CN111413794A - 一种压电式微镜的结构及制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种压电式微镜的结构，包括衬底晶圆，反射镜金属表面，悬臂梁结构，金属连接线，压电薄膜，盖板晶圆，键合界面，吸气剂盒；衬底晶圆作为微镜的支撑与结构层，金属连接线为薄膜状连接线，压电薄膜在悬臂梁结构上；一种压电式微镜的结构的制备方法，衬底晶圆作为微镜的支撑与结构层，在晶圆键合后形成空腔；利用物理气相沉积计划，光刻技术、刻蚀或剥离技术、剖光技术制作微镜的金属反射镜面；压电薄膜利用物理气相沉积或化学气相沉积技术、光刻技术、刻蚀技术在悬臂梁上制成。本发明的优点：加工简单，采用悬臂梁结构，悬臂梁结构上沉积压电材料和利用金属表面作为反射镜，可封装一个或多组排列的镜面，具有光学开关作用及较高的偏转角度，位移控制精确。
Description
技术领域
本发明涉及微镜领域，特别涉及了一种压电式微镜的结构及制备方法。
背景技术
压电式微镜利用了电场变化引起压电材料膨胀的原理，使微镜在一定范围内移动，目前的压电式微镜具有移动范围小、电压要求大等缺陷，同时装置密封复杂，偏转角度精度较难控制。
发明内容
本发明的目的是为了克服上述问题，特提供了一种压电式微镜的结构及制备方法。
本发明提供了一种压电式微镜的结构，其特征在于：所述的压电式微镜的结构，包括衬底晶圆1，空腔2，反射镜金属表面3，悬臂梁结构4，金属连接线5，压电薄膜6，盖板晶圆8，键合界面9，吸气剂盒7；
其中：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3是布置在微镜表面发金属反射镜面，通过一条或多条悬臂梁结构4连接微镜与衬底晶圆1；金属连接线5为薄膜状连接线，压电薄膜6在悬臂梁结构4上，压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号；盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，玻璃晶圆上带有空腔；键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜在空腔2中，受到压电驱动而运动，吸气剂盒7设置在空腔2内。
所述的悬臂梁结构4为1～10条。
所述的盖板晶圆8与衬底晶圆1整体为圆柱状或长方体结构件。
所述的反射镜金属表面3为圆形件。
一种如权利要求1所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3：利用物理气相沉积计划，光刻技术、刻蚀或剥离技术、剖光技术制作的微镜的金属反射镜面；悬臂梁结构4通过1条或多条悬臂梁，将微镜与衬底晶圆1连接；由衬底晶圆1通过薄膜沉积、光刻、刻蚀工艺制作而成；金属连接线5通过物理气相沉积、光刻、刻蚀或剥离工艺制作的金属薄膜连接线；由金、铝、铬、钛、氧化锌等金属或其合金组成，起到电学连接作用；压电薄膜6由PZT、氮化铝压电材料构成，利用物理气相沉积或化学气相沉积技术、光刻技术、刻蚀技术在悬臂梁上制成；压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，从而使微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号。
盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，利用光刻刻蚀技术，在玻璃晶圆上刻蚀出空腔。
键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜可在空腔2中，受到压电驱动而运动。
吸气剂盒7设置在空腔2内，由一种或多种金属及其合金或其氧化物组成，吸收空气，保持空腔2中的真空度，提高微镜使用寿命。
本发明的优点：
本发明所述的压电式微镜的结构及制备方法，加工简单，采用悬臂梁结构，悬臂梁结构上沉积压电材料和利用金属表面作为反射镜，PZT,AlScN,Al,ZnO玻璃封盖，在腔室内采用吸气剂减少真空腔的湿气，提高密封效果；晶圆键合，可封装一个或多组排列的镜面，具有光学开关作用及较高的偏转角度，位移控制精确。
附图说明
下面结合附图及实施方式对本发明作进一步详细的说明：
图1为压电式微镜的结构俯视图；
图2为压电式微镜的结构剖面图。
具体实施方式
实施例1
本发明提供了一种压电式微镜的结构，其特征在于：所述的压电式微镜的结构，包括衬底晶圆1，空腔2，反射镜金属表面3，悬臂梁结构4，金属连接线5，压电薄膜6，盖板晶圆8，键合界面9，吸气剂盒7；
其中：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3是布置在微镜表面发金属反射镜面，通过一条或多条悬臂梁结构4连接微镜与衬底晶圆1；金属连接线5为薄膜状连接线，压电薄膜6在悬臂梁结构4上，压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号；盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，玻璃晶圆上带有空腔；键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜在空腔2中，受到压电驱动而运动，吸气剂盒7设置在空腔2内。
所述的盖板晶圆8与衬底晶圆1整体为圆柱状。
所述的反射镜金属表面3为圆形件。
一种如权利要求1所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3：利用物理气相沉积计划，光刻技术、刻蚀或剥离技术、剖光技术制作的微镜的金属反射镜面；悬臂梁结构4通过1条或多条悬臂梁，将微镜与衬底晶圆1连接；由衬底晶圆1通过薄膜沉积、光刻、刻蚀工艺制作而成；金属连接线5通过物理气相沉积、光刻、刻蚀或剥离工艺制作的金属薄膜连接线；由金、铝、铬、钛、氧化锌等金属或其合金组成，起到电学连接作用；压电薄膜6由PZT、氮化铝压电材料构成，利用物理气相沉积或化学气相沉积技术、光刻技术、刻蚀技术在悬臂梁上制成；压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，从而使微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号。
盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，利用光刻刻蚀技术，在玻璃晶圆上刻蚀出空腔。
键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜可在空腔2中，受到压电驱动而运动。
吸气剂盒7设置在空腔2内，由一种或多种金属及其合金或其氧化物组成，吸收空气，保持空腔2中的真空度，提高微镜使用寿命。
实施例2
本发明提供了一种压电式微镜的结构，其特征在于：所述的压电式微镜的结构，包括衬底晶圆1，空腔2，反射镜金属表面3，悬臂梁结构4，金属连接线5，压电薄膜6，盖板晶圆8，键合界面9，吸气剂盒7；
其中：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3是布置在微镜表面发金属反射镜面，通过一条或多条悬臂梁结构4连接微镜与衬底晶圆1；金属连接线5为薄膜状连接线，压电薄膜6在悬臂梁结构4上，压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号；盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，玻璃晶圆上带有空腔；键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜在空腔2中，受到压电驱动而运动，吸气剂盒7设置在空腔2内。
所述的悬臂梁结构4为2条。
所述的盖板晶圆8与衬底晶圆1整体为长方体结构件。
一种如权利要求1所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3：利用物理气相沉积计划，光刻技术、刻蚀或剥离技术、剖光技术制作的微镜的金属反射镜面；悬臂梁结构4通过1条或多条悬臂梁，将微镜与衬底晶圆1连接；由衬底晶圆1通过薄膜沉积、光刻、刻蚀工艺制作而成；金属连接线5通过物理气相沉积、光刻、刻蚀或剥离工艺制作的金属薄膜连接线；由金、铝、铬、钛、氧化锌等金属或其合金组成，起到电学连接作用；压电薄膜6由PZT、氮化铝压电材料构成，利用物理气相沉积或化学气相沉积技术、光刻技术、刻蚀技术在悬臂梁上制成；压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，从而使微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号。
盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，利用光刻刻蚀技术，在玻璃晶圆上刻蚀出空腔。
键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜可在空腔2中，受到压电驱动而运动。
吸气剂盒7设置在空腔2内，由一种或多种金属及其合金或其氧化物组成，吸收空气，保持空腔2中的真空度，提高微镜使用寿命。
实施例3
本发明提供了一种压电式微镜的结构，其特征在于：所述的压电式微镜的结构，包括衬底晶圆1，空腔2，反射镜金属表面3，悬臂梁结构4，金属连接线5，压电薄膜6，盖板晶圆8，键合界面9，吸气剂盒7；
其中：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3是布置在微镜表面发金属反射镜面，通过一条或多条悬臂梁结构4连接微镜与衬底晶圆1；金属连接线5为薄膜状连接线，压电薄膜6在悬臂梁结构4上，压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号；盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，玻璃晶圆上带有空腔；键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜在空腔2中，受到压电驱动而运动，吸气剂盒7设置在空腔2内。
所述的悬臂梁结构4为10条。
所述的盖板晶圆8与衬底晶圆1整体为圆柱状结构件。
所述的反射镜金属表面3为圆形件。
一种如权利要求1所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：衬底晶圆1作为微镜的支撑与结构层，空腔2在沉积晶圆1上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔2；反射镜金属表面3：利用物理气相沉积计划，光刻技术、刻蚀或剥离技术、剖光技术制作的微镜的金属反射镜面；悬臂梁结构4通过1条或多条悬臂梁，将微镜与衬底晶圆1连接；由衬底晶圆1通过薄膜沉积、光刻、刻蚀工艺制作而成；金属连接线5通过物理气相沉积、光刻、刻蚀或剥离工艺制作的金属薄膜连接线；由金、铝、铬、钛、氧化锌等金属或其合金组成，起到电学连接作用；压电薄膜6由PZT、氮化铝压电材料构成，利用物理气相沉积或化学气相沉积技术、光刻技术、刻蚀技术在悬臂梁上制成；压电薄膜6与金属连接5相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，从而使微镜反射镜金属表面3倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号。
盖板晶圆8由玻璃晶圆构成，利用光刻刻蚀技术，在玻璃晶圆上刻蚀出空腔。
键合界面9是盖板晶圆8与衬底晶圆1键合后的键合界面，盖板晶圆8与衬底晶圆1通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔2，微镜可在空腔2中，受到压电驱动而运动。
吸气剂盒7设置在空腔2内，由一种或多种金属及其合金或其氧化物组成，吸收空气，保持空腔2中的真空度，提高微镜使用寿命。
Claims (8)
1.一种压电式微镜的结构，其特征在于：所述的压电式微镜的结构，包括衬底晶圆(1)，空腔(2)，反射镜金属表面(3)，悬臂梁结构(4)，金属连接线(5)，压电薄膜(6)，盖板晶圆(8)，键合界面(9)，吸气剂盒(7)；
其中：衬底晶圆(1)作为微镜的支撑与结构层，空腔(2)在沉积晶圆(1)上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔(2)；反射镜金属表面(3)是布置在微镜表面发金属反射镜面，通过一条或多条悬臂梁结构(4)连接微镜与衬底晶圆(1)；金属连接线(5)为薄膜状连接线，压电薄膜(6)在悬臂梁结构(4)上，压电薄膜(6)与金属连接(5)相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，微镜反射镜金属表面(3)倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号；盖板晶圆(8)由玻璃晶圆构成，玻璃晶圆上带有空腔；键合界面(9)是盖板晶圆(8)与衬底晶圆(1)键合后的键合界面，盖板晶圆(8)与衬底晶圆(1)通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔(2)，微镜在空腔(2)中，受到压电驱动而运动，吸气剂盒(7)设置在空腔(2)内。
2.按照权利要求1所述的压电式微镜的结构，其特征在于：所述的悬臂梁结构(4)为1～10条。
3.按照权利要求1所述的压电式微镜的结构，其特征在于：所述的盖板晶圆(8)与衬底晶圆(1)整体为圆柱状或长方体结构件。
4.按照权利要求1所述的压电式微镜的结构，其特征在于：所述的反射镜金属表面(3)为圆形件。
5.一种如权利要求1所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：所述的压电式微镜的结构的制备方法中，衬底晶圆(1)作为微镜的支撑与结构层，空腔(2)在沉积晶圆(1)上，为凹槽结构，在晶圆键合后形成空腔(2)；反射镜金属表面(3)：利用物理气相沉积计划，光刻技术、刻蚀或剥离技术、剖光技术制作的微镜的金属反射镜面；悬臂梁结构(4)通过1条或多条悬臂梁，将微镜与衬底晶圆(1)连接；由衬底晶圆(1)通过薄膜沉积、光刻、刻蚀工艺制作而成；金属连接线(5)通过物理气相沉积、光刻、刻蚀或剥离工艺制作的金属薄膜连接线；由金、铝、铬、钛、氧化锌等金属或其合金组成，起到电学连接作用；压电薄膜(6)由PZT、氮化铝压电材料构成，利用物理气相沉积或化学气相沉积技术、光刻技术、刻蚀技术在悬臂梁上制成；压电薄膜(6)与金属连接(5)相连，在通电的情况下，压电薄膜会产生力，造成悬臂梁的弯曲，从而使微镜反射镜金属表面(3)倾斜或偏转，实现偏转、反射光信号。
6.按照权利要求5所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：盖板晶圆(8)由玻璃晶圆构成，利用光刻刻蚀技术，在玻璃晶圆上刻蚀出空腔。
7.按照权利要求5所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：键合界面(9)是盖板晶圆(8)与衬底晶圆(1)键合后的键合界面，盖板晶圆(8)与衬底晶圆(1)通过共晶键合，阳极键合、玻璃浆料键合、焊料键合技术键合成一个整体，形成空腔(2)，微镜可在空腔(2)中，受到压电驱动而运动。
8.按照权利要求5所述的压电式微镜的结构的制备方法，其特征在于：吸气剂盒(7)设置在空腔(2)内，由一种或多种金属及其合金或其氧化物组成，吸收空气，保持空腔(2)中的真空度。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112965238A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-15 | 西安知象光电科技有限公司 | 一种压电驱动的真空密封微镜 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5629790A (en) * | 1993-10-18 | 1997-05-13 | Neukermans; Armand P. | Micromachined torsional scanner |
| CN101226274A (zh) * | 2007-11-29 | 2008-07-23 | 上海交通大学 | 压电驱动的可变形反射镜及其制造方法 |
| CN104093552A (zh) * | 2011-11-29 | 2014-10-08 | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 | 用于生产结构化光学部件的方法 |
| US20170297898A1 (en) * | 2016-04-18 | 2017-10-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Scanning mirror device and a method for manufacturing it |
| CN109782431A (zh) * | 2017-11-13 | 2019-05-21 | 株式会社村田制作所 | 具有中央支撑件的微机电反射器 |
-
2020
- 2020-04-26 CN CN202010337452.4A patent/CN111413794A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5629790A (en) * | 1993-10-18 | 1997-05-13 | Neukermans; Armand P. | Micromachined torsional scanner |
| CN101226274A (zh) * | 2007-11-29 | 2008-07-23 | 上海交通大学 | 压电驱动的可变形反射镜及其制造方法 |
| CN104093552A (zh) * | 2011-11-29 | 2014-10-08 | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 | 用于生产结构化光学部件的方法 |
| US20170297898A1 (en) * | 2016-04-18 | 2017-10-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Scanning mirror device and a method for manufacturing it |
| CN109782431A (zh) * | 2017-11-13 | 2019-05-21 | 株式会社村田制作所 | 具有中央支撑件的微机电反射器 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112965238A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-15 | 西安知象光电科技有限公司 | 一种压电驱动的真空密封微镜 |
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