CN111240067B - 一种显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

一种显示面板及其制造方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN111240067B
CN111240067B CN202010129031.2A CN202010129031A CN111240067B CN 111240067 B CN111240067 B CN 111240067B CN 202010129031 A CN202010129031 A CN 202010129031A CN 111240067 B CN111240067 B CN 111240067B
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
strip
shaped groove
orthographic projection
base plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010129031.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111240067A (zh
Inventor
齐智坚
杨妮
顾可可
胡琪
李云泽
赵齐
陈雪芳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chongqing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chongqing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chongqing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202010129031.2A priority Critical patent/CN111240067B/zh
Publication of CN111240067A publication Critical patent/CN111240067A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111240067B publication Critical patent/CN111240067B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明提供一种显示面板及其制造方法、显示装置,所述显示基板包括衬底基板和位于衬底基板上的多个像素,多个像素之间的间隙为第一区域,所述衬底基板的第一表面在所述第一区域设置有多个沟槽,所述第一表面为该显示基板与另一显示基板对盒时面向所述另一显示基板的一面。本发明提供的显示面板及其制造方法、显示装置,能够改善面板漏光和暗态不均现象。

Description

一种显示面板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
背景技术
漏光作为LCD(LiquidCrystalDisplay,液晶显示器)显示面板的顽疾,一直未得到有效的解决。漏光影响了暗态画面的品质,在贴合产品中表现尤为明显,且因为LCD本身的结构所决定,在实现曲面显示时,漏光问题成为了首要障碍。LCD面板的暗态漏光有一个原因是,面板发生变形,产生的应力引起玻璃基板发生光弹性变化,即产生双折射。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示面板及其制造方法、显示装置,能够改善面板漏光和暗态不均现象。
本发明所提供的技术方案如下:
一种显示基板,包括衬底基板和位于衬底基板上的多个像素,多个像素之间的间隙为第一区域,所述衬底基板的第一表面在所述第一区域设置有多个沟槽,所述第一表面为该显示基板与另一显示基板对盒时面向所述另一显示基板的一面。
示例性的,所述沟槽为与多个所述像素的排列阵列的行方向和/或列方向平行的条形沟槽。
示例性的,所述沟槽内填充有压电材料。
示例性的,所述显示基板为阵列基板,所述阵列基板包括:
位于所述衬底基板的第一表面上的多条信号线,所述信号线包括扫描线和数据线,多条所述扫描线和多条所述数据线交叉设置,以限定出所述像素,且所述扫描线和所述数据线均位于所述第一区域内;及,位于所述像素内的像素电极;其中,
所述条形沟槽设置于所述数据线所对应的位置,并与所述数据线平行;和/或,所述条形沟槽设置于所述扫描线所对应的位置,并与所述扫描线平行。
示例性的,单条所述信号线对应至少两个所述条形沟槽,且至少两个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影分设于对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
示例性的,所述信号线的相对两侧包括第一侧和第二侧;
单条所述信号线所对应的至少两个所述条形沟槽中,至少一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影的至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该信号线在所述衬底基板上的正投影的所述第一侧;至少另一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该信号线在所述衬底基板的正投影的所述第二侧。
示例性的,单条所述信号线对应一条所述条形沟槽,且该条形沟槽在所述衬底基板上的正投影正对所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影。
示例性的,所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影,至少一部分超出与该条形沟槽所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影,且并位于该信号线在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
示例性的,所述显示基板为彩膜基板,其包括:
形成于所述衬底基板的所述第一表面上的黑矩阵,所述黑矩阵位于所述第一区域内,所述黑矩阵包括沿第一方向延伸的多个第一部分和沿第二方向延伸的多个第二部分,多个所述第一部分和多个所述第二部分交叉设置,以限定出所述像素,其中所述第一方向为阵列基板上的数据线延伸方向,所述第二方向为阵列基板上的扫描线延伸方向,或者,所述第一方向为阵列基板上的扫描线延伸方向,所述第二方向为阵列基板上的数据线延伸方向;及,位于所述像素内的公共电极;
其中,所述条形沟槽设置于所述第一部分所对应的位置,并与所述第一部分平行;或者,所述条形沟槽设置于所述第二部分所对应的位置,并与所述第二部分平行。
示例性的,单条所述第一部分对应至少两个所述条形沟槽,且至少两个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影分设于对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
示例性的,所述第一部分的相对两侧包括第一侧和第二侧;
单条所述第一部分所对应的至少两个所述条形沟槽中,至少一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影的至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该第一部分在所述衬底基板上的正投影的所述第一侧;至少另一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该第一部分在所述衬底基板的正投影的所述第二侧。
示例性的,单条所述第一部分对应一条所述条形沟槽,且该条形沟槽在所述衬底基板上的正投影正对所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影。
且所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影,至少一部分超出与该条形沟槽所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影,且并位于该第一部分在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
一种显示装置,其包括如上所述的显示基板。
一种显示基板的制造方法,用于制造如上所述的显示基板,所述方法包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板的第一表面上,对应于多个像素之间间隙的第一区域处形成沟槽,所述第一表面为该显示基板与另一显示基板对盒时面向所述另一显示基板的一面。
示例性的,所述在所述衬底基板的第一表面上,对应于多个像素之间间隙的第一区域处形成沟槽,具体包括:采用刻蚀方式在所述衬底基板的第一表面上形成所述沟槽。
本发明所带来的有益效果如下:
在上述方案中,通过在显示基板的衬底基板上设置多个沟槽,该沟槽设置在多个像素之间的第一区域内,也就是,非像素区,可将挤压或者变形引起的应力集中在沟槽附近,分散减小像素的应力分布,从而减轻应力所导致的衬底基板双折射效应,有效地改善漏光现象。
附图说明
图1表示相关技术中液晶显示面板变形导致漏光和暗态不均匀的示意图;
图2表示本发明实施例中提供的显示基板的实施例一的主视图;
图3表示本发明提供的显示基板的实施例一在图2中D-D向的剖面结构示意图;
图4表示本发明实施例中提供的显示面板的一种实施例的剖面结构示意图;
图5表示本发明提供的显示基板的实施例二的剖面结构示意图;
图6表示本发明提供的显示基板的实施例三的剖面结构示意图;
图7表示本发明提供的显示基板的实施例四的剖面结构示意图;
图8表示本发明提供的显示面板的另一种实施例的剖面结构示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本公开实施例的附图,对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。
除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
在对本发明所提供的显示基板及其制造方法、显示装置进行详细说明之前,有必要对相关技术进行以下说明:
漏光和暗态色不均(DNU)作为LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)显示面板的顽疾,一直未得到有效的解决。漏光影响了暗态画面的品质,在贴合产品中表现尤为明显,且因为LCD本身的结构所决定,在实现曲面显示时,漏光问题成为了首要障碍;暗态色不均因画面亮暗不均,造成视觉体验感较差,尤其在大尺寸产品上表现明显,在震动或搬运过程中甚至会加重恶化。
LCD面板的暗态漏光主要有两个原因:一是,面板发生变形,产生的应力引起彩膜基板1和阵列基板2的衬底基板发生光弹性变化,即产生双折射(图1所示),主要导致漏光现象;另一个是,面板局部变形,导致液晶3扭转角发生变化,主要导致面板暗态漏光。这两个原因共同导致面板暗态画面下漏光和暗态色不均现象。
目前,对于漏光的解决方案主要是,减小玻璃厚度,降低变形应力来改善漏光现象,但是这种方案的改善效果有限,尤其是玻璃减薄基板还会增加成本,且对于大尺寸而言,设备难以对应,当曲率较大时,漏光基本无有效改善;对于暗态色不均(DNU),目前的改善方案主要是,通过增加液晶量,改善支撑垫(PS)站位等方式减小局部变形来改善,但是改善效果一般,尤其对大尺寸而言,效果甚微,而且液晶量的增加除了带来成本增加外,会增加重力Mura的风险。
如图2至图8所示,为了解决上述由于衬底基板变形发生双折射导致漏光的问题,本发明实施例中提供了一种显示基板,其包括:衬底基板100和位于衬底基板100上的多个像素A,多个像素A之间的间隙为第一区域B,所述衬底基板100的第一表面在所述第一区域B设置有多个沟槽110,所述第一表面为该显示基板与另一显示基板对盒时面向所述另一显示基板的一面。
在上述方案中,通过在显示基板的衬底基板100上设置多个沟槽110,该沟槽110设置在多个像素A之间的第一区域B内,也就是,非像素A区,可将挤压或者变形引起的应力F2集中在沟槽110附近,分散减小像素A的应力分布F1,从而减轻应力所导致的衬底基板100双折射效应,有效地改善漏光现象。需要说明的是,在衬底基板100上可以通过刻蚀等方式来形成沟槽110,工艺难度低,成本低。
在一种示例性的实施例中,如图2所示,所述沟槽110为与多个所述像素A的排列阵列的行方向和/或列方向平行的条形沟槽110。
采用上述方案,所述沟槽110为条形沟槽110,且延伸方向与像素A阵列的行方向、列方向中的至少一个方向一致,由此可使得挤压或者变形引起的应力F2集中在沟槽110附近,且应力分布均匀。
此外,为了解决上述问题中由于面板局部变形导致液晶扭转角变化而产生暗态漏光的问题,本发明一种示例性的实施例中,在所述沟槽110内还填充有压电材料,形成压电层120。
采用上述方案,通过在所述沟槽110内填充压电材料,在面板发生变形时,在沟槽110内的压电材料会应力作用下产生电压,而与显示基板上的电极或者压电层120之间产生横向电场,该横向电场与液晶的初始排列方向平行,可防止L0漏光,即,暗态时该横向电场与液晶排列方向平行,因此该横向电场的大小主要是加强液晶正常取向,而非改变液晶排列方向,可起到防止因为面板变形所导致的液晶取向偏转的作用,从而,本发明实施例提供的显示基板可综合解决因面板变形应力导致的衬底基板100双折射和面板变形引起的液晶分子扭转的问题,从而有效改善液晶面板的漏光和DNU问题,增强暗态显示效果,提高对比度。
还需要说明的是,所述显示基板可以是液晶显示面板中的阵列基板,还可以是液晶显示面板的彩膜基板,也可以是除这两者之外的其他显示基板。
以下对本发明所提供的显示面板的实施例进行详细说明。
实施例1
图3至图5所示为实施例1中的显示基板的结构示意图。
如图2至图5所示,在本实施例中,所述显示基板为阵列基板10,所述阵列基板10包括:位于所述衬底基板100的第一表面上的多条信号线,所述信号线包括扫描线和数据线11,多条所述扫描线12和多条所述数据线11交叉设置,以限定出所述像素A,且所述扫描线12和所述数据线11均位于所述第一区域B内;及,位于所述像素A内的像素电极13;其中,所述条形沟槽110设置于所述数据线11所对应的位置,并与所述数据线11平行;和/或,所述条形沟槽110设置于所述扫描线12所对应的位置,并与所述扫描线12平行。
在本实施例中,所述显示基板为阵列基板10,由于所述数据线11和所述扫描线12布设在多个像素A之间,也就是,布设于所述第一区域B,因此,所述条形沟槽110可设置于所述数据线11或者所述扫描线12所对应的位置,并与所述数据线11或所述扫描线12平行。
需要说明的是,如图3至图5所示,通常,暗态时,液晶排列方向为液晶长轴方向与扫面线平行,在面板变形时,液晶发生扭转而导致液晶长轴方向偏转,因此,在本发明实施例中,优选的,所述条形沟槽110设置在所述数据线11所对应的位置,并与所述数据线11平行,这样,可使得压电层120与衬底基板100上的电极或者压电层120之间所产生的电场方向与所述扫描线12平行,从而起到加强液晶正常取向,防止暗态时因为面板变形液晶取向偏转的作用。
当然可以理解的是,在实际应用中,当暗态时液晶长轴方向与数据线11平行时,也可以是所述条形沟槽110设置在所述扫描线12所对应的位置,并与所述扫描线12平行,或者,还可以是根据实际需求,根据暗态时液晶排列方向来确定所述条形沟槽110的具体布设位置。
以下以在数据线11对应位置设置条形沟槽110为例,来对本发明实施例提供的显示基板进行进一步详细说明。还需要说明的是,在本实施例中,所述阵列基板10还可以包括薄膜晶体管及各绝缘层等。
第一种实施方式:如图3和图4所示,在本实施例中,单条所述信号线对应至少两个所述条形沟槽110,且至少两个所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影分设于对应的所述信号线在所述衬底基板100上的正投影的相对两侧。
在上述方案中,以所述信号线为数据线11为例,在所述数据线11两侧的衬底基板100上设置平行于该数据线11的至少两个条形沟槽110,这至少两个条形沟槽110分别位于对应的数据线11的相对两侧,这样,如图所示,对于一个像素A来说,其像素电极13的两侧会分别有一个条形沟槽110,并在衬底基板100发生变形时,像素电极13会与两侧的条形沟槽110之间、以及相邻的条形沟槽110之间产生横向电场,以加强液晶暗态时正常取向。
此外,在本实施例中,所述信号线的相对两侧包括第一侧和第二侧;如图所示,单条所述信号线所对应的至少两个所述条形沟槽110中,至少一个所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影的至少一部分位于与该条形沟槽110所对应的所述信号线在所述衬底基板100上的正投影之外、且位于该信号线在所述衬底基板100上的正投影的所述第一侧;至少另一个所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影至少一部分位于与该条形沟槽110所对应的所述信号线在所述衬底基板100上的正投影之外、且位于该信号线在所述衬底基板100的正投影的所述第二侧。
在上述方案中,以所述信号线为数据线11,每条数据线11对应两条条形沟槽110为例,每条数据线11相对两侧的两个条形沟槽110在衬底基板100上的正投影会超出数据线11在衬底基板100的正投影之外,从而,条形沟槽110超出数据线11外的部分会更易于与像素电极13之间产生能够加强液晶暗态正常取向的横向电场。
第二种实施方式:在本实施例中,如图5所示,单条所述信号线对应一条所述条形沟槽110,且该条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影正对所对应的所述信号线在所述衬底基板100上的正投影。
在上述方案中,以所述信号线为数据线11为例,在所述数据线11正下方的衬底基板100上设置平行于该数据线11的一个条形沟槽110,如图所示,对于一个像素A来说,像素电极13的两侧会与其两侧的数据线11下方的条形沟槽110之间,在衬底基板100发生变形时,产生横向电场,以加强液晶暗态时正常取向。
此外,在本实施例中,如图5所示,所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影,至少一部分超出与该条形沟槽110所对应的所述信号线在所述衬底基板100上的正投影,且并位于该信号线在所述衬底基板100上的正投影的相对两侧。
在上述方案中,以所述信号线为数据线11为例,每条数据线11对应一条条形沟槽110,每条条形沟槽110在衬底基板100上的正投影会超出其对应的数据线11在衬底基板100的正投影的相对两侧外,从而,条形沟槽110超出数据线11外的部分会更易于与像素电极13之间产生能够加强液晶暗态正常取向的横向电场。
需要说明的是,本实施例中,实施方式一中是在信号线的相对两侧下方分设至少两个条形沟槽110,实施方式二是在信号线正下方设置一个条形沟槽110,实施方式一与实施方式二相比,实施方式一适用于像素A分辨率高的显示装置,实施方式二由于仅设置一个条形沟槽110,压电材料会相较于实施方式一中节省材料,降低成本。应当理解的是,在实际应用中,条形沟槽110设计不限于图示所述,可根据像素A的大小和电场的排布进行相应调整,位于非像素A显示区的所述第一区域B内即可。
实施例2
图6至图8所示为实施例2中的显示基板的结构示意图。
如图2、图6至图8所示,在本实施例中,所述显示基板为彩膜基板20,其包括:
形成于所述衬底基板100的所述第一表面上的黑矩阵,所述黑矩阵位于所述第一区域B内,所述黑矩阵包括沿第一方向延伸的多个第一部分210和沿第二方向延伸的多个第二部分,多个所述第一部分210和多个所述第二部分交叉设置,以限定出所述像素A,其中所述第一方向为阵列基板10上的数据线11延伸方向,所述第二方向为阵列基板10上的扫描线12延伸方向,或者,所述第一方向为阵列基板10上的扫描线12延伸方向,所述第二方向为阵列基板10上的数据线11延伸方向;及,位于所述像素A内的公共电极22;
其中,所述条形沟槽110设置于所述第一部分210所对应的位置,并与所述第一部分210平行;和/或,所述条形沟槽110设置于所述第二部分所对应的位置,并与所述第二部分平行。
在本实施例中,所述显示基板为彩膜基板20,其衬底基板100的第一表面上设置条形沟槽110,在第一表面上还设有彩膜层22和黑矩阵等,彩膜层位于像素A内,黑矩阵位于像素A之间的第一区域B内,因此,所述条形沟槽110可设置于所述黑矩阵所对应的位置,并与所述黑矩阵的第一部分210、第二部分平行。
需要说明的是,如图6至图8所示,通常,暗态时,液晶排列方向为液晶长轴方向与扫面线平行,在面板变形时,液晶发生扭转而导致液晶长轴方向偏转,因此,在本发明实施例中,优选的,所述条形沟槽110设置在黑矩阵中与所述数据线11所对应的位置,并与所述数据线11平行,这样,可使得压电层120与衬底基板100上的公共电极或者压电层120之间所产生的电场方向与所述扫描线12平行,从而起到加强液晶正常取向,防止暗态时因为面板变形液晶取向偏转的作用。
当然可以理解的是,在实际应用中,当暗态时液晶长轴方向与数据线11平行时,也可以是所述条形沟槽110设置在所述扫描线12所对应的位置,并与所述扫描线12平行,或者,还可以是根据实际需求,根据暗态时液晶排列方向来确定所述条形沟槽110的具体布设位置。
以下以在与数据线11对应的位置设置条形沟槽110为例,来对本发明实施例提供的显示基板进行进一步详细说明。
第一种实施方式:如图4和图6所示,在本实施例中,单条所述第一部分210对应至少两个所述条形沟槽110,且至少两个所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影分设于对应的所述第一部分210在所述衬底基板100上的正投影的相对两侧。
在上述方案中,以所述第一部分210与阵列基板10上的数据线11平行为例,在所述第一部分210相对两侧的衬底基板100上设置平行于该第一部分210的至少两个条形沟槽110,这至少两个条形沟槽110分别位于对应的第一部分210的相对两侧,这样,如图4和图6所示,对于一个像素A来说,其像素电极13的两侧会分别有一个条形沟槽110,并在衬底基板100发生变形时,像素电极13会与两侧的条形沟槽110之间、以及相邻的条形沟槽110之间产生横向电场,以加强液晶暗态时正常取向。
此外,在本实施例中,如图4和图6所示,所述第一部分210的相对两侧包括第一侧和第二侧;单条所述第一部分210所对应的至少两个所述条形沟槽110中,至少一个所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影的至少一部分位于与该条形沟槽110所对应的所述第一部分210在所述衬底基板100上的正投影之外、且位于该第一部分210在所述衬底基板100上的正投影的所述第一侧;至少另一个所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影至少一部分位于与该条形沟槽110所对应的所述第一部分210在所述衬底基板100上的正投影之外、且位于该第一部分210在所述衬底基板100的正投影的所述第二侧。
在上述方案中,以所述第一部分210与阵列基板10的数据线11对应为例,每条第一部分210对应两条条形沟槽110为例,每条第一部分210相对两侧的两个条形沟槽110在衬底基板100上的正投影会超出第一部分210在衬底基板100的正投影之外,从而,条形沟槽110超出第一部分210外的部分会更易于与像素电极13之间产生能够加强液晶暗态正常取向的横向电场。
第二种实施方式:在本实施例中,如图7和图8所示,单条所述第一部分210对应一条所述条形沟槽110,且该条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影正对所对应的所述第一部分210在所述衬底基板100上的正投影。
在上述方案中,以所述第一部分210与阵列基板10的数据线11正对为例,在所述数据线11正下方的衬底基板100上设置平行于该第一部分210的一个条形沟槽110,如图7和图8所示,对于一个像素A来说,像素电极13的两侧会与其两侧的第一部分210下方的条形沟槽110之间,在衬底基板100发生变形时,产生横向电场,以加强液晶暗态时正常取向。
此外,在本实施例中,如图7和图8所示,所述条形沟槽110在所述衬底基板100上的正投影,至少一部分超出与该条形沟槽110所对应的所述第一部分210在所述衬底基板100上的正投影,且并位于该第一部分210在所述衬底基板100上的正投影的相对两侧。
上述方案中,以所述第一部分210正对数据线11为例,每条第一部分210对应一条条形沟槽110,每条条形沟槽110在衬底基板100上的正投影会超出其对应的第一部分210在衬底基板100的正投影的相对两侧外,从而,条形沟槽110超出第一部分210外的部分会更易于与像素电极13之间产生能够加强液晶暗态正常取向的横向电场。
需要说明的是,本实施例中,实施方式一中是在黑矩阵第一部分210的相对两侧下方分设至少两个条形沟槽110,实施方式二是在黑矩阵第一部分210的正下方设置一个条形沟槽110,实施方式一与实施方式二相比,实施方式一适用于像素A分辨率高的显示装置,实施方式二由于仅设置一个条形沟槽110,压电材料会相较于实施方式一中节省材料,降低成本。
应当理解的是,在实际应用中,条形沟槽110设计不限于图示所述,可根据像素A的大小和电场的排布进行相应调整,位于非像素A显示区的所述第一区域B内即可。
此外,本发明实施例中还提供了一种显示装置,其包括本发明实施例所提供的显示基板。
其中,在一种实施例中,所述显示装置包括阵列基板10和彩膜基板20,所述阵列基板10和所述彩膜基板20中的一个基板采用本发明实施例所提供的显示基板,或者,彩膜基板20和阵列基板10这两个基板均采用本发明实施例所提供的显示基板,例如图4和图8所示。
此外,本发明实施例中还提供了一种显示基板的制造方法,用于制造本发明实施例所提供的显示基板,所述方法包括:
步骤S1、提供衬底基板100;
步骤S2、在所述衬底基板100的第一表面上,对应于多个像素A之间间隙的第一区域B处形成沟槽110,所述第一表面为该显示基板与另一显示基板对盒时面向所述另一显示基板的一面。
示例性的,上述步骤S2,具体包括:采用刻蚀方式在所述衬底基板100的第一表面上形成所述沟槽110。
采用上述方案,可以采用刻蚀方式在衬底基板100上形成所述沟槽110,具体步骤可包括:曝光图案、显影、刻蚀、剥离清洁等工序,工艺难度低,成本低。需要说明的是,在衬底基板100上形成沟槽110的具体工艺,在此不做限定。
在所述方案中,当所述显示基板为阵列基板时,在衬底基板100上形成所述沟槽110之后,再在所述衬底基板的第一表面上形成数据线、扫描线12、薄膜晶体管以及像素电极和各绝缘层等;当所述显示基板为彩膜基板时,在衬底基板100上形成所述沟槽110之后,再在所述衬底基板的第一表面上形成彩膜层、黑矩阵等。
有以下几点需要说明:
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构,其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见,在用于描述本公开的实施例的附图中,层或区域的厚度被放大或缩小,即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解,当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时,该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下,本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上所述,仅为本公开的具体实施方式,但本公开的保护范围并不局限于此,本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种显示基板,其特征在于,包括衬底基板和位于衬底基板上的多个像素,多个像素之间的间隙为第一区域,所述衬底基板的第一表面在所述第一区域设置有多个沟槽,所述第一表面为该显示基板与另一显示基板对盒时面向所述另一显示基板的一面;
所述沟槽为与多个所述像素的排列阵列的行方向和/或列方向平行的条形沟槽,所述沟槽内填充有压电材料,形成压电层。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,
所述显示基板为阵列基板,所述阵列基板包括:
位于所述衬底基板的第一表面上的多条信号线,所述信号线包括扫描线和数据线,多条所述扫描线和多条所述数据线交叉设置,以限定出所述像素,且所述扫描线和所述数据线均位于所述第一区域内;及,位于所述像素内的像素电极;其中,
所述条形沟槽设置于所述数据线所对应的位置,并与所述数据线平行;
和/或,所述条形沟槽设置于所述扫描线所对应的位置,并与所述扫描线平行。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,
单条所述信号线对应至少两个所述条形沟槽,且至少两个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影分设于对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,
所述信号线的相对两侧包括第一侧和第二侧;
单条所述信号线所对应的至少两个所述条形沟槽中,至少一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影的至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该信号线在所述衬底基板上的正投影的所述第一侧;至少另一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该信号线在所述衬底基板的正投影的所述第二侧。
5.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,单条所述信号线对应一条所述条形沟槽,且该条形沟槽在所述衬底基板上的正投影正对所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影,至少一部分超出与该条形沟槽所对应的所述信号线在所述衬底基板上的正投影,且并位于该信号线在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,
所述显示基板为彩膜基板,其包括:
形成于所述衬底基板的所述第一表面上的黑矩阵,所述黑矩阵位于所述第一区域内,所述黑矩阵包括沿第一方向延伸的多个第一部分和沿第二方向延伸的多个第二部分,多个所述第一部分和多个所述第二部分交叉设置,以限定出所述像素,其中所述第一方向为阵列基板上的数据线延伸方向,所述第二方向为阵列基板上的扫描线延伸方向,或者,所述第一方向为阵列基板上的扫描线延伸方向,所述第二方向为阵列基板上的数据线延伸方向;及,位于所述像素内的公共电极;
其中,所述条形沟槽设置于所述第一部分所对应的位置,并与所述第一部分平行;或者,所述条形沟槽设置于所述第二部分所对应的位置,并与所述第二部分平行。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,
单条所述第一部分对应至少两个所述条形沟槽,且至少两个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影分设于对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
9.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,
所述第一部分的相对两侧包括第一侧和第二侧;
单条所述第一部分所对应的至少两个所述条形沟槽中,至少一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影的至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该第一部分在所述衬底基板上的正投影的所述第一侧;至少另一个所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影至少一部分位于与该条形沟槽所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影之外、且位于该第一部分在所述衬底基板的正投影的所述第二侧。
10.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,
单条所述第一部分对应一条所述条形沟槽,且该条形沟槽在所述衬底基板上的正投影正对所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影;
且所述条形沟槽在所述衬底基板上的正投影,至少一部分超出与该条形沟槽所对应的所述第一部分在所述衬底基板上的正投影,且并位于该第一部分在所述衬底基板上的正投影的相对两侧。
11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至10任一项所述的显示基板。
12.一种显示基板的制造方法,其特征在于,用于制造如权利要求1至10任一项所述的显示基板,所述方法包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板的第一表面上,对应于多个像素之间间隙的第一区域处形成沟槽,所述第一表面为该显示基板与另一显示基板对盒时面向所述另一显示基板的一面。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
所述在所述衬底基板的第一表面上,对应于多个像素之间间隙的第一区域处形成沟槽,具体包括:采用刻蚀方式在所述衬底基板的第一表面上形成所述沟槽。
CN202010129031.2A 2020-02-28 2020-02-28 一种显示面板及其制造方法、显示装置 Active CN111240067B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010129031.2A CN111240067B (zh) 2020-02-28 2020-02-28 一种显示面板及其制造方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010129031.2A CN111240067B (zh) 2020-02-28 2020-02-28 一种显示面板及其制造方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111240067A CN111240067A (zh) 2020-06-05
CN111240067B true CN111240067B (zh) 2022-10-18

Family

ID=70869847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010129031.2A Active CN111240067B (zh) 2020-02-28 2020-02-28 一种显示面板及其制造方法、显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111240067B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114675447B (zh) * 2022-03-24 2023-06-23 北京京东方光电科技有限公司 一种显示基板及其制作方法和显示装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003149677A (ja) * 2001-11-16 2003-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜トランジスタアレイ基板
KR100860468B1 (ko) * 2002-04-17 2008-09-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 기판
KR101116820B1 (ko) * 2004-11-23 2012-02-28 엘지디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 그 제조 방법
JP5151399B2 (ja) * 2007-10-30 2013-02-27 セイコーエプソン株式会社 タッチパネル、表示装置、電子機器
CN103309081B (zh) * 2013-05-30 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法、显示装置
JP2017083577A (ja) * 2015-10-26 2017-05-18 学校法人同志社 液晶分子配向制御方法および液晶デバイス
CN107315507B (zh) * 2017-07-05 2020-06-30 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控基板及其制备方法、触控显示装置
CN110165054B (zh) * 2018-03-09 2022-04-15 京东方科技集团股份有限公司 面板及其制备方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN111240067A (zh) 2020-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3014291B2 (ja) 液晶表示パネル、液晶表示装置及び液晶表示パネルの製造方法
EP3453051B1 (en) Curved display panel, curved display apparatus, and fabricating method thereof
JP4652905B2 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
KR101127832B1 (ko) 액정 표시 장치
KR101137842B1 (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
US20050099578A1 (en) Liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR102605983B1 (ko) 디스플레이 장치
KR20070062739A (ko) 액정 표시 장치
US11181794B2 (en) Display device and display panel thereof, and manufacturing method for display device
CN110824763B (zh) 显示面板及制作方法和显示装置
KR20090092415A (ko) 표시 기판 및 이를 갖는 표시 장치
JP2007193288A (ja) 薄膜トランジスターアレイおよび半透過型液晶表示パネル
KR101192772B1 (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN111240067B (zh) 一种显示面板及其制造方法、显示装置
KR100672651B1 (ko) 액정 표시 장치 및 제조 방법
KR101264682B1 (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
US11327379B2 (en) Display device and display panel thereof, and manufacturing method for display device
KR101182316B1 (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20030007960A (ko) 감소된 가시적인 결함을 제공하는 스페이서를 구비한 액정디스플레이 디바이스
KR20140006281A (ko) 표시 장치
KR20130056748A (ko) 액정 표시 장치
CN112904630A (zh) 显示面板及显示装置
KR20070059303A (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101888446B1 (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20050067908A (ko) 칼라필터 어레이 기판

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant