CN111383320A - 虚拟模型处理方法、装置、设备及存储介质 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种虚拟模型处理方法、装置、设备及存储介质，涉及模型处理技术领域。该方法包括：获取待处理的虚拟模型；渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线；采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，所述目标虚拟模型具有所述勾线以及所述勾线的细节。本申请可以通过渐变遮罩贴图和光照遮蔽得到虚拟模型的勾线，随后通过法线贴图对虚拟模型的勾线进行处理，得到勾线经过细节处理后的目标虚拟模型，这样的处理方式相对于传统技术，由于均使用的是纯色贴图，不需要手绘贴图，所以降低了工作量，缩短了制作周期，且经过法线贴图处理后的虚拟模型效果更好。
Description
技术领域
本申请涉及模型处理技术领域，具体而言，涉及一种虚拟模型处理方法、装置、设备及存储介质。
背景技术
国画美术是一种具有主观意识，追求意境和感觉的美术风格。不论是勾线，还是山石其中的细节机理，都是一气呵成一笔完成，从而形成的笔触效果十分自然，这些笔触效果便成为山石的细节效果。但若对其中的细节重复修改，突破，细化，便失去了其中韵味。
现有的国画风格游戏产品，多以分UV画贴图的技术制作。在贴图中，刻画国画特征的美术效果，如笔触，泼墨，肌理，等。或者为了达到国画中的晕染效果，也会采用透明材质，在上面绘制半透明的细节效果。
但是这样的处理方式，由于贴图的绘制需要根据需求，人工绘制较大尺寸的贴图，所以工作量大，人工成本高，制作周期长。
发明内容
本申请的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种虚拟模型处理方法、装置、设备及存储介质，以解决的问题。
为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案如下：
第一方面，本申请实施例提供了一种虚拟模型处理方法，所述方法包括：
获取待处理的虚拟模型；
采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线；
采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，所述目标虚拟模型具有所述勾线以及所述勾线的细节。
可选地，所述采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线，包括：
对所述渐变遮罩贴图的参数进行调节；
根据调节后的所述渐变遮罩贴图和所述光照遮蔽贴图，对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线。
可选地，所述参数包括下述至少一种参数：贴图大小、明暗比例、明暗过渡范围、明暗对应关系。
可选地，所述采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，包括：
对所述法线贴图，进行调节；
根据调节后的所述法线贴图，对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到所述目标虚拟模型。
可选地，所述对所述法线贴图，进行调节，包括:
对所述法线贴图的法线强度参数进行调节；和/或，
对所述法线贴图的大小进行缩放调节。
可选地，所述采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型之前，所述方法还包括：
根据所述虚拟模型的材质，选择所述材质对应的法线贴图。
可选地，所述虚拟模型为应用于国画风格游戏场景中的模型。
第二方面，本申请实施例还提供一种虚拟模型处理装置，所述装置包括：获取模块和处理模块，其中：
所述获取模块，用于获取待处理的虚拟模型；
所述处理模块，用于采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线；
所述处理模块，还用于采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，所述目标虚拟模型具有所述勾线以及所述勾线的细节。
可选地，所述装置还包括调节模块，用于对所述渐变遮罩贴图的参数进行调节；
所述处理模块，还用于根据调节后的所述渐变遮罩贴图和所述光照遮蔽贴图，对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线。
可选地，所述调节模块，还用于对所述法线贴图，进行调节；
所述处理模块，还用于根据调节后的所述法线贴图，对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到所述目标虚拟模型。
可选地，所述调节模块，还用于对所述法线贴图的法线强度参数进行调节；和/或，对所述法线贴图的大小进行缩放调节。
可选地，所述装置还包括：选择模块，用于根据所述虚拟模型的材质，选择所述材质对应的法线贴图。
第三方面，本申请实施例还提供一种虚拟模型处理设备，包括：处理器、存储介质和总线，所述存储介质存储有所述处理器可执行的机器可读指令，当虚拟模型处理设备运行时，所述处理器与所述存储介质之间通过总线通信，所述处理器执行所述机器可读指令，以执行如上述第一方面任一所述方法的步骤。
第四方面，本申请实施例还提供一种存储介质，所述存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被读取并执行时，实现上述第一方面所提供的任一方法。
本申请的有益效果是：通过渐变遮罩贴图和光照遮蔽得到虚拟模型的勾线，随后通过法线贴图对虚拟模型的勾线进行处理，得到勾线经过细节处理后的目标虚拟模型，这样的处理方式相对于传统技术，由于可以不需要手绘贴图，使用纯色贴图就可以实现更细节的笔触风格效果，所以降低了工作量，缩短了制作周期。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请一实施例提供的一种虚拟模型处理方法的流程示意图；
图2为本申请一实施例提供的勾线效果图；
图3为本申请一实施例提供的法线处理后的勾线效果图；
图4为本申请另一实施例提供的一种虚拟模型处理方法的流程示意图；
图5为本申请另一实施例提供的一种虚拟模型处理方法的流程示意图；
图6为本申请另一实施例提供的一种虚拟模型处理方法的流程示意图；
图7为本申请另一实施例提供的法线处理后的勾线效果图；
图8为本申请一实施例提供的正常虚拟模型和经过法线处理后的虚拟模型的对比图；
图9为本申请一实施例提供的一种虚拟模型处理装置的结构示意图；
图10为本申请另一实施例提供的一种虚拟模型处理装置的结构示意图；
图11为本申请另一实施例提供的一种虚拟模型处理装置的结构示意图；
图12为本申请一实施例提供的一种虚拟模型处理设备的结构示意图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
本申请可适用于游戏配置过程中的虚拟模型处理场景，本申请提供的虚拟模型处理方法，可由游戏开发过程中的处理设备执行，该设备可以为安装有游戏中模型处理应用的计算机设备、服务器或者其他类型的终端，具体设备类型根据用户需要设计，本申请在此不做任何限制。
图1为本申请一实施例提供的虚拟模型处理方法的流程示意图，如图1所示，该方法可包括：
S101：获取待处理的虚拟模型。
其中，虚拟模型为用户预先导入的需要处理的模型，为应用于国画风格游戏场景中的模型。
可选地，待处理的虚拟模型可以为片面模型，也可以为三维模型，本申请在此不做任何限制，下述实施例均以对三维虚拟模型的处理为例进行说明，具体导入的模型可以根据用户需要调整。该虚拟模型可以为虚拟人物模型、虚拟动物模型、虚拟静物模型等任一模型。在一些可能的示例中，该虚拟模型例如可以为：虚拟石头模型、虚拟流水模型，或者虚拟树木模型等。
S102：采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽(LightMask)贴图对虚拟模型进行处理，得到虚拟模型的勾线。
可选地，在本申请的一个实施例中，使用NdotV的材质基础光照方法，将渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图关联后对虚拟模型进行处理，处理后的虚拟模型的勾线，即处理后的虚拟模型中具有勾线。
其中，渐变遮罩贴图指定了光影的开关功能，可以通过参数的调整控制黑白之间的比例。贴图左边控制了模型的暗面，右边控制了模型的亮面。黑色代表显示，白色代表隐藏，灰色是半透。
示例地，图2为本申请一实施例提供的勾线效果图，图2中以虚拟模型为虚拟石头模型为例，经过渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对虚拟模型进行处理后，模型的勾线可以如图2所示，其中，最左边为对虚拟石头模型勾线后的整体图，右边两幅为勾线后的石头模型的局部图。其中，光照遮蔽贴图的底色可以为灰色，但是光照遮蔽贴图的底色可以根据用户需要调整为其他颜色，本申请在此不做任何限制。可通过设置光照遮蔽贴图的底色，实现对虚拟模型的勾线颜色的设置。采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对虚拟模型进行处理，可使得处理后的虚拟模型的勾线的颜色即为该光照遮蔽贴图的底色。
在图2的实施例中，由于光照遮蔽渐变遮罩贴图的参数设置可以为左边为黑色，右边为白色，其中，黑色表示虚拟模型的暗面，白色可表示虚拟模型的明面。这样与光照遮蔽贴图关联后，会使得覆盖在虚拟模型上的光照遮蔽贴图在虚拟模型的暗面(即渐变遮罩贴图左边的黑色部分)上显示，光照遮蔽贴图在虚拟模型的亮面(即渐变遮罩贴图右边的白色部分)隐藏，这样就得到了虚拟模型的勾线，具有勾线的虚心模型可以如图2所示。
S103：采用法线贴图对虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型。
其中，目标虚拟模型具有勾线以及勾线的细节。
示例地，图3为本申请一实施例提供的法线处理后的勾线效果图，图3的场景可以与上述图2相同，此时由于法线贴图关联了渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图，使得勾线效果的光照遮蔽贴图受到法线贴图细节的影响，呈现出勾线的细节。具有勾线细节的虚拟模型可以为如图3所示，其中，最左边为对虚拟石头模型经过法线贴图的细节处理后的勾线整体图，右边两幅为经过法线贴图的细节处理后的勾线局部图。
其中，在本申请的一个实施例中，法线贴图不需要专属定制，可以根据需求改变，结合渐变遮罩贴图后，法线贴图可以对多种不同的贴图进行影响，从而满足不同的需求。
采用本申请提供的虚拟模型处理方法，通过渐变遮罩贴图和光照遮蔽得到虚拟模型的勾线，随后通过法线贴图对虚拟模型的勾线进行处理，得到勾线经过细节处理后的目标虚拟模型，这样的处理方式相对于传统技术，由于均使用的是纯色贴图，不需要手绘贴图，所以降低了工作量，缩短了制作周期，且经过法线贴图处理后的虚拟模型效果更好。
现有技术中，对模型的细节进行处理的方式非常繁琐，首先需要制作表现力差距很大的低模和高模，先在低模UV展开命令下的属性面板内，点击打开UV编辑器后，选择菜单栏-渲染-渲染到纹理，将高模的光影细节导出来完成3dmax渲染法线贴图；随后分别勾选启用选定对象、启用投影帖图后，再点击选取添加高模作为3dmax渲染法线贴图对象。输出中添加NormalMap，点击方式打开渲染器设置在渲染器中过滤器：Catmull-Rom，并勾选启用全局超级采样器，最后才可以开始3dmax渲染法线贴图的操作。而本申请的法线贴图不需要专属定制，可以根据需求改变，通过技术调控直接对勾线的细节进行差异化处理，从而实现各式不同的国画笔触细节。并且采用本申请提出的方法得到的细节效果具有随机性，笔触更自然，更接近国画特点。
图4为本申请另一实施例提供的虚拟模型处理方法的流程示意图，如图4所示，S102可包括：
S104：对渐变遮罩贴图的参数进行调节。
可选地，在本申请的一个实施例中，参数可以包括下述至少一种参数：贴图大小、明暗比例、明暗过渡范围、明暗对应关系。
其中，明暗比例即为渐变遮罩贴图的黑白比例，明暗过渡范围即为渐变遮罩贴图黑白过渡中，灰色区域的范围，明暗对应关系即为渐变遮罩贴图黑色区域和白色区域的位置关系；可选地，明暗对应关系可以为：黑色区域在上方、白色区域在下方；也可以为黑色区域在下方、白色区域在上方；也可以为黑色区域在左方、白色区域在右方；也可以为黑色区域在右方、白色区域在左方；具体参数的设置和调整可以根据用户需要设计，本申请在此不做任何限制。
S105：根据调节后的渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图，对虚拟模型进行处理，得到虚拟模型的勾线。
其中，通过调节后的渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图，对虚拟模型进行处理，可以使得对模型的处理可以根据用户需要设计，例如模型哪里为阴影部分，哪里为光照部分，阴影部分和光照部分的过渡设置，均可根据用户需要调整，这样就可以使得虚拟模型的处理更加精细，处理效果更好。
在上述任一所示的方法的基础上，本申请实施例还可提供一种虚拟模型处理方法，如下进行示例说明。图5为本申请另一实施例提供的虚拟模型处理方法的流程示意图，如图5所示，S103可包括：
S106：对法线贴图进行调节。
可选地，调节可包括：对法线贴图的法线强度参数进行调节；和/或，对法线贴图的大小进行缩放调节；具体调节方式可以根据用户需要设计，本申请在此不做任何限制。
S107：根据调节后的法线贴图，对虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型。
其中，可以通过切换不同的法线贴图达到调控不同的细节，也可以通过对法线贴图渲染强度参数的调整来控制渲染效果，由于虚拟模型可能是由多张不同的贴图组合成的，因此也可以指定不同的贴图是否受到法线贴图的影响，以及调整受到法线贴图影响的强度；这样多方面的细节调控，可以实现各种类型的国画笔触细节，并且这样通过这样的方法得到的细节效果具有随机性，笔触更加自然，更接近国画的特点。
图6为本申请另一实施例提供的虚拟模型处理方法的流程示意图，如图6所示，S103之前，该方法还包括：
S108：根据虚拟模型的材质，选择材质对应的法线贴图。
举例说明：若虚拟模型为虚拟石头模型，可以选择石头照片转换的法线贴图；若虚拟模型为虚拟河流模型，可以选择河流照片转换的法线贴图；若虚拟模型为虚拟人物模型，可以选择人像照片转换的法线贴图；具体法线贴图的选择可以根据用户的需要，以及虚拟模型的材质来确定，本申请在此不做任何限制。
示例地，图7为本申请另一实施例提供的法线贴图处理后的虚拟模型的勾线示意图，图7的场景仍与图2相同，此时通过调整法线贴图的强度参数，来调整笔触的大小；用户可以根据不同的风格需求，替换不同的法线贴图来制作不同风格的细节，图7中的三幅图分别为笔触大小不同时，对应的三张不同的效果图；在如图7所示的实施例中，法线贴图均是以石头照片转成的法线贴图，因此寻找的途径简单，制作难度较低。
图8为本申请一实施例提供的正常虚拟模型和经过法线处理后的虚拟模型的对比图，如图8所示，左边是正常的光照遮蔽贴图覆盖在虚拟模型上后的效果，右边为使用法线对其进行处理后的效果，可见经过本申请提出的方法处理后的模型，勾线的效果与国画的效果更加类似，笔触更加自然，更接近国画的特点。
本申请提供的虚拟模型处理方法，通过将渐变遮罩贴图和光照遮蔽得到虚拟模型的勾线，随后通过法线贴图对虚拟模型的勾线进行处理，处理过程中可以根据需要对法线贴图进行调节，从而得到勾线经过细节处理后的目标虚拟模型，这样的处理方式相对于传统技术，由于均使用的是纯色贴图，不需要手绘贴图，所以降低了工作量，缩短了制作周期，且经过法线贴图处理后的虚拟模型效果更好；并且由于法线贴图的材质是根据虚拟模型的材质，在获取到材质相同的照片后直接转换成的，所以法线贴图的寻求途径简单，制作难度低，进一步降低了工作量。
下述对用以执行的本申请所提供的方法的装置、设备及存储介质等进行说明，其具体的实现过程以及技术效果参见上述，下述不再赘述。
图9为本申请一实施例提供的一种虚拟模型处理装置的结构示意图，如图9所示，该装置可包括：获取模块201和处理模块202，其中：
获取模块201，用于获取待处理的虚拟模型。
处理模块202，用于采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对虚拟模型进行处理，得到虚拟模型的勾线；采用法线贴图对虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，目标虚拟模型具有勾线以及勾线的细节。
图10为本申请一实施例提供的一种虚拟模型处理装置的结构示意图，如图10所示，该装置还包括：调节模块203，用于对渐变遮罩贴图的参数进行调节。
处理模块202，还用于根据调节后的渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图，对虚拟模型进行处理，得到虚拟模型的勾线。
可选地，调节模块203，还用于对法线贴图，进行调节。
处理模块202，还用于根据调节后的法线贴图，对虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型。
可选地，调节模块203，还用于对法线贴图的法线强度参数进行调节；和/或，对法线贴图的大小进行缩放调节。
图11为本申请一实施例提供的一种虚拟模型处理装置的结构示意图，如图11所示，该装置还包括：选择模块204，用于根据虚拟模型的材质，选择材质对应的法线贴图。
上述装置用于执行前述实施例提供的方法，其实现原理和技术效果类似，在此不再赘述。
以上这些模块可以是被配置成实施以上方法的一个或多个集成电路，例如：一个或多个特定集成电路(Application Specific Integrated Circuit，简称ASIC)，或，一个或多个微处理器(digital singnal processor，简称DSP)，或，一个或者多个现场可编程门阵列(Field Programmable Gate Array，简称FPGA)等。再如，当以上某个模块通过处理元件调度程序代码的形式实现时，该处理元件可以是通用处理器，例如中央处理器(CentralProcessing Unit，简称CPU)或其它可以调用程序代码的处理器。再如，这些模块可以集成在一起，以片上系统(system-on-a-chip，简称SOC)的形式实现。
图12为本申请实施例提供的又一种装置的示意图，该装置可以集成于设备或者设备的芯片，该设备可以是具备功能的计算设备或服务器。
如图12所示，该设备包括：处理器501、存储介质502和总线503。
处理器501用于存储程序，处理器501调用存储介质502存储的程序，存储介质502存储有处理器501可执行的机器可读指令，当虚拟模型处理设备运行时，处理器501与存储介质502之间通过总线503通信，处理器501执行机器可读指令，以执行上述方法实施例。具体实现方式和技术效果类似，这里不再赘述。
可选地，本申请还提供一种程序产品，例如计算机可读存储介质，包括程序，该程序在被处理器执行时用于执行上述方法实施例。
在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。
所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外，在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用硬件加软件功能单元的形式实现。
上述以软件功能单元的形式实现的集成的单元，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。上述软件功能单元存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等)或处理器(英文：processor)执行本申请各个实施例所述方法的部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(英文：Read-Only Memory，简称：ROM)、随机存取存储器(英文：Random Access Memory，简称：RAM)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
上仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种虚拟模型处理方法，其特征在于，所述方法包括：
获取待处理的虚拟模型；
采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线；
采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，所述目标虚拟模型具有所述勾线以及所述勾线的细节。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线，包括：
对所述渐变遮罩贴图的参数进行调节；
根据调节后的所述渐变遮罩贴图和所述光照遮蔽贴图，对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述参数包括下述至少一种参数：贴图大小、明暗比例、明暗过渡范围、明暗对应关系。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，包括：
对所述法线贴图进行调节；
根据调节后的所述法线贴图，对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到所述目标虚拟模型。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述对所述法线贴图进行调节，包括:
对所述法线贴图的法线强度参数进行调节；和/或，
对所述法线贴图的大小进行缩放调节。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型之前，所述方法还包括：
根据所述虚拟模型的材质，选择所述材质对应的法线贴图。
7.根据权利要求1-6任一项所述的方法，其特征在于，所述虚拟模型为应用于国画风格游戏场景中的模型。
8.一种虚拟模型处理装置，其特征在于，所述装置包括：获取模块和处理模块，其中：
所述获取模块，用于获取待处理的虚拟模型；
所述处理模块，用于采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线；
所述处理模块，还用于采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，所述目标虚拟模型具有所述勾线以及所述勾线的细节。
9.一种虚拟模型处理设备，其特征在于，包括：存储器和处理器，所述存储器存储有所述处理器可执行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述权利要求1-6任一项所述的方法。
10.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被读取并执行时，实现上述权利要求1-6任一项所述的方法。
Priority Applications (1)
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