CN111175517A - 用于辐射标志物检测的免疫层析试纸及其制备方法和应用以及试剂盒 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种用于辐射标志物检测的免疫层析试纸及其制备方法和应用以及试剂盒,涉及辐射损伤评估技术领域,用于辐射标志物检测的免疫层析试纸包括:基底,分别设置在所述基底上且顺次连接的吸水纸、检测膜、释放垫以及样品垫;其中,所述检测膜上设置有检测线,所述检测线包括辐射标志物包被抗体,所述辐射标志物包括SAA、CRP、PCT以及白介素‑6中的至少一种;所述释放垫中含有与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。该免疫层析试纸结构简单,用该免疫层析试纸评估辐射损伤时检测速度快、操作简单、成本低、灵敏度高以及特异性强。
Description
技术领域
本发明涉及辐射损伤评估技术领域,尤其是涉及一种用于辐射标志物检测的免疫层析试纸及其制备方法和应用以及试剂盒。
背景技术
辐射损伤生物剂量快速评估是指导临床救治的基础,其中最关键的是给出准确的受照剂量。除物理剂量外,机体受照后的各种生物学改变更能直观准确地反映体内实际损伤程度,这些与剂量有良好依赖关系的生物学指标被称为辐射生物剂量计。目前常用的生物剂量计有染色体畸变分析、微核计数和基因位点分析等,上述生物剂量计主要存在剂量估算耗时长,难以适用现场快速评估辐射损伤等问题,亟待开发辐射损伤快速评估方法。
有鉴于此,特提出本发明。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于辐射标志物检测的免疫层析试纸,该免疫层析试纸结构简单,用该免疫层析试纸评估辐射损伤时检测速度快、操作简单、成本低、灵敏度高以及特异性强。
本发明提供的用于辐射标志物检测的免疫层析试纸,包括:
基底,分别设置在所述基底上且顺次连接的吸水纸、检测膜、释放垫以及样品垫;
其中,所述检测膜上设置有检测线,所述检测线包括辐射标志物包被抗体,所述辐射标志物包括SAA、CRP、PCT以及白介素-6中的至少一种;
所述释放垫中含有与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
进一步地,所述检测膜包括硝酸纤维素膜、醋酸纤维素膜、PVDF膜以及尼龙膜中的至少一种;
优选地,所述释放垫中,与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料的含量为400-600μL;
优选地,所述纳米材料包括SiO2@Au、胶体金、胶体银以及磁性材料中的至少一种;
优选地,所述检测线中辐射标志物包被抗体的划膜浓度为 0.5-1.5mg/mL,优选为1mg/mL;
优选地,DTNB修饰的纳米材料包括双层DTNB修饰的SiO2@Au。
进一步地,还包括控制线,所述控制线设置在所述检测膜上且位于所述检测线与所述吸水纸之间,所述控制线包括羊抗鼠IgG抗体。
一种前面所述的免疫层析试纸在制备辐射损伤评估试剂盒中的应用。
进一步地,辐射损伤评估时将含有辐射标志物抗原的溶液加于样品垫上;
优选地,含有辐射标志物抗原的溶液加于样品垫上的量为60-80μL,所述样品垫的宽度为3mm;
优选地,利用拉曼光谱法检测检测线上的拉曼峰强度;
优选地,利用拉曼光谱法检测检测线上1331cm-1位移处的拉曼峰强度;
优选地,所述免疫层析试纸的检测灵敏度为0.01ng/mL。
一种试剂盒,包括前面所述的免疫层析试纸。
一种前面所述的免疫层析试纸的制备方法,包括:
在基底上设置顺次连接的吸水纸、检测膜、释放垫以及样品垫;
其中,在所述检测膜的检测线中设置辐射标志物包被抗体,所述辐射标志物包括SAA、CRP、PCT以及白介素-6中的至少一种;
在所述释放垫中设置与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
进一步地,释放垫中与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料的制备方法如下:
将DTNB修饰的纳米材料与辐射标志物标记抗体混合1-3h,得到与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
进一步地,DTNB修饰的纳米材料为双层DTNB修饰的SiO2@Au;
优选地,所述双层DTNB修饰的SiO2@Au的制备方法如下:
在SiO2@Au表面修饰第一层DTNB,得到单层修饰的金种子;
在所述第一层DTNB表面修饰第二层DTNB,得到双层DTNB修饰的 SiO2@Au;
优选地,在所述第一层DTNB表面修饰第二层DTNB包括:
将所述单层修饰的金种子与氯金酸混合,得到中间体;
将所述中间体与DTNB混合,得到在所述第一层DTNB表面修饰的第二层DTNB。
进一步地,双层DTNB修饰的SiO2@Au的制备方法如下:
将水、PVP、盐酸羟胺与所述单层修饰的金种子混合后进行第一超声处理,得到混合溶液;
将所述混合溶液与氯金酸混合后依次进行第二超声处理和固液分离,得到混合物;
将所述混合物与乙醇和DTNB混合后进行第三超声处理,得到双层 DTNB修饰的SiO2@Au,
优选地,所述第一超声处理的时间为9-11min;
优选地,所述第二超声处理的时间为4-6min;
优选地,所述第三超声处理的时间为0.5-1.5h。
与现有技术相比,本发明至少可以取得以下有益效果:
本发明的用于辐射标志物检测的免疫层析试纸中,释放垫中含有与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料以及检测线包括辐射标志物包被抗体,可以用于检测辐射标记物,进而可以用于评估辐射损伤,其中DTNB修饰的纳米材料为拉曼分子,将该拉曼分子与辐射标志物偶联利于实现利用拉曼光谱法检测辐射损伤的目的,由于拉曼光谱法具有灵敏度高、可定量检测的特点,使得本发明提供的免疫层析试纸可以定量检测辐射损伤,且灵敏度高,另外,利用免疫层析试纸检测辐射损伤操作简单、方便以及快捷,成本较低,易于推广,为大面积的辐射损伤现场快速筛查提供一种全新的检测手段。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一个实施方式中免疫层析试纸的结构示意图;
图2为本发明一个实施方式中免疫层析试纸的俯视图;
图3为实施例1中不同浓度下的将SAA抗原在免疫层析试纸中的显色情况;
图4为实施例1中不同浓度下的SAA抗原在检测线显色后的拉曼光谱图;
图5为图4中拉曼峰1331cm–1处的SERS信号强度和SAA抗原浓度对数之间的校正曲线。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
在本发明的一个方面,本发明提供了一种用于辐射标志物检测的免疫层析试纸,参照图1和图2,免疫层析试纸包括:
基底100,分别设置在所述基底上且顺次连接的吸水纸200、检测膜300、释放垫400以及样品垫500;
其中,所述检测膜300上设置有检测线310,所述检测线310包括辐射标志物包被抗体,所述辐射标志物包括SAA、CRP、PCT以及白介素-6中的至少一种;
所述释放垫400中含有与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
本发明的用于辐射标志物检测的免疫层析试纸中,释放垫中含有与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料以及检测线包括辐射标志物包被抗体,可以用于检测辐射标记物,进而可以用于评估辐射损伤,其中DTNB修饰的纳米材料为拉曼分子,将该拉曼分子与辐射标志物偶联利于实现利用拉曼光谱法检测辐射损伤的目的,由于拉曼光谱法具有灵敏度高、可定量检测的特点,使得本发明提供的免疫层析试纸可以定量检测辐射损伤,且灵敏度高,另外,利用免疫层析试纸检测辐射损伤操作简单、方便以及快捷,成本较低,易于推广,为大面积的辐射损伤现场快速筛查提供一种全新的检测手段。
可以理解的是,上述基底可以为底板,在此不再过多赘述。
需要说明的是,上述吸水纸、检测膜、释放垫以及样品垫之间的连接方式为吸水纸与检测膜部分交叠实现连接。
在本发明的一些实施方式中,所述检测膜包括硝酸纤维素膜、醋酸纤维素膜、PVDF(聚偏氟乙烯)膜以及尼龙膜中的至少一种。
在本发明的一些实施方式中,所述释放垫中,与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料的含量为400-600μL(例如可以为400μL、 500μL或者600μL等)。相对于上述含量范围,当与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料的含量过低时,则与修饰材料相结合的标抗较少,导致大量标抗损失,最终导致灵敏度低。
在本发明的一些实施方式中,所述纳米材料包括SiO2@Au、胶体金、胶体银以及磁性材料中的至少一种。
在本发明的一些实施方式中,所述检测线中辐射标志物包被抗体的划膜浓度为0.5-1.5mg/mL,优选为1mg/mL。相对于上述含量范围,当辐射标志物包被抗体的划膜浓度过高时,则有可能会出现非特异即假阳性,当辐射标志物包被抗体的划膜浓度过低时,则检测线上与标抗结合的抗体较少,使得拉曼检测信号偏低,影响灵敏度。
在本发明的一些实施方式中,DTNB修饰的纳米材料包括双层DTNB 修饰的SiO2@Au。由此,双层DTNB修饰的SiO2@Au感应拉曼信号的灵敏度更高,使得免疫层析试纸检测辐射标志物SAA的灵敏度更高,效果更佳。
在本发明的一些实施方式中,参照图2,免疫层析试纸还包括控制线 320,所述控制线320设置在所述检测膜300上且位于所述检测线310与所述吸水纸200之间,所述控制线包括羊抗鼠IgG抗体。由此,控制线显色效果较佳。
可以理解的是,在检测辐射标记物SAA时,可以将含有SAA抗原的溶液施加于样品垫上,该溶液朝向吸水纸方向运动,运动过程中经过释放垫,SAA抗原与释放垫中的SAA标记抗体偶联的DTNB修饰的SiO2@Au 结合形成结合物,进而该结合物随着溶液一起朝向吸水纸运动,经过检测线时与检测线中的SAA包被抗体结合显色(SAA量少时可能会不显色),从而实现对辐射标记物SAA的定性检测;用拉曼光谱法检测检测线中的 DTNB修饰的SiO2@Au,可以定量检测检测线中的SAA的含量,从而实现对辐射损伤的定量检测。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种前面所述的免疫层析试纸在制备辐射损伤评估试剂盒中的应用。评估辐射损伤的灵敏度高、特异性强、方便快捷。
在本发明的一些实施方式中,辐射损伤评估时将含有辐射标志物抗原的溶液加于样品垫上。
在本发明的一些实施方式中,含有辐射标志物抗原的溶液加于样品垫上的量为60-80μL(例如可以为60μL、70μL或者80μL等),所述样品垫的宽度为3mm。由此,样品充足,利于准确地评估辐射标志物的含量。
在本发明的一些实施方式中,利用拉曼光谱法检测检测线上的拉曼峰强度。由此,拉曼光谱法可以定量检测辐射标志物的含量,且检测灵敏度高。
在本发明的一些实施方式中,利用拉曼光谱法检测检测线上1331cm-1位移处的拉曼峰强度。由此,1331cm-1处拉曼峰为DTNB的拉曼峰,当待检样品中含有辐射标志物的抗原时,在检测线上就会有DTNB的拉曼峰,且随抗原浓度的增大,拉曼信号增强幅度较大。
在本发明的一些实施方式中,所述免疫层析试纸的检测灵敏度为 0.01ng/mL。
需要说明的是,上述检测灵敏度指的是,施加于样品垫上含有辐射标志物抗原溶液的浓度。
在本发明的一些实施方式中,在辐射损伤评估时,将含有辐射标志物抗原的溶液加于样品垫上,静置15min即可用肉眼观测到检测线(T线),待免疫层析试纸干燥后使用拉曼光谱仪检测试纸条T线区域的拉曼信号 (SERS信号),并根据检测信号判读结果。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种试剂盒,包括前面所述的免疫层析试纸。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种前面所述的免疫层析试纸的制备方法,包括:
在基底上设置顺次连接的吸水纸、检测膜、释放垫以及样品垫;
其中,在所述检测膜的检测线中设置辐射标志物包被抗体,所述辐射标志物包括SAA、CRP、PCT以及白介素-6中的至少一种;
在所述释放垫中设置与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
在本发明的一些具体实施方式中,免疫层析试纸是通过以下方法组装得到的:在底板上进行组装,首先将划好的硝酸纤维素(NC)膜贴于底板的中间,再将吸水纸贴于底板上NC膜的一侧且稍压在NC膜上,将释放垫贴于底板上NC膜远离吸水纸的一侧且稍压在NC膜上,最后将样品垫贴在底板上位于释放垫远离吸水纸的一侧且稍压在释放垫上,将超出底板的部分剪掉,置于裁条机上切割成6×0.3cm规格备用。
在本发明的一些实施方式中,释放垫中与辐射标志物标记抗体偶联的 DTNB修饰的纳米材料的制备方法如下:将DTNB修饰的纳米材料与辐射标志物标记抗体混合1-3h(例如可以为1h、2h或者3h等),得到与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
在本发明的一些具体实施方式中,与SAA标记抗体偶联的DTNB修饰的SiO2@Au的制备方法包括如下:
先活化DTNB修饰的SiO2@Au,后进行SAA标记抗体偶联;
活化DTNB修饰的SiO2@Au的具体步骤如下:取500μLDTNB修饰的 SiO2@Au置于离心机中,3000rpm离心5min,弃上清加500μL无水乙醇重悬,然后再置于离心机中3000rpm离心5min,弃上清加500μL去离子水重悬,再置于离心机中2600rpm离心5min,弃上清,加500μL0.1M PH为5.5 的2-(N-吗啉代)乙磺酸(MES)溶液、10μL 100mM N-羟基琥珀酰亚胺 (NHS)溶液、50μL 10mM 1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺(EDC) 溶液和1μL 1%吐温(防止贴壁),混匀超声15min,置于离心机中2600rpm 离心5min,弃上清,加500μL0.05%磷酸盐吐温缓冲液(PBST)重悬,得到活化的DTNB修饰的SiO2@Au溶液;
向上述活化的DTNB修饰的SiO2@Au溶液加入10μg SAA标记抗体,震荡混匀2h,得到与SAA标记抗体偶联的DTNB修饰的SiO2@Au。
可以理解的是,将SAA标记抗体与DTNB修饰的SiO2@Au偶联后,还可以对SAA标记抗体进行封闭,具体的,所述封闭包括:在上述SAA 标记抗体偶联的DTNB修饰的SiO2@Au中加入50μL 10%牛血清白蛋白 (BSA)封闭,继续震荡混匀2h,之后将混合溶液置于离心机中2600rpm 离心5min,弃上清,加500μL0.05%PBST重悬。
在本发明的一些实施方式中,释放垫是通过以下方法制备的:
将用0.05%PBST重悬的与SAA标记抗体偶联的DTNB修饰的 SiO2@Au置于离心机中2600rpm离心5min,弃上清,加100μL 0.5%PBST 和100μL 2*金标稀释液混匀,低速(500rpm离心2min)离心后将上清液其滴加于释放垫基底上,置于37℃烘干2-3h。
在本发明的一些实施方式中,T线和控制线(C线)是通过以下方法制备得到的:用划膜仪将羊抗鼠IgG和SAA包被抗体分别固定到检测膜的控制线C线和T线上,置37℃烘干1-2h。
在本发明的一些实施方式中,DTNB修饰的纳米材料为双层DTNB修饰的SiO2@Au。
在本发明的一些实施方式中,所述双层DTNB修饰的SiO2@Au的制备方法如下:在SiO2@Au表面修饰第一层DTNB,得到单层修饰的金种子;在所述第一层DTNB表面修饰第二层DTNB,得到双层DTNB修饰的 SiO2@Au。
在本发明的一些具体实施方式中,单层修饰的金种子是通过以下方法制备得到的:在SiO2@Au中加入10μL 10mM 5,5'-二硫代双(2-硝基苯甲酸) (DTNB)乙醇溶液,超声1h即得单层修饰的金种子。
在本发明的一些实施方式中,在所述第一层DTNB表面修饰第二层 DTNB包括:将所述单层修饰的金种子与氯金酸混合,得到中间体;将所述中间体与DTNB混合,得到在所述第一层DTNB表面修饰的第二层DTNB。由此,检测拉曼信号时信号要比单层DTNB修饰的材料强。
在本发明的一些具体实施方式中,双层DTNB修饰的SiO2@Au的制备方法如下:将水、PVP、盐酸羟胺与所述单层修饰的金种子混合后进行第一超声处理,得到混合溶液;将所述混合溶液与氯金酸混合后依次进行第二超声处理和固液分离,得到混合物;将所述混合物与乙醇和DTNB混合后进行第三超声处理,得到双层DTNB修饰的SiO2@Au,优选地,所述第一超声处理的时间为9-11min(例如可以为9min、10min或者11min等);优选地,所述第二超声处理的时间为4-6min(例如可以为4min、5min或者 6min等);优选地,所述第三超声处理的时间为0.5-1.5h(例如可以为0.5h、 1h或者1.5h等)。
在本发明的一些更具体的实施方式中,双层DTNB修饰的SiO2@Au 的制备方法如下:
1、SiO2纳米材料的制备:取250mL玻璃瓶,向瓶内加入100mL无水乙醇,4mL氨水,适量水搅拌10min后,向内加入4mL正硅酸乙酯,继续搅拌几小时即得到SiO2纳米材料。用无水乙醇洗几遍并将其保存在无水乙醇中;
2、聚醚酰亚胺(PEI)修饰:取250mL玻璃瓶,向内加入100mL去离子水和500uLSiO2,超声10min,加12mL PEI,继续超声40min,分装于离心管6000rpm离心7min,弃上清,加适量水再次6000rpm离心7min,重复2-3次,最终将材料重悬于4-5mL水内;
3、3-纳米金的制备:向玻璃瓶内加入400mL去离子水,加3.7mL的氯金酸,再加2.94mL的柠檬酸钠,搅拌达最大转速后加入12mL的硼氢化钠,继续搅拌4h即得3-纳米金备用;
4、3-纳米金修饰:将2中经PEI修饰的SiO2加入到3中制备好的纳米金中,超声30min后,置于离心机中5000rpm离心7min,弃上清,加适量水再次5000rpm离心7min,弃上清加适量无水乙醇,5000rpm离心7min,再用5ml无水乙醇重悬即得金种子(即SiO2@Au);
5、双层DTNB修饰:在金种子中加入10μL 10mM DTNB乙醇溶液,超声1h即得单层DTNB修饰的金种子溶液;
6、取1mL5中的金种子溶液,置于离心机中3500rpm离心5min,弃上清,加1mL水重悬;取50mL管,加入30mL去离子水、100mg PVP、15mg 盐酸羟胺和1mL上述单层DTNB修饰的金种子溶液,超声10min,向超声后的混合溶液中加入1%氯金酸260μL,边加边混匀,超声5min,置于离心机中3000rpm离心7min弃上清加水重悬,再3000rpm离心7min弃上清加无水乙醇重悬,再3000rpm离心7min弃上清加1mL无水乙醇重悬,向内加入10μL 10mM DTNB乙醇溶液,超声1h即得双层DTNB修饰的SiO2@Au 纳米材料。
下面结合具体实施例,对本发明的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下,下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
实施例
实施例1
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸包括:
基底,分别设置在所述基底上且顺次连接的吸水纸、硝酸纤维素膜、释放垫以及样品垫;
其中,硝酸纤维素膜上设置有检测线,检测线包括SAA包被抗体,SAA 包被抗体的划膜浓度为1mg/mL,
释放垫中含有500μL与SAA标记抗体偶联的双层DTNB修饰的 SiO2@Au。
实施例2
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸的结构同实施例1,不同之处在于释放垫中含有与SAA标记抗体偶联的单层DTNB修饰的SiO2@Au。
实施例3
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸的结构同实施例1,不同之处在于检测线中SAA包被抗体的划膜浓度为1.2mg/mL。
实施例4
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸的结构同实施例1,不同之处在于检测线中SAA包被抗体的划膜浓度为0.8mg/mL。
实施例5
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸的结构同实施例1,不同之处在于检测线中SAA包被抗体的划膜浓度为1.5mg/mL。
实施例6
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸的结构同实施例1,不同之处在于检测线中SAA包被抗体的划膜浓度为0.5mg/mL。
实施例7
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸的结构同实施例1,不同之处在于释放垫中含有与SAA标记抗体偶联的双层DTNB修饰的Au@Ag。
对比例1
用于辐射标志物检测的免疫层析试纸的结构同实施例1,不同之处在于释放垫中只含有SAA标记抗体。
将SAA抗原分别稀释至100ng/mL、10ng/mL、1ng/mL、0.1ng/mL和 0.01ng/mL,各取70μL分别加于实施例1中的5个免疫层析试纸的样品垫上,并设置阴性对照(只加抗原稀释液,即20%FBS),静置15min观测 T线(具体结果参照图3,其中,图3中沿箭头方向SAA抗原的浓度依次降低,最后一个免疫层析试纸对应的是阴性对照组),在10ng/mL时有肉眼可见的T线,待层析条放干后使用拉曼光谱仪检测试纸条T线区域的SERS 信号,具体结果参照图4和图5,检测和分析来自于SERS-免疫层析试纸条检测线上1331cm–1位移处的拉曼峰强度,发现0.01ng/mL与阴性有明显区别,可判定此种免疫层析试纸条的检测灵敏度是0.01ng/mL。
将SAA抗原分别稀释至100ng/mL、10ng/mL、1ng/mL、0.1ng/mL和 0.01ng/mL,各取70μL分别加于实施例2-7以及对比例1中分别对应的5 个免疫层析试纸的样品垫上,待层析条放干后使用拉曼光谱仪检测试纸条T 线区域的SERS信号,实施例2-7以及对比例1的检测灵敏度见下表1:
表1
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种用于辐射标志物检测的免疫层析试纸,其特征在于,包括:
基底,分别设置在所述基底上且顺次连接的吸水纸、检测膜、释放垫以及样品垫;
其中,所述检测膜上设置有检测线,所述检测线包括辐射标志物包被抗体,所述辐射标志物包括SAA、CRP、PCT以及白介素-6中的至少一种;
所述释放垫中含有与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
2.根据权利要求1所述的免疫层析试纸,其特征在于,所述检测膜包括硝酸纤维素膜、醋酸纤维素膜、PVDF膜以及尼龙膜中的至少一种;
优选地,所述释放垫中,与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料的含量为400-600μL;
优选地,所述纳米材料包括SiO2@Au、胶体金、胶体银以及磁珠中的至少一种;
优选地,所述检测线中辐射标志物包被抗体的划膜浓度为0.5-1.5mg/mL,优选为1mg/mL;
优选地,DTNB修饰的纳米材料包括双层DTNB修饰的SiO2@Au。
3.根据权利要求1或2所述的免疫层析试纸,其特征在于,还包括控制线,所述控制线设置在所述检测膜上且位于所述检测线与所述吸水纸之间,所述控制线包括羊抗鼠IgG抗体。
4.一种权利要求1-3任一项所述的免疫层析试纸在制备辐射损伤评估试剂盒中的应用。
5.根据权利要求4所述的应用,其特征在于,辐射损伤评估时将含有辐射标志物抗原的溶液加于样品垫上;
优选地,含有辐射标志物抗原的溶液加于样品垫上的量为60-80μL,所述样品垫的宽度为3mm;
优选地,利用拉曼光谱法检测检测线上的拉曼峰强度;
优选地,利用拉曼光谱法检测检测线上1331cm-1位移处的拉曼峰强度;
优选地,所述免疫层析试纸的检测灵敏度为0.01ng/mL。
6.一种试剂盒,其特征在于,包括权利要求1-3任一项所述的免疫层析试纸。
7.一种权利要求1-3任一项所述的免疫层析试纸的制备方法,其特征在于,包括:
在基底上设置顺次连接的吸水纸、检测膜、释放垫以及样品垫;
其中,在所述检测膜的检测线中设置辐射标志物包被抗体,所述辐射标志物包括SAA、CRP、PCT以及白介素-6中的至少一种;
在所述释放垫中设置与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,释放垫中与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料的制备方法如下:
将DTNB修饰的纳米材料与辐射标志物标记抗体混合1-3h,得到与辐射标志物标记抗体偶联的DTNB修饰的纳米材料。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,DTNB修饰的纳米材料为双层DTNB修饰的SiO2@Au;
优选地,所述双层DTNB修饰的SiO2@Au的制备方法如下:
在SiO2@Au表面修饰第一层DTNB,得到单层修饰的金种子;
在所述第一层DTNB表面修饰第二层DTNB,得到双层DTNB修饰的SiO2@Au;
优选地,在所述第一层DTNB表面修饰第二层DTNB包括:
将所述单层修饰的金种子与氯金酸混合,得到中间体;
将所述中间体与DTNB混合,得到在所述第一层DTNB表面修饰的第二层DTNB。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,双层DTNB修饰的SiO2@Au的制备方法如下:
将水、PVP、盐酸羟胺与所述单层修饰的金种子混合后进行第一超声处理,得到混合溶液;
将所述混合溶液与氯金酸混合后依次进行第二超声处理和固液分离,得到混合物;
将所述混合物与乙醇和DTNB混合后进行第三超声处理,得到双层DTNB修饰的SiO2@Au,
优选地,所述第一超声处理的时间为9-11min;
优选地,所述第二超声处理的时间为4-6min;
优选地,所述第三超声处理的时间为0.5-1.5h。
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