CN111389831A - 一种立式真空消毒设备的清洗装置及其清洗方法 - Google Patents

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张建斌
周文华
陈长才
吕欣磊
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    • B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
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    • B08B9/093—Cleaning containers, e.g. tanks by the force of jets or sprays

Abstract

本发明提供了一种立式真空消毒设备的清洗装置及其清洗方法，其特征在于，立式真空消毒设备上设置有供清洗装置放入立式真空消毒设备内的预留孔，冲洗装置为可充气的橡胶圈，橡胶圈上橡胶圈外壁上设置有刷头，橡胶圈在充气达到预设值后刷头贴合立式真空消毒设备内壁。将清洗设备从预留孔中置入立式真空消毒设备内，然后对清洗设备的橡胶圈进行充气处理，充气达到预设值后，此时橡胶圈表面的刷头与立式真空消毒设备内壁紧贴，利用刷头完成对立式真空消毒设备内壁的清洗。本发明中清洗装置采用橡胶圈充气至预设值，使得橡胶圈表面的刷头贴合立式真空消毒设备内壁，从而完成对立式真空消毒设备内壁的清理，克服了传统的针对立式清洗困难的问题。

Description

一种立式真空消毒设备的清洗装置及其清洗方法
技术领域
本发明属于设备清洗领域，更具体地说，涉及一种立式真空消毒设备的清洗装置及其清洗方法。
背景技术
真空消毒设备在制药行业中可对瓶塞、操作工具、大量的工作服等不需降温防爆的布类物品或药品进行灭菌，也可用于制药行业中生产卫生材料、敷料、器械等产品的单位作灭菌设备，可用于药材的灭菌、熏蒸和烘干。也可用于食品灭菌。原理是利用饱和蒸汽在冷凝时释放出大量潜热的物理特性，使待灭菌的物品处于高温和潮湿的状态，经过一段时间的保温从而达到灭菌的目的。利用的是高温饱和蒸汽穿透力强的特性。脉动真空灭菌器主要用于对空腔物品及器具等进行蒸汽灭菌。然而真空消毒设备在后期的清理，尤其是立式真空消毒设备的处理，尤其相对体积较大较高，处理尤为不方便。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种立式真空消毒设备的清洗装置及其清洗方法，具体方案如下：
本发明是一种立式真空消毒设备的清洗装置，其特点是，所述立式真空消毒设备上设置有供清洗装置放入立式真空消毒设备内的预留孔，所述冲洗装置为可充气的橡胶圈，所述橡胶圈上橡胶圈外壁上设置有刷头，所述橡胶圈在充气达到预设值后所述刷头贴合立式真空消毒设备内壁。
本发明一种立式真空消毒设备的清洗装置技术方案中，进一步优选的技术方案特征是：
1、所述橡胶圈上设置有若干喷嘴，所述喷嘴的启动压力大于橡胶圈充气预设值，所述喷嘴通过管路与立式真空消毒设备外部设置的高压水箱和高压水泵相连。
2、所述喷嘴为敞口式结构，喷嘴的喷射角度在150-170度。
3、所述橡胶圈底部设置有凸起，所述凸起在清洗设备置入立式真空消毒设备后从立式真空消毒设备底部的出液口伸出。
4、所述出液口位置处设置有夹紧所述凸起的抱夹装置。
一种立式真空消毒设备的清洗方法，应用立式真空消毒设备的清洗装置，其特点是，具体步骤如下：
将清洗设备从预留孔中置入立式真空消毒设备内，然后对清洗设备的橡胶圈进行充气处理，充气达到预设值后，此时橡胶圈表面的刷头与立式真空消毒设备内壁紧贴，利用刷头完成对立式真空消毒设备内壁的清洗。
与现有技术相比，本发明中清洗装置采用橡胶圈充气至预设值，使得橡胶圈表面的刷头贴合立式真空消毒设备内壁，从而完成对立式真空消毒设备内壁的清理，上述结构针对高大的立式结构在清洗方面显得尤为方面，克服了传统的针对立式清洗困难的问题。
附图说明
图1是本发明中立式真空消毒设备的清洗装置充气状态的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的立式真空消毒设备的清洗装置中立式真空消毒设备上设置有供清洗装置放入立式真空消毒设备内的预留孔，所述冲洗装置为可充气的橡胶圈1，所述橡胶圈1上橡胶圈外壁上设置有刷头2，所述橡胶圈在充气达到预设值后所述刷头2贴合立式真空消毒设备内壁。清洗时，将清洗设备从预留孔中置入立式真空消毒设备内，然后对清洗设备的橡胶圈进行充气处理，充气达到预设值后，此时橡胶圈表面的刷头与立式真空消毒设备内壁紧贴，利用刷头完成对立式真空消毒设备内壁的清洗。本发明中清洗装置采用橡胶圈充气至预设值，使得橡胶圈表面的刷头贴合立式真空消毒设备内壁，从而完成对立式真空消毒设备内壁的清理，上述结构针对高大的立式结构在清洗方面显得尤为方面，克服了传统的针对立式清洗困难的问题。
上述的橡胶圈上设置有若干喷嘴3，所述喷嘴的启动压力大于橡胶圈充气预设值，所述喷嘴3通过管路4与立式真空消毒设备外部设置的高压水箱5和高压水泵6相连。利用喷嘴3的启动压力大于橡胶圈1充气预设值的特点，在橡胶圈继续充气后达到喷嘴的启动压力后，喷嘴中喷出高压的水柱完成对立式真空消毒设备内壁的高压冲洗。
为了保证冲洗的角度最大化，喷嘴为敞口式结构，喷嘴3的喷射角度在150-170度。为了便于橡胶圈的定位和防止橡胶圈移位等操作，橡胶圈底部设置有凸起7，所述凸起在清洗设备置入立式真空消毒设备后从立式真空消毒设备底部的出液口伸出，出液口位置处设置有夹紧所述凸起的抱夹装置。
以上所述，仅为本发明专利优选的实施例，但本发明专利的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明专利所公开的范围内，根据本发明专利的技术方案及其发明专利构思加以等同替换或改变，都属于本发明专利的保护范围。

Claims (6)

1.一种立式真空消毒设备的清洗装置，其特征在于，所述立式真空消毒设备上设置有供清洗装置放入立式真空消毒设备内的预留孔，所述冲洗装置为可充气的橡胶圈，所述橡胶圈上橡胶圈外壁上设置有刷头，所述橡胶圈在充气达到预设值后所述刷头贴合立式真空消毒设备内壁。
2.根据权利要求1所述的立式真空消毒设备的清洗装置，其特征在于，所述橡胶圈上设置有若干喷嘴，所述喷嘴的启动压力大于橡胶圈充气预设值，所述喷嘴通过管路与立式真空消毒设备外部设置的高压水箱和高压水泵相连。
3.根据权利要求2所述的立式真空消毒设备的清洗装置，其特征在于，所述喷嘴为敞口式结构，喷嘴的喷射角度在150-170度。
4.根据权利要求1所述的立式真空消毒设备的清洗装置，其特征在于，所述橡胶圈底部设置有凸起，所述凸起在清洗设备置入立式真空消毒设备后从立式真空消毒设备底部的出液口伸出。
5.根据权利要求4所述的立式真空消毒设备的清洗装置，其特征在于，所述出液口位置处设置有夹紧所述凸起的抱夹装置。
6.一种立式真空消毒设备的清洗方法，应用如权利要求1至5其中任何一项所述的立式真空消毒设备的清洗装置，其特征在于，具体步骤如下：
将清洗设备从预留孔中置入立式真空消毒设备内，然后对清洗设备的橡胶圈进行充气处理，充气达到预设值后，此时橡胶圈表面的刷头与立式真空消毒设备内壁紧贴，利用刷头完成对立式真空消毒设备内壁的清洗。
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