取的剖视图。
图7是沿着图5的线VII-VII'截取的剖视图。
图8是沿着图5的线VIII-VIII'截取的剖视图。
图9是示出在传感器光被接收时的显示装置的立体图。
图10是根据示例性实施方式的显示装置的示意性框图。
图11是根据示例性实施方式的显示装置的一个像素的示例性等效电路图。
图12是根据另一示例性实施方式的显示装置的多个像素的布局图。
图13是沿着图12的线XIII-XIII'截取的剖视图。
图14是根据又一示例性实施方式的像素的剖视图。
图15是示出每种金属的反射率的图。
图16是根据又一示例性实施方式的像素的剖视图。
图17是根据又一示例性实施方式的显示装置的多个像素的布局图。
图18是沿着图17的线XVIII-XVIII'截取的剖视图。
具体实施方式
在下面的描述中，出于说明的目的，对许多具体细节进行阐述以提供对本发明的各种示例性实施方式或实现方式的透彻理解。如本文中所使用的，“实施方式”和“实现方式”是可互换的词语，其是采用本文中公开的本发明构思中的一个或多个的装置或方法的非限制性示例。然而，显而易见的是，可以在没有这些具体细节或者具有一个或多个等同布置的情况下对各种示例性实施方式进行实践。在其他实例中，为了避免不必要地模糊各种示例性实施方式，以框图形式示出公知的结构和装置。此外，各种示例性实施方式可以是不同的，但不一定是排他的。例如，在不背离本发明构思的情况下，示例性实施方式的特定形状、配置和特性可以在另一示例性实施方式中使用或实施。
除非另有说明，否则示出的示例性实施方式应被理解为提供一些方式的不同细节的示例性特征，其中可以在实践中以所述一些方式来实施本发明构思。因此，除非另有说明，否则在不背离本发明构思的情况下，各种实施方式的特征、部件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中，被单独称为或统称为“元件”)可以另行组合、分离、互换和/或重新布置。
附图中的交叉影线和/或阴影的使用通常用于使相邻元件之间的边界清楚。因此，除非指定，否则交叉影线或阴影的存在或者不存在均不表示或指示对特定材料、材料性质、尺寸、比例、图示元件之间的共性和/或元件的任何其他特性、属性、性质等的任何偏好或要求。此外，在附图中，出于清楚和/或描述的目的，元件的尺寸和相对尺寸可被夸大。当可以不同地实施示例性实施方式时，具体处理顺序可以与所描述的顺序不同地执行。例如，两个连续地描述的过程可以基本上同时地执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。此外，相同的附图标记表示相同的元件。
当诸如层的元件被称为位于另一元件或层“上”、“连接至”或“联接至”另一元件或层时，其可以直接位于另一元件或层上、直接连接至或直接联接至另一元件或层，或者可以存在介于中间的元件或层。然而，当元件或层被称为“直接位于”另一元件或层“上”、“直接连接至”或“直接联接至”另一元件或层时，不存在介于中间的元件或层。为此，术语“连接”可以表示在存在或者不存在介于中间的元件的情况下的物理连接、电连接和/或流体连接。此外，D1轴、D2轴和D3轴不限于直角坐标系的三个轴(诸如，x轴、y轴和z轴)，且可以以更宽泛的含义进行解释。例如，D1轴、D2轴和D3轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”和“选自由X、Y和Z构成的集合中的至少一个”可解释为仅X、仅Y、仅Z或者X、Y和Z中的两个或更多个的任何组合，诸如，例如XYZ、XYY、YZ和ZZ。如本文中所使用的，术语“和/或”包括相关所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。
虽然术语“第一”、“第二”等可以在本文中用于描述各种类型的元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不背离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可称为第二元件。
诸如“下面(beneath)”、“下方(below)”、“之下(under)”、“下(lower)”、“上方(above)”、“上(upper)”、“之上(over)”、“较高(higher)”、“侧(side)”(例如，如“侧壁(sidewall)”中那样)等的空间相对术语可以在本文中用于描述性目的，并且从而用于描述如附图中所示的一个元件与另一(些)元件的关系。除了附图中描绘的取向之外，空间相对术语旨在包括设备在使用、操作和/或制造中的不同取向。例如，如果将附图中的设备翻转，则描述为在其他元件或特征“下方”或“下面”的元件将随之取向为在其他元件或特征“上方”。因此，示例性术语“下方”可以包括上方和下方两种取向。此外，设备可以以其他方式取向(例如，旋转90度或处于其他取向)，并且因而应相应地解释本文中所使用的空间相对描述词。
本文中使用的术语是出于描述特定实施方式的目的，而非旨在进行限制。除非上下文另有明确指示，否则如本文中所使用的，单数形式“一(a)”、“一个(an)”和“该(the)”旨在也包括复数形式。此外，当在本说明书中使用时，术语“包含”、“包含有”、“包括”和/或“包括有”表示所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其集合的存在，但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其集合的存在或添加。还应注意的是，如本文中所使用的，术语“基本上”、“约”和其他类似术语用作近似术语而不用作程度术语，并且因此用于为本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供值中的固有偏差留有余量。
本文中参照剖面图和/或分解图对各种示例性实施方式进行描述，所述剖面图和/或分解图是理想化示例性实施方式和/或中间结构的示意图。因此，将预期由例如制造技术和/或公差而导致的与图示形状的偏差。因此，本文中公开的示例性实施方式不应该一定被理解为受限于特定示出的区域形状，而是应包括由例如制造引起的形状上的偏差。以这种方式，附图中示出的区域本质上可为示意性的，并且这些区域的形状可以不反映装置的区域的实际形状，并且因此不一定旨在进行限定。
除非另有限定，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。除非本文中明确地如此限定，否则术语，诸如在常用词典中限定的术语，应解释为具有与其在相关领域的语境中的含义一致的含义，并且不应以理想化或过度正式的含义进行解释。
在下文，将参照有机发光显示装置来描述根据示例性实施方式的显示装置，然而，本发明构思不限于一种类型的显示装置。
图1是根据示例性实施方式的显示装置的立体图。图2是根据示例性实施方式的显示装置的分解立体图。图3是沿着图2的线III-III'截取的剖视图。图4是示出根据示例性实施方式的像素和光学传感器的平坦形状的立体图。
如本文中所使用的，术语“上方”、“顶部”和“上表面”表示相对于稍后将描述的显示面板300设置窗100的方向，例如，第三方向DR3的一个方向，并且术语“下方”、“底部”和“下表面”表示相对于显示面板300设置下框架500的方向，例如，第三方向DR3的另一方向。
参照图1至图4，根据示例性实施方式的显示装置1包括窗100、触摸构件200、显示面板300、显示电路板600、显示驱动器610、下盖面板400、主电路板800、光学传感器810和主驱动器840以及下框架500，其中，触摸构件200设置在窗100下方，显示面板300设置在触摸构件200下方，显示电路板600附接至显示面板300，显示驱动器610设置在显示电路板600上，下盖面板400设置在显示面板300下方，主电路板800设置在下盖面板400下方并包括与显示电路板600的第一连接器630物理连接的第二连接器850，光学传感器810和主驱动器840设置在主电路板800上。
显示装置1在平面图中可以具有大致矩形形状。例如，如图1和图2中所示，显示装置1可具有第一方向DR1上的长边和第二方向DR2上的短边。第一方向DR1上的长边和第二方向DR2上的短边相交的边缘可以是具有预定曲率的圆润的边缘，或以直角形成。显示装置1的平面形状不限于矩形形状，而是可以以诸如大致圆形形状或大致椭圆形形状的其他形状形成。
窗100可以设置在显示面板300上方以覆盖显示面板300的上表面。因此，窗100可以用于保护显示面板300的上表面。窗100可以由玻璃、蓝宝石和/或塑料制成。窗100可以是刚性的或柔性的。
触摸构件200可以设置在窗100与显示面板300之间。触摸构件200是用于感测用户的触摸位置的装置，并且可以实现为电容型，诸如，自电容型或互电容型。触摸构件200可以以面板形式或膜形式形成。可替代地，触摸构件200可以与显示面板300一体地形成。在这种情况下，触摸构件200的触摸驱动电极和触摸感测电极可以形成在显示面板300的薄膜封装层上。包括触摸驱动器的触摸电路板可以附接至触摸构件200的一侧，其中，触摸驱动器电连接至触摸构件200的触摸驱动电极和触摸感测电极。触摸电路板可以是柔性印刷电路板。在一些示例性实施方式中，触摸驱动器可以形成为集成电路。
显示面板300可以是例如有机发光显示面板。虽然将参照有机发光显示面板来描述根据示例性实施方式的显示装置，然而，本发明构思不限于此，且其他类型的显示面板可以应用为显示面板300，诸如液晶显示(LCD)面板、量子点有机发光显示(QD-OLED)面板、量子点液晶显示(QD-LCD)面板、量子纳米发光显示(QNED)面板和微型LED面板。
显示面板300包括显示区域DA和位于显示区域DA周围的非显示区域NA，其中，显示区域DA包括用于显示图像的多个像素。显示面板300包括显示衬底710(下文中，被简称为衬底)(参见图8)、设置在显示衬底710上的显示区域DA中的多个晶体管以及电连接至多个晶体管的有机发光元件。有机发光元件可以包括阳极电极、有机发光层和阴极电极。每个像素可以包括多个晶体管和有机发光元件。当将电压施加到阳极电极和阴极电极时，空穴和电子分别通过空穴传输层和电子传输层移动到有机发光层，并且在有机发光层中彼此结合以发光。稍后将对显示面板300的具体截面形状进行描述。
薄膜封装层设置在有机发光元件上。薄膜封装层用于防止氧气或水分渗透至有机发光元件中。薄膜封装层可以包括至少一个无机膜和至少一个有机膜。
显示电路板600可以附接至显示面板300的一侧。更具体地，显示电路板600可以使用各向异性导电膜附接至设置在显示面板300的一侧上的焊盘。在一些示例性实施方式中，显示电路板600可以经由超声结合附接至显示面板300的一侧。显示驱动器610通过显示电路板600输出用于驱动显示面板300的信号和电压。显示驱动器610可以形成为集成电路并且安装在显示电路板600上，但是本发明构思不限于此。例如，显示驱动器610可以附接至显示面板300的衬底的上表面或下表面的一侧。
下盖面板400设置在显示面板300下方。下盖面板400包括至少一个功能层。功能层可以是执行散热功能、电磁屏蔽功能、接地功能、缓冲功能、刚度增强功能、支承功能和/或数字化功能的层。功能层可以是片层、膜层、薄层、涂层、面板、板等。一个功能层可以由单层形成，但是也可以由多个层叠的薄膜或涂层形成。功能层可以是例如支承衬底、散热层、电磁屏蔽层、冲击吸收层、数字转换器等。
下盖面板400包括缆线孔CAH和传感器孔SH，其中，显示电路板600的第一连接器630在厚度方向上穿过缆线孔CAH，传感器孔SH暴露设置在主电路板800上的光学传感器810。由于下盖面板400具有暴露光学传感器810的传感器孔SH，因此光学传感器810可以顺利地朝向显示表面行进。
物理连接至显示电路板600的主电路板800可以设置在下盖面板400下方。设置在主电路板800上的主驱动器840可以控制以上描述的显示驱动器610。
第一光学透明粘合构件AM1可以设置在窗100与触摸构件200之间，第二光学透明粘合构件AM2可以设置在触摸构件200与显示面板300之间，并且第三光学透明粘合构件AM3可以设置在显示面板300与下盖面板400之间。光学透明粘合构件AM1、AM2和AM3可以将相邻的构件彼此联接。第一光学透明粘合构件AM1和第二光学透明粘合构件AM2中的每个可以包括光学透明粘合膜、光学透明粘合带和光学透明树脂中的至少一个。第三光学透明粘合构件AM3可以包括普通的粘合材料，但不限于此。在一些示例性实施方式中，第三光学透明粘合构件AM3可以包括第一光学透明粘合构件AM1和第二光学透明粘合构件AM2的上述材料中的至少一种。
光学传感器810在平面图中可以设置在下盖面板400的传感器孔SH中。如图3中所示，光学传感器810用于接收反射光L2，反射光L2可以在从显示面板300发射的在朝向窗100的方向上发射的上出射光L1被用户的指纹区域RP和VP反射之后生成。更具体地，光学传感器810可以通过接收上出射光L1中的、从谷区域VP、脊区域RP以及在用户的谷区域VP与脊区域RP之间的区域反射的反射光L2的不同位置的信息，来识别用户的指纹形状。例如，根据示例性实施方式的光学传感器810可以是光学指纹传感器。另外，光学传感器810可以包括图像拍摄装置，以拍摄用户的指纹形状的图像，从而识别用户的指纹形状。
如图2中所示，光学传感器810可以设置成与显示区域DA重叠。在一些示例性实施方式中，光学传感器810可以设置成与非显示区域NA重叠，但本发明构思不限于此。
参照图4，设置在显示面板300的显示区域DA中的多个像素可以在行方向和列方向上以矩阵阵列布置。多个像素可以包括开口像素PX1和阻光像素PX2，其中，开口像素PX1包括针孔区域PNH，阻光像素PX2不包括针孔区域PNH。开口像素PX1和阻光像素PX2中的每个可以设置成多个。从用户的指纹反射的反射光L2可以通过多个开口像素PX1的针孔区域PNH行进至光学传感器810。如图4中所示，阻光像素PX2可以设置成与开口像素PX1相邻。例如，阻光像素PX2可以设置成与开口像素PX1的上侧、下侧、左侧和右侧中的全部相邻，但不限于此。
同时，当从用户的指纹反射的反射光L2穿过除了针孔区域PNH之外的开口像素PX1和阻光像素PX2行进至光学传感器810时，可能在光学传感器810识别用户的指纹形状时出现噪声。根据示例性实施方式的显示装置1在平面图中可以通过像素PX1和PX2的一个或多个导电层的导电图案覆盖除了针孔区域PNH之外的区域，以防止反射光L2在除了针孔区域PNH之外的区域的泄露并行进至光学传感器810。上述的一个或多个导电层可以是不透明的导电层。
多个像素PX1和PX2还可以包括：光学传感器布置区域，其与设置在其下方的光学传感器810重叠；以及光学传感器未布置区域，其不与光学传感器810重叠。光学传感器布置区域可以是在其中混合有开口像素PX1和阻光像素PX2的区域，并且光学传感器未布置区域可以是在其中仅设置有阻光像素PX2而没有设置开口像素PX1的区域。然而，本发明构思不限于此。在一些示例性实施方式中，与光学传感器布置区域类似，光学传感器未布置区域可以是其中混合有开口像素PX1和阻光像素PX2的区域。
图5是根据示例性实施方式的显示装置的多个像素的布局图。图6是沿着图5的线VI-VI'截取的剖视图。图7是沿着图5的线VII-VII'截取的剖视图。图8是沿着图5的线VIII-VIII'截取的剖视图。图9是示出在传感器光被接收时的显示装置的立体图。
参照图5至图9，显示装置1的多个像素包括衬底710、设置在衬底710上的多个导电层以及设置在多个导电层之间的多个绝缘层。
像素PX1和PX2中的每个可以包括顺序设置的衬底710、缓冲层720、第一绝缘层730、第一导电层310、第二绝缘层740、第三绝缘层750、第二导电层330、通孔层760和第三导电层350。以上描述的层中的每个可以形成为单层，或者形成为多层的堆叠。在一些示例性实施方式中，还可以在所述层之间设置其他层。
衬底710支承设置在其上的各个层。当有机发光显示装置是背发射型或双侧发射型时，可以使用透明衬底作为衬底710。当有机发光显示装置是前发射型时，除了透明衬底之外，可以应用半透明或不透明的衬底。
衬底710可以由诸如玻璃、石英或聚合物树脂的绝缘材料形成。聚合物材料的示例可以包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PA)、聚芳酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙化物、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(CAT)、醋酸丙酸纤维素(CAP)或其组合。衬底710可以包括金属材料。
衬底710可以是刚性衬底，或者可以是可弯折、折叠或卷曲的柔性衬底。柔性衬底的材料的示例可以是聚酰亚胺(PI)，但不限于此。
缓冲层720可以设置在衬底710的整个表面上。缓冲层720可以防止杂质离子的扩散，防止水分或外部空气的渗透，并执行表面平坦化功能。缓冲层720可以包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等。在一些示例性实施方式中，可以根据衬底710的类型、工艺条件等省略缓冲层720。
第一绝缘层730可以设置在缓冲层720上，并且可以基本上设置在衬底710的整个表面上。第一绝缘层730可以是具有栅极绝缘功能的栅极绝缘层。第一绝缘层730可以包括硅化合物、金属氧化物等。例如，第一绝缘层730可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氧化钽、氧化铪、氧化锆、氧化钛等。这些可以单独地使用或彼此组合地使用。第一绝缘层730可以形成为单层，或者形成为包括不同材料的多层的堆叠。
第一导电层310设置在第一绝缘层730上。第一导电层310可以包括第一-第一栅极图案311、第一-第二栅极图案313、第一-第三栅极图案315和第一-第四栅极图案317。
第一-第一栅极图案311、第一-第二栅极图案313和第一-第三栅极图案315中的每个可以沿着行方向延伸。第一-第一栅极图案311、第一-第二栅极图案313和第一-第三栅极图案315中的每个可以沿着行方向超出像素PX1和PX2的边界延伸到相邻像素。
第一-第一栅极图案311可以位于像素PX1和PX2的上侧上。虽然图5示出了第一-第一栅极图案311没有设置在沿列方向与所述上侧相邻的阻光像素PX2中，但是本发明构思不限于此。例如，在一些示例性实施方式中，第一-第一栅极图案311可以设置在沿列方向与所述上侧相邻的阻光像素PX2的下侧上。
第一-第二栅极图案313可以在列方向上位于第一-第一栅极图案311的下侧上。第一-第三栅极图案315可以在列方向上位于第一-第二栅极图案313的下侧上。图5示出了第一-第三栅极图案315设置在沿列方向与所述下侧相邻的阻光像素PX2的上侧上。
第一-第四栅极图案317可以位于像素PX1和PX2的中央处。在平面图中，第一-第四栅极图案317可以位于第一-第一栅极图案311与第一-第二栅极图案313之间。
第一导电层310可以包括选自包括以下项的集合的至少一种金属：钼(Mo)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钛(Ti)、钽(Ta)、钨(W)和铜(Cu)。第一导电层310可以形成为单层或多层。
第二绝缘层740用于将第一导电层310与第二导电层330绝缘。第二绝缘层740可以设置在第一导电层310上，并且可以基本上设置在衬底710的整个表面上。第二绝缘层740可以是层间绝缘层。
第二绝缘层740可以由诸如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铪、氧化铝、氧化钛、氧化钽和氧化锌的无机绝缘材料形成，或者可以由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚亚苯基树脂、聚苯硫醚树脂和苯并环丁烯(BCB)的有机绝缘材料形成。第二绝缘层740可以形成为单层，或者可以形成为包括不同材料的多层的堆叠。
第三绝缘层750覆盖第二绝缘层740。第三绝缘层750可以基本上设置在衬底710的整个表面上。第三绝缘层750可以包括与第一绝缘层730基本上相同的材料，或者可以包括如上所述的形成第一绝缘层730的一种或多种材料。第三绝缘层750可以形成为单层，或者可以形成为包括不同材料的多层的堆叠。
第二导电层330可以设置在第三绝缘层750上。
第二导电层330可以包括第二-第一数据图案331、第二-第二数据图案333、第二-第三数据图案335、第二-第四数据图案337和第二-第五数据图案339。
第二-第一数据图案331和第二-第二数据图案333可以沿着列方向延伸。第二导电层330可以设置成与设置在其下方的第一导电层310部分重叠。
第二-第一数据图案331和第二-第二数据图案333可以沿着列方向超出像素PX1和PX2的边界延伸到相邻像素。第二-第一数据图案331可以设置成与像素PX1和PX2的左侧相邻。图5示出了第二-第一数据图案331设置在沿行方向与所述左侧相邻的阻光像素PX2的右侧上。
第二-第二数据图案333可以设置成在行方向上与第二-第一数据图案331的右侧相邻。第二-第一数据图案331可以设置成与设置在其下方的第一-第一栅极图案311至第一-第三栅极图案315重叠。类似于第二-第一数据图案331，第二-第二数据图案333可以设置成与设置在其下方的第一-第一栅极图案311至第一-第三栅极图案315重叠。
第二-第三数据图案335至第二-第五数据图案339可以设置成在行方向上与第二-第二数据图案333的右侧相邻。第二-第三数据图案335和第二-第五数据图案339可以具有大致在列方向上延伸的形状，并且第二-第四数据图案337可以具有大致在行方向上延伸并且然后在列方向上延伸的弯折形状，但本发明构思不限于此。
第二-第三数据图案335的一端可以设置成与第一-第一栅极图案311重叠，并且第二-第三数据图案335的另一端可以设置成与第一-第四栅极图案317重叠。第二-第四数据图案337可以设置成与第一-第二栅极图案313重叠，并且第二-第五数据图案339可以设置成与第一-第三栅极图案315重叠。
第二导电层330可以包括选自包括以下项的集合的至少一种金属：钼(Mo)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钛(Ti)、钽(Ta)、钨(W)和铜(Cu)。第二导电层330可以形成为单层或多层。例如，第二导电层330可以具有Ti/Al/Ti、Mo/Al/Mo、Mo/AlGe/Mo或Ti/Cu的堆叠结构。
通孔层760用于使第二导电层330与第三导电层350绝缘。通孔层760可以设置在第二导电层330上，并且可以基本上设置在衬底710的整个表面上。通孔层760可以是层间绝缘层。通孔层760可以包括与第二绝缘层740基本上相同的材料，或者可以包括如上所述的形成第二绝缘层740的一种或多种材料。通孔层760可以形成为单层，或者形成为包括不同材料的多层的堆叠。
第三导电层350设置在通孔层760上。第三导电层350可以包括第三-第一阳极图案351和352以及第三-第二网格图案355。第三-第一阳极图案351和352可以包括设置在开口像素PX1中的开口阳极图案351和设置在阻光像素PX2中的阻光阳极图案352。开口阳极图案351可以在其中包括针孔区域PNH。更具体地，针孔区域PNH在平面图中可以被开口阳极图案351完全围绕。第三-第二网格图案355可以设置在沿列方向彼此相邻的第三-第一阳极图案351和352之间。
第三导电层350的第三-第一阳极图案351和352可以由具有高功函数以促进空穴注入的材料形成，诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)等。当显示装置1是前发射型显示装置时，第三-第一阳极图案351和352还可以包括反射金属层。反射金属层可以由例如银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)或其混合物形成。在一些示例性实施方式中，第三-第一阳极图案351和352可以具有诸如ITO/Ag或ITO/MgF的两层结构，或者诸如ITO/Ag/ITO的多层结构。
第三导电层350的第三-第二网格图案355可以包括第三-第一阳极图案351和352的上述材料中的至少一种，但本发明构思不限于此。
第三-第一阳极图案351和352的平面形状可以是如图5中所示的大致六边形形状，但在一些示例性实施方式中，第三-第一阳极图案351和352可以具有其他多边形形状。
第三-第一阳极图案351和352可以设置在各个像素PX1和PX2中。开口阳极图案351与相邻的阻光阳极图案352分离。针孔区域PNH在平面图中可以被开口阳极图案351围绕。例如，针孔区域PNH可以被开口阳极图案351的构成材料完全围绕。第三-第一阳极图案351和352可以基本上覆盖各个像素PX1和PX2。各个像素PX1和PX2中的第三-第一阳极图案351和352的占有比可以是约0.7至约0.95。第三-第一阳极图案351和352的占有比可以考虑到各个像素PX1和PX2的阻光功能以及防止相邻的第三-第一阳极图案短路来确定。当各个像素PX1和PX2中的第三-第一阳极图案351和352的占有比是约0.8或更大时，第三-第一阳极图案351和352可以基本上遮盖各个像素PX1和PX2的光透射。此外，当各个像素PX1和PX2中的第三-第一阳极图案351和352的占有比是约0.95或更小时，能够防止与相邻的第三-第一阳极图案物理接触，从而防止短路。由此，各个像素PX1和PX2中的第三-第一阳极图案351和352的占有比可以是约0.8至约0.95。
如上所述，由于开口阳极图案351在其中包括针孔区域PNH，因此开口像素PX1中的开口阳极图案351的占有比可以小于阻光像素PX2中的阻光阳极图案352的占有比。
第三-第二网格图案355的平面形状可以是沿着行方向延伸的线性形状。然而，本发明构思不限于此。例如，在一些示例性实施方式中，在平面中，第三-第二网格图案355的平面形状还可以包括布置在上侧和下侧上的沿着第三-第一阳极图案351和352的平面形状的部分弯曲的形状。
第三导电层350可以设置成与设置在其下方的第一导电层310和第二导电层330重叠。第三-第一阳极图案351和352可以设置成与第一导电层310的第一-第一栅极图案311至第一-第四栅极图案317重叠，并且可以设置成与第二导电层330的第二-第一数据图案331至第二-第五数据图案339重叠。此外，设置在像素PX1和PX2中的每个的上侧上的第三-第二网格图案355可以设置成与第一-第一栅极图案311和相邻于所述上侧的另一像素的第一-第三栅极图案315重叠，并且设置在像素PX1和PX2中的每个的下侧上的第三-第二网格图案355可设置成与第一-第三栅极图案315和相邻于所述下侧的另一像素的第一-第一栅极图案311重叠。
如上所述，像素PX1和PX2中的每个的第一导电层310、第二导电层330和第三导电层350包括在厚度方向上彼此重叠的区域以及仅设置有一个导电层而不彼此重叠的区域。此外，开口像素PX1还包括未设置第一导电层310、第二导电层330和第三导电层350的区域(例如，针孔区域PNH)。在下文，开口像素PX1中设置有第三导电层350且不与其他导电层重叠的区域被称为“第一区域”，其中设置有第二导电层330且不与其他导电层重叠的区域被称为“第二区域”，其中设置有第一导电层310且不与其他导电层重叠的区域被称为“第三区域”，其中第三导电层350和第二导电层330设置成彼此重叠且不与第一导电层310重叠的区域被称为“第四区域”，其中第三导电层350和第一导电层310设置成彼此重叠且不与第二导电层330重叠的区域被称为“第五区域”，其中第二导电层330和第一导电层310设置成彼此重叠且不与第三导电层350重叠的区域被称为“第六区域”，其中第三导电层350至第一导电层310彼此重叠的区域被称为“第七区域”，以及其中未设置第三导电层350至第一导电层310的区域被称为“第八区域”。
由此，开口像素PX1包括第一区域至第八区域。
阻光像素PX2包括以上限定的第一区域至第七区域，并且不包括其中未设置第三导电层350至第一导电层310的第八区域。
开口像素PX1可以由除了包括针孔区域PNH的第八区域之外的第一区域至第七区域覆盖，并且阻光像素PX2可以由第一区域至第七区域覆盖。以这种方式，从用户的指纹反射的反射光L2仅通过针孔区域PNH行进至光学传感器810，并且防止反射光L2在其余区域中传播至光学传感器810，从而在光学传感器810识别用户的指纹形状时防止或抑制噪声的出现。
将对围绕开口像素PX1的第一导电层310、第二导电层330和第三导电层350的布置进行更详细的描述。多个像素PX1和PX2可以包括位于开口阳极图案351与沿着行方向设置在开口阳极图案351的右侧和左侧上的相邻的阻光阳极图案352之间的区域以及位于开口阳极图案351与沿着列方向设置在开口阳极图案351的上侧和下侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域。
如图5中所示，位于开口阳极图案351与沿着行方向设置在开口阳极图案351的右侧和左侧上的相邻的阻光阳极图案352之间的区域可以由第二-第一数据图案331以及第一-第一栅极图案311至第一-第三栅极图案315覆盖。
更具体地，位于开口阳极图案351与设置在右侧和左侧上的相邻的阻光阳极图案352之间的区域可以由基本上在列方向上延伸的第二-第一数据图案331覆盖。此外，位于开口阳极图案351与设置在右侧和左侧上的相邻的阻光阳极图案352之间的区域的上侧可以由第一-第一栅极图案311覆盖。位于开口阳极图案351与设置在右侧和左侧上的相邻的阻光阳极图案352之间的区域的中央侧可以由第一-第二栅极图案313覆盖。位于开口阳极图案351与设置在右侧和左侧上的相邻的阻光阳极图案352之间的区域的下侧可以由第一-第三栅极图案315覆盖。即，开口阳极图案351与设置在右侧和左侧上的相邻的阻光阳极图案352之间的区域可以由第二区域和第六区域覆盖，其中，在第二区域中仅设置有第二导电层330的第二-第一数据图案331，在第六区域中，第二-第一数据图案331与第一导电层310的第一-第一栅极图案311至第一-第三栅极图案315设置成彼此重叠。
同时，如图7中所示，入射在第三-第一阳极图案351和352之间的区域上的反射光L2可以在穿过通孔层760之后传播至第二-第一数据图案331。传播至第二-第一数据图案331的反射光L2可以横向传播，同时在第三-第一阳极图案351和352与第二-第一数据图案331之间被全反射。
例如，在第三导电层350与第二导电层330之间被反射四次的光的约96％可以被吸收，并且其余的约4％的光可以横向传播。横向传播的光可以行进至图4中所示的显示面板300下方的光学传感器810，这可能对用户指纹形状信息产生噪声。为了防止该现象，可以充分扩大设置成与第三-第一阳极图案351和352之间的区域重叠的第二-第一数据图案331的宽度，以增加第二-第一数据图案331和第三-第一阳极图案351和352的位于上侧上的重叠区域的宽度。
更具体地，图5中所示的第二-第一数据图案331和第三-第一阳极图案351和352的重叠区域的宽度W1对应于这样的宽度：在此宽度下，入射在第三-第一阳极图案351和352之间的区域上的反射光L2被在第二-第一数据图案331与第三-第一阳极图案351和352之间被全反射的同时被吸收(LS)并且不行进至光学传感器810；或者对应于这样的宽度：即使反射光L2的一部分行进至光学传感器810，也可生成可忽略的噪声。例如，第二-第一数据图案331与第三-第一阳极图案351和352的重叠区域(第四区域)在行方向上的宽度W1与设置在第三-第一阳极图案351和352与第二-第一数据图案331之间的通孔层760的厚度h1具有相关性，以满足以下等式：
W1＝R1×h1 等式1，
其中，W1是第二-第一数据图案331与第三-第一阳极图案351和352的重叠区域(第四区域)在行方向上的宽度，h1是通孔层760的厚度，以及R1是数据图案宽度常数。
此外，数据图案宽度常数R1可以考虑到第三-第一阳极图案351和352以及第二-第一数据图案331的构成材料来确定。在一个示例性实施方式中，当第三-第一阳极图案351和352以及第二-第一数据图案331包括上述材料时，数据图案宽度常数R1可以是约3至约6。例如，数据图案宽度常数R1可以是约5。此外，在一个示例性实施方式中，通孔层760的厚度h1可以是约1.4μm至约1.8μm。
更具体地，由于第二-第一数据图案331与第三-第一阳极图案351和352的重叠区域(第四区域)在行方向上的宽度W1满足如上所表示的等式1，因而入射在第三-第一阳极图案351和352之间的区域上的反射光L2在第二-第一数据图案331与第三-第一阳极图案351和352之间被全反射的同时被吸收(LS)，或者即使反射光L2的一部分行进至光学传感器810，也可生成可忽略的噪声。
此外，如图5中所示，位于开口阳极图案351与设置在开口阳极图案351的上侧和下侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域可以由第二-第一数据图案331、第二-第二数据图案333以及第一-第一栅极图案311和第一-第三栅极图案315覆盖。
更具体地，位于开口阳极图案351与位于上侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域可以由基本上在行方向上延伸的第一-第一栅极图案311覆盖，并且在开口阳极图案351与位于下侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域可以由基本上在行方向上延伸的第一-第三栅极图案315覆盖。
此外，位于开口阳极图案351与设置在上侧和下侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域的左侧可以由第二-第一数据图案331覆盖，位于开口阳极图案351与设置在上侧和下侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域的中央侧可以由第二-第二数据图案333覆盖，并且位于开口阳极图案351与设置在上侧和下侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域的右侧可以由穿过相邻的像素PX2的第二-第一数据图案331覆盖。即，位于开口阳极图案351与设置在上侧和下侧上的相邻的第三-第二网格图案355之间的区域可以由第三区域、第二区域和第六区域覆盖，其中，在第三区域中仅设置有第一导电层310的第一-第一栅极图案311和第一-第三栅极图案315，在第二区域中仅设置有第二-第一数据图案331和第二-第二数据图案333，在第六区域中第一导电层310和第二导电层330设置成彼此重叠。
同时，如图8中所示，入射在第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域上的反射光L2可以在穿过通孔层760以及第二绝缘层740和第三绝缘层750之后，传播至包括第一-第一栅极图案311和第一-第三栅极图案315的第一导电层310。传播至第一导电层310的反射光L2可以横向传播，同时在第三-第一阳极图案351和352、第三-第二网格图案355与第一导电层310之间被全反射。如上所述，横向传播的光可行进至光学传感器810，并且可以对用户指纹形状信息产生噪声。为了防止这种现象，可以充分扩大设置成同第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域重叠的第一-第一栅极图案311和第一-第三栅极图案315的宽度，以增加第三导电层350和第一导电层310的位于上侧上的重叠区域的宽度，例如，增加第五区域在列方向上的宽度。
更具体地，图5中所示的第一导电层310和第三导电层350的重叠区域(例如，第五区域)在列方向上的宽度W2表示这样的宽度：在此宽度下，入射在第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域上的反射光L2在第一导电层310与第三导电层350之间被全反射的同时被吸收(LS)并且不行进至光学传感器810；或者表示这样的宽度：即使反射光L2的一部分行进至光学传感器810，也可以生成可忽略的噪声。例如，第三导电层350和第一导电层310的重叠区域在列方向上的宽度W2与第三导电层350和第一导电层310之间的距离(例如，设置在第三导电层350与第一导电层310之间的第二绝缘层740和第三绝缘层750与诸如通孔层760的绝缘层的厚度的总和h2)具有相关性，以满足以下等式：
W2＝R2×h2 等式2，
其中，W2是第一导电层310和第三导电层350的重叠区域(第五区域)在列方向上的宽度，h2是第一导电层310与第三导电层350之间的厚度，以及R2是栅极图案宽度常数。
此外，与数据图案宽度常数R1类似，栅极图案宽度常数R2可以考虑到第三导电层350和第一导电层310的构成材料来确定。在一个示例性实施方式中，当第三导电层350和第一导电层310包括上述材料时，栅极图案宽度常数R2可以是约3至约6。例如，栅极图案宽度常数R2可以是约5。同样，在一个示例性实施方式中，第一导电层310与第三导电层350之间的厚度h2可以是约4μm至约6.5μm。
即，由于第一导电层310和第三导电层350的重叠区域的宽度W2满足如上所表示的等式2，因此入射在第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域上的反射光L2在第三导电层350与第一导电层310之间被全反射的同时被吸收(LS)，或者即使反射光L2中的一部分行进至光学传感器810，也可以生成可忽略的噪声。
参照图9，如上所述，从用户的指纹反射的反射光L2可以照原样透射穿过多个像素PX1和PX2之中的开口像素PX1的针孔区域PNH，例如第八区域。此外，在除了第八区域之外的第一区域至第七区域中，通过堆叠的导电图案之间的厚度空间(例如，第三导电层350与第二导电层330之间以及第三导电层350与第一导电层310之间的空间)，反射光L2可以被像素PX1和PX2的堆叠的导电图案反射(LR)，或者可以在导电图案之间的空间中被吸收(LS)。因此，可以防止从用户的指纹反射的反射光L2行进至光学传感器810，从而防止在光学传感器810识别用户的指纹形状时出现噪声。
图10是根据示例性实施方式的显示装置的示意性框图。图11是根据示例性实施方式的显示装置的一个像素的示例性等效电路图。
参照图10，显示装置1包括具有多个像素10的显示区域DA、扫描驱动器20、数据驱动器30(在图2中也示出为610)、发射控制驱动器40和控制器50。控制器50用于控制扫描驱动器20、数据驱动器30和发射控制驱动器40。控制器50可以包括图2的主驱动器840。
显示区域DA包括多条扫描线SL11至SL1n、SL21至SL2n和SL31至SL3n(n是2或更大的整数)、多条数据线DL1至DLm(m是2或更大的整数)以及多个像素10，其中，多个像素10以矩阵形式布置在多条数据线DL1至DLm与多条发射控制线EL1至ELn的交叉点处。
多条扫描线SL11至SL1n、SL21至SL2n和SL31至SL3n以及多条发射控制线EL1至ELn可以在行方向上延伸，并且多条数据线DL1至DLm可以在列方向上延伸。在一些示例性实施方式中，行方向和列方向可以彼此切换。初始化电压(VINT)供应线可以针对每一行分支成在行方向上延伸，并且第一电源电压(ELVDD)供应线可以针对每一列分支成在列方向上延伸。然而，本发明构思不限于此，并且初始化电压(VINT)供应线和第一电源电压(ELVDD)供应线的延伸方向可以被不同地修改。
三条扫描线SL11、SL21和SL31、一条数据线DL1、一条发射控制线EL1、一条初始化电压(VINT)供应线和一条第一电源电压(ELVDD)供应线可以穿过第一行和第一列的像素10(其为示例性像素)。在一些示例性实施方式中，相同的线可以穿过其他像素10。
扫描驱动器20生成三个扫描信号，并通过多条扫描线SL11至SL1n、SL21至SL2n和SL31至SL3n将三个扫描信号传输至每个像素。更具体地，扫描驱动器20将扫描信号顺序地供应给第一扫描线SL11至SL1n、第二扫描线SL21至SL2n和第三扫描线SL31至SL3n。
数据驱动器30通过多条数据线DL1至DLm向每个像素10传输数据信号。在将第二扫描信号供应给第一扫描线SL11至SL1n时，数据信号供应给由第二扫描信号选择的像素10。
发射控制驱动器40生成发射控制信号，并通过多条发射控制线EL1至ELn将发射控制信号传输至每个像素10。发射控制信号控制像素10的发射时间。在一些示例性实施方式中，取决于像素10的内部结构或者当扫描驱动器20生成发射控制信号以及扫描信号时，可以省略发射控制驱动器40。
控制器50将从外部传输的多个图像信号R、G和B转换成多个图像数据信号DR、DG和DB，并将其传输至数据驱动器30。此外，控制器50接收垂直同步信号Vsync、水平同步信号Hsync和时钟信号MCLK，并且生成并传输用于控制扫描驱动器20、数据驱动器30和发射控制驱动器40的驱动的控制信号。更具体地，控制器50分别生成并传输用于控制扫描驱动器20的扫描驱动控制信号SCS、用于控制数据驱动器30的数据驱动控制信号DCS和用于控制发射控制驱动器40的发射驱动控制信号ECS。
向多个像素10中的每个供应第一电源电压ELVDD和第二电源电压ELVSS。第一电源电压ELVDD可以是预定的高电平电压，并且第二电源电压ELVSS可以是比第一电源电压ELVDD低的电压。
多个像素10中的每个根据通过多条数据线DL1至DLm传输的数据信号，通过供应给发光元件的驱动电流来发射预定亮度的光。
第一电源电压ELVDD、第二电源电压ELVSS、初始化电压VINT等可以从外部电压源供应。
参照图11，显示装置1的一个像素的示例性电路包括有机发光二极管OLED、多个晶体管T1至T7和存储电容器Cst。数据信号DATA、第一扫描信号Gw-p、第二扫描信号Gw-n、第三扫描信号GI、发射控制信号EM、第一电源电压ELVDD、第二电源电压ELVSS和初始化电压VINT被施加至一个像素的电路。
有机发光二极管OLED包括阳极电极和阴极电极。存储电容器Cst包括第一电极和第二电极。
多个晶体管可以包括第一晶体管T1至第七晶体管T7。晶体管T1至T7中的每个包括栅电极、第一电极和第二电极。晶体管T1至T7中的每个的第一电极和第二电极中的一个是源电极，且另一电极是漏电极。晶体管T1至T7中的每个可以是薄膜晶体管。
在下文中，将对每个配置进行详细描述。
第一晶体管T1的栅电极连接至存储电容器Cst的第一电极。第一晶体管T1的第一电极经由第五晶体管T5连接至用于施加第一电源电压ELVDD的第一电源电压供应线VDDL。第一晶体管T1的第二电极经由第六晶体管T6连接至有机发光二极管OLED的阳极电极。第一晶体管T1根据第二晶体管T2的开关操作接收数据信号DATA，并且将驱动电流提供给有机发光二极管OLED。
第二晶体管T2的栅电极连接至用于施加第一扫描信号Gw-p的第二扫描线SLn。第二晶体管T2的第一电极连接至数据线DLm。第二晶体管T2的第二电极连接至第一晶体管T1的第一电极，并且经由第五晶体管T5连接至第一电源电压供应线VDDL。第二晶体管T2根据第一扫描信号Gw-p导通，并且执行将数据信号DATA传输到第一晶体管T1的第一电极的开关操作。
第三晶体管T3的栅电极连接至用于施加第一扫描信号Gw-p的第二扫描线SLn。第三晶体管T3的第一电极连接至第六晶体管T6的第一电极和第一晶体管T1的第二电极。第三晶体管T3的第二电极连接至第七晶体管T7的第一电极、存储电容器Cst的第一电极和第一晶体管T1的栅电极。
第四晶体管T4的栅电极连接至用于施加第三扫描信号GI的第三扫描线SLn+1。第四晶体管T4的第二电极连接至初始化电压线ViniL和第七晶体管T7的第二电极。第四晶体管T4的第一电极连接至有机发光二极管OLED的阳极电极和第六晶体管T6的第二电极。
第五晶体管T5的栅电极连接至用于施加发射控制信号EM的发射控制线EMLn。第五晶体管T5的第一电极连接至第一电源电压供应线VDDL。第五晶体管T5的第二电极连接至第一晶体管T1的第一电极和第二晶体管T2的第二电极。
第六晶体管T6的栅电极连接至用于施加发射控制信号EM的发射控制线EMLn。第六晶体管T6的第一电极连接至第一晶体管T1的第二电极。第六晶体管T6的第二电极连接至有机发光二极管OLED的阳极电极。
响应于发射控制信号EM，第五晶体管T5和第六晶体管T6同时导通，使得驱动电流流过有机发光二极管OLED。
第七晶体管T7的栅电极连接至用于施加第二扫描信号Gw-n的第一扫描线SLn-1。第七晶体管T7的第一电极连接至存储电容器Cst的第一电极和第一晶体管T1的栅电极，并且第七晶体管T7的第二电极连接至用于施加初始化电压VINT的初始化电压线ViniL。
存储电容器Cst的第二电极连接至第一电源电压供应线VDDL。存储电容器Cst的第一电极连接至第一晶体管T1的栅电极和第三晶体管T3的第二电极两者。有机发光二极管OLED的阴极电极连接至第二电源电压供应线VSSL。有机发光二极管OLED从第一晶体管T1接收驱动电流并且发光以显示图像。
参照图5、图10和图11，在所示出的根据示例性实施方式的7个晶体管和1个电容器(7T1C)结构中，开口像素PX1的第一-第一栅极图案311可以是用于施加第一扫描信号Gw-p的第二扫描线SLn，并且第一-第二栅极图案313可以是用于施加发射控制信号EM的发射控制线EMLn。第一-第三栅极图案315可以是用于施加第三扫描信号GI的第三扫描线SLn+1。设置在开口像素PX1在列方向上的上侧上以及设置成在列方向上与开口像素PX1的上侧相邻的阻光像素PX2上的第一-第三栅极图案315可以是用于施加第二扫描信号Gw-n的第一扫描线SLn-1。此外，第一-第四栅极图案317可以是第一晶体管T1的栅电极或存储电容器Cst的第一电极。
此外，第二-第一数据图案331可以是用于施加数据信号DATA的数据线DLm，并且第二-第二数据图案333可以是用于施加第一电源电压ELVDD的第一电源电压供应线VDDL。
第二-第三数据图案335电连接至第一-第四栅极图案317，并且可以是以上描述的用于将第一-第四栅极图案317连接至第三晶体管T3的第二电极区域的连接电极。
第二-第四数据图案337可以是用于将第六晶体管T6的第二电极区域连接至第三导电层350的第三-第一阳极图案351的连接电极。
在一些示例性实施方式中，还可以在图6的第二绝缘层740与第三绝缘层750之间设置第四导电层。第四导电层可以包括存储电容器电极线、电压网状电极和用于供应初始化电压VINT(见图11)的初始化电压线ViniL。第二-第三数据图案335可以是连接至初始化电压线ViniL的连接电极。
第二-第五数据图案339可以是用于将第七晶体管T7的第二电极区域电连接至初始化电压线ViniL的连接电极。
在下文，将对根据另一示例性实施方式的显示装置进行描述，并且由相同的附图标记表示与上述示例性实施方式的部件基本上相同的部件，并且因此，将省略或简化对这些基本上相同的部件的描述以避免重复。
图12是根据另一示例性实施方式的显示装置的多个像素的布局图。图13是沿着图12的线XIII-XIII'截取的剖视图。
参照图12和图13，根据示出的示例性实施方式的显示装置2与图5至图8的显示装置1的不同之处在于，在像素PX1和PX2中的每个的第二导电层330与通孔层760之间还设置有低反射金属层332。
更具体地，根据示出的示例性实施方式的显示装置2还可以包括位于第二导电层330与通孔层760之间的低反射金属层332。低反射金属层332可以用于减少反射光L2在第三导电层350与第二导电层330之间被全反射的次数。更具体地，低反射金属层332可以防止入射在第三-第一阳极图案351和352之间的反射光L2在沿着横向方向被全反射的同时传播至光学传感器810。
低反射金属层332可以设置成在厚度方向上与第二导电层330的第二-第一数据图案331重叠。即，低反射金属层332的平面轮廓可以与第二-第一数据图案331的平面轮廓基本上相同。
低反射金属层332的侧表面可以在厚度方向上与第二导电层330的第二-第一数据图案331的侧表面对准。低反射金属层332可以通过使用具有与第二-第一数据图案331基本上相同的形状的掩模来形成，但是本发明构思不限于此。
在一些示例性实施方式中，低反射金属层332可以设置成在厚度方向上与第二导电层330的其他数据图案重叠。例如，低反射金属层332还可以设置在通孔层760与同第三导电层350的导电图案之间的区域部分地重叠的第二-第五数据图案339和第二-第二数据图案333之间。低反射金属层332的平面轮廓可以与第二-第二数据图案333的平面轮廓和第二-第五数据图案339的平面轮廓基本上相同。
更具体地，当反射光L2在低反射金属层332与第三导电层350之间反射四次时，约0.2％或更少的反射光L2可以横向传播。根据示出的示例性实施方式，通过将低反射金属层332布置在第三导电层350与第二导电层330之间，能够防止反射光L2横向传播或至少减少此现象。由此，能够防止横向传播的光行进至光学传感器810，否则这可能对用户指纹形状信息产生噪声。
图14是根据又一示例性实施方式的像素的剖视图，并且图15是示出每种金属的反射率的图。
参照图14和图15，根据示出的示例性实施方式的显示装置与图5的显示装置的不同之处在于像素PX1和PX2中的每个的第三导电层350的构成材料。
更具体地，第三导电层350_1还可以包括低反射金属材料。低反射金属材料可以减少反射光L2在第三导电层350_1与第二导电层330之间被全反射的次数。在示出的示例性实施方式中，第三导电层350_1还可以包括在可见光的波长范围中具有约50％或更小反射率的金属材料。例如，第三导电层350_1还可以包括钛(Ti)。更具体地，钛(Ti)可以在第三导电层350_1的堆叠结构中设置在银(Ag)下方。例如，根据示出的示例性实施方式的第三导电层350_1可以具有ITO/Ti/Ag/ITO的堆叠结构。第三导电层350_1可包括第三-第一阳极图案351_1和352_1。
参照图15，可以看出银(Ag)在可见光的波长范围中具有约80％或更大的反射率，而钛(Ti)在可见光的波长范围中具有约50％或更小的反射率。
在示出的示例性实施方式中，第三导电层350_1还包括低反射金属材料，从而防止反射光L2横向传播或至少减少此现象。因此，能够防止横向传播的光行进至光学传感器810，否则这可能对用户指纹形状信息产生噪声。
图16是根据又一示例性实施方式的像素的剖视图。
参照图16，根据示出的示例性实施方式的显示装置还包括以上参照图14描述的低反射金属材料，但是第三导电层350_2的堆叠结构与图14中所示的堆叠结构不同。更具体地，根据示出的示例性实施方式的第三导电层350_2可以包括例如Ti/Ag/ITO的堆叠结构。第三导电层350_2可包括第三-第一阳极图案351_2和352_2。
另外，第三导电层350_2还包括低反射金属材料，从而防止反射光L2横向传播或至少减少此现象。因此，能够防止横向传播的光行进至光学传感器810，否则这可能对用户指纹形状信息产生噪声。
图17是根据又一示例性实施方式的显示装置的多个像素的布局图。图18是沿着图17的线XVIII-XVIII'截取的剖视图。
参照图17和图18，根据示出的示例性实施方式的显示装置3与图5至图8的显示装置1的不同之处在于，设置在第一导电层310与第二导电层330之间的第四导电层的第四-第一导电图案321设置成同第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域重叠。
更具体地，第四-第一导电图案321可以代替第一-第一栅极图案311设置成同第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域重叠。
像素PX1和PX2中的每个还可以包括第九区域、第十区域、第十一区域和第十二区域，其中，在第九区域中仅设置有第四导电层，在第十区域中第四导电层和第三导电层350设置成彼此重叠，在第十一区域中第四导电层和第二导电层330设置成彼此重叠，在第十二区域中第四导电层、第三导电层350和第二导电层330设置成彼此重叠。
更具体地，如上所述，第三导电层350和第四导电层的第四-第一导电图案321的重叠区域(例如，第十区域)在列方向上的宽度表示这样的宽度：在此宽度下，入射在第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域上的反射光L2在第四导电层与第三导电层350之间被全反射的同时被吸收(LS)并且不行进至光学传感器810；或者表示这样的宽度：即使反射光L2的一部分行进至光学传感器810，也可以生成可忽略的噪声。例如，第三导电层350和第四导电层的重叠区域的宽度(诸如，在列方向上的宽度)可以与第三导电层350和第一导电层310的重叠区域的宽度基本上相同，或者可以小于第三导电层350和第一导电层310的重叠区域的宽度，但不限于此。
因此，通过确保第三导电层350和第四导电层具有足够的重叠宽度，入射在第三-第一阳极图案351和352与第三-第二网格图案355之间的区域上的反射光L2在第三导电层350与第四导电层之间被全反射的同时被吸收(LS)，或者即使反射光L2的一部分行进至光学传感器810，也可以生成可忽略的噪声。
虽然本文中已描述了特定示例性实施方式和实现方式，但是根据该描述，其他实施方式和修改将是显而易见的。因此，本发明构思不受限于这些实施方式，而是受限于所附权利要求的更宽泛的范围以及如将对本领域普通技术人员显而易见的多种明显的修改和等同布置。

Claims (20)

1.显示装置，包括以矩阵布置的多个像素，所述显示装置包括：
衬底；
第一阳极，设置在所述衬底上；以及
不透明导电层，设置在所述衬底与所述第一阳极之间，
其中，所述多个像素包括开口像素，所述开口像素包括第一阳极布置区域、针孔区域以及第一阳极未布置区域，其中，所述针孔区域位于所述第一阳极布置区域内并由所述第一阳极围绕，所述第一阳极未布置区域包括位于所述第一阳极外部的暴露区域，以及
其中，所述不透明导电层完全覆盖所述暴露区域，并至少部分暴露所述针孔区域。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个像素还包括与所述开口像素相邻的阻光像素，
其中，所述阻光像素包括第二阳极布置区域和位于所述第二阳极布置区域周围的第二阳极未布置区域，以及
其中，所述第二阳极未布置区域由所述不透明导电层完全覆盖。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述针孔区域由所述第一阳极完全围绕。
4.根据权利要求2所述的显示装置，还包括：
光学传感器布置区域，与设置在所述衬底下方的光学传感器重叠；以及
光学传感器未布置区域，不与所述光学传感器重叠。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述光学传感器未布置区域仅包括所述阻光像素。
6.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述光学传感器包括光学指纹传感器。
7.根据权利要求2所述的显示装置，还包括光学传感器布置区域，所述光学传感器布置区域与设置在所述衬底下方的光学传感器重叠，
其中，所述光学传感器布置区域包括所述开口像素和所述阻光像素的至少一部分。
8.根据权利要求2所述的显示装置，其中：
所述不透明导电层包括：
第一导电层，设置在所述衬底上；以及
第二导电层，设置在所述第一导电层与所述第一阳极之间。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第二导电层设置成与所述第一阳极布置区域和所述第二阳极布置区域之间的第一间隙重叠。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其中，所述第二导电层延伸至所述第一阳极布置区域和与所述第一阳极布置区域相邻的所述第二阳极布置区域。
11.根据权利要求10所述的显示装置，还包括通孔层，所述通孔层具有第一厚度并且设置在所述第二导电层与所述第一阳极之间，
其中，所述第二导电层从所述第一间隙延伸，使得所述第二导电层在从所述第一阳极朝向第二阳极的方向上与所述第一阳极重叠的部分具有等于或大于所述第一厚度的三倍的第二厚度。
12.根据权利要求9所述的显示装置，其中，所述第一间隙包括：
第一区域，所述第一间隙与所述第二导电层在所述第一区域中彼此重叠；
第二区域，所述第一间隙与所述第一导电层在所述第二区域中彼此重叠；以及
第三区域，所述第一间隙、所述第一导电层和所述第二导电层在所述第三区域中彼此重叠。
13.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第一导电层包括扫描信号线、发射信号线和初始化信号线中的至少一种。
14.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第二导电层包括数据线和第一电源电压线中的至少一种。
15.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一阳极布置区域在所述开口像素中的占有比和所述第二阳极布置区域在所述阻光像素中的占有比分别是80％至95％。
16.显示装置，包括以矩阵布置的多个像素，所述显示装置包括：
衬底；
第一阳极，设置在所述衬底上；以及
不透明导电层，设置在所述衬底与所述第一阳极之间，
其中，所述多个像素包括：
开口像素，包括第一阳极布置区域、针孔区域以及第一阳极未布置区域，其中，所述针孔区域位于所述第一阳极布置区域内并由所述第一阳极围绕，所述第一阳极未布置区域包括位于所述第一阳极外部的暴露区域；以及
阻光像素，与所述开口像素相邻，并且包括第二阳极布置区域和位于所述第二阳极布置区域周围的第二阳极未布置区域，以及
其中，所述不透明导电层完全覆盖所述第一阳极未布置区域的所述暴露区域和所述第二阳极未布置区域，并至少部分暴露所述针孔区域。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述针孔区域由所述第一阳极完全围绕。
18.根据权利要求17所述的显示装置，还包括：
光学传感器布置区域，与设置在所述衬底下方的光学传感器重叠；以及
光学传感器未布置区域，不与所述光学传感器重叠。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中：
所述光学传感器布置区域，包括所述开口像素和所述阻光像素的至少一部分；以及
所述光学传感器未布置区域，仅包括所述阻光像素。
20.根据权利要求18所述的显示装置，其中，所述光学传感器包括光学指纹传感器。
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