CN111113276A - 一种射流抛光方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种射流抛光方法，包括如下步骤：将工件安装在抛光仓中的夹具上，开启抛光阀，射流抛光用喷嘴对工件进行射流抛光；射流抛光完成后，关闭抛光阀，开启供液泵和清洗阀，清洗用喷嘴对完成抛光的工件进行清洗；清洗完成后，将工件从夹具上取走，安装新的工件重复上述抛光和清洗的工序；当完成多个工件的抛光和清洗，关闭抛光阀和清洗阀，开启供液泵、排污阀和各个反冲洗阀，反冲洗用喷嘴对滤网进行反冲洗，沉淀仓中的废液由排污管排出。本发明射流抛光方法，其能对工件进行抛光和清洗，且能回用抛光和清洗产生的废液，还能对沉淀仓进行反冲洗。

Description

一种射流抛光方法
技术领域
本发明涉及磨料水射流抛光领域，具体涉及一种射流抛光方法。
背景技术
磨料水射流抛光是一种修正工件表面粗糙度的抛光加工工艺，磨料水射流抛光是利用由喷嘴小孔高速喷出的混有细小磨料粒子的抛光液作用于工件表面，通过磨料粒子的高速碰撞剪切作用达到磨削去除材料。射流抛光完成后，会有部分抛光液残留在工件上，需要对工件进行清洗，而射流抛光和清洗产生的废液不能有效利用，造成浪费。
发明内容
本发明的目的在于提供一种射流抛光方法，其能对工件进行抛光和清洗，且能回用抛光和清洗产生的废液，还能对沉淀仓进行反冲洗。
为实现上述目的，本发明的技术方案是设计一种射流抛光方法，采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗；
所述射流抛光装置，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓；
所述射流抛光用喷嘴外接有向其供应抛光液的抛光液供应管，抛光液供应管上设有抛光阀；
所述沉淀仓包括：与抛光仓共轴心的竖置圆筒状上仓体，以及与上仓体共轴心的竖置漏斗状下仓体；抛光仓的底端伸入上仓体中，且上仓体的顶端与抛光仓的外壁连接；上仓体的内部还设有平置的圆环状滤网，该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子；滤网与上仓体共轴心，滤网的外圈与上仓体的内壁连接，滤网的内圈与抛光仓的外壁连接；上仓体还设有多个溢流口，该多个溢流口位于同一高度，且该多个溢流口沿上仓体的周向均布；该多个溢流口位于滤网上方，且该多个溢流口靠近滤网；上仓体的内周壁上还设有多个反冲洗用喷嘴，该多个反冲洗用喷嘴位于同一高度，且该多个反冲洗用喷嘴沿上仓体的周向均布；该多个反冲洗用喷嘴位于上述多个溢流口上方，且该多个反冲洗用喷嘴朝向滤网；下仓体的底端外接竖置排污管，且排污管上设有排污阀，排污阀靠近下仓体的底端；
所述净液仓包括：与上仓体共轴心的竖置圆筒状侧周壁，封闭侧周壁底端的平置圆盘状底壁，以及平置圆环状顶壁；侧周壁的顶端与上仓体的顶端位于同一高度，侧周壁的底端位于下仓体下方；顶壁的外圈与侧周壁连接，顶壁的内圈与上仓体的顶端连接；排污管贯穿底壁；净液仓的内部还设有供液泵，供液泵位于净液仓的底部；供液泵的输出端通过三通管外接第一供液管和第二供液管；第一供液管伸出至净液仓外部并与清洗用喷嘴连接，第一供液管上设有清洗阀；各反冲洗用喷嘴分别通过供液支管与第二供液管连接，供液支管上设有反冲洗阀；
所述采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗，包括如下步骤：
将工件安装在抛光仓中的夹具上，开启抛光阀，抛光液供应管向射流抛光用喷嘴供应抛光液，射流抛光用喷嘴对工件进行射流抛光，抛光产生的废液落入漏斗状的抛光仓中，并进入沉淀仓中，沉淀仓中的液面溢过滤网，废液中的杂质会被滤网过滤拦击，过滤后的净液由溢流口进入净液仓，杂质在沉淀仓中沉淀；
射流抛光完成后，关闭抛光阀，开启供液泵和清洗阀，净液仓中的净液由第一供液管送至清洗用喷嘴，清洗用喷嘴对完成抛光的工件进行清洗，清洗产生的废液也落入漏斗状的抛光仓中，并进入沉淀仓中，沉淀仓中的液面溢过滤网，废液中的杂质会被滤网过滤拦击，过滤后的净液由溢流口进入净液仓，杂质在沉淀仓中沉淀；
清洗完成后，将工件从夹具上取走，安装新的工件重复上述抛光和清洗的工序；
当完成多个工件的抛光和清洗，沉淀仓中的杂质浓度达到一定程度时，关闭抛光阀和清洗阀，开启供液泵、排污阀和各个反冲洗阀，净液仓中的净液由第二供液管和供液支管送至各个反冲洗用喷嘴，反冲洗用喷嘴对滤网进行反冲洗，沉淀仓中的废液由排污管排出。
优选的，所述净液仓的内部还设有液位检测装置；净液仓的顶壁外接有补水管，补水管上设有补水阀；
所述液位检测装置监测净液仓的液面，当净液仓的液面低至一定程度，开启补水阀，由补水管向净液仓补充干净的水。
本发明的优点和有益效果在于：提供一种射流抛光方法，其能对工件进行抛光和清洗，且能回用抛光和清洗产生的废液，还能对沉淀仓进行反冲洗。
具体实施方式
下面结合实施例，对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
本发明提供一种射流抛光方法，采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗；
所述射流抛光装置，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓；
所述射流抛光用喷嘴外接有向其供应抛光液的抛光液供应管，抛光液供应管上设有抛光阀；
所述沉淀仓包括：与抛光仓共轴心的竖置圆筒状上仓体，以及与上仓体共轴心的竖置漏斗状下仓体；抛光仓的底端伸入上仓体中，且上仓体的顶端与抛光仓的外壁连接；上仓体的内部还设有平置的圆环状滤网，该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子；滤网与上仓体共轴心，滤网的外圈与上仓体的内壁连接，滤网的内圈与抛光仓的外壁连接；上仓体还设有多个溢流口，该多个溢流口位于同一高度，且该多个溢流口沿上仓体的周向均布；该多个溢流口位于滤网上方，且该多个溢流口靠近滤网；上仓体的内周壁上还设有多个反冲洗用喷嘴，该多个反冲洗用喷嘴位于同一高度，且该多个反冲洗用喷嘴沿上仓体的周向均布；该多个反冲洗用喷嘴位于上述多个溢流口上方，且该多个反冲洗用喷嘴朝向滤网；下仓体的底端外接竖置排污管，且排污管上设有排污阀，排污阀靠近下仓体的底端；
所述净液仓包括：与上仓体共轴心的竖置圆筒状侧周壁，封闭侧周壁底端的平置圆盘状底壁，以及平置圆环状顶壁；侧周壁的顶端与上仓体的顶端位于同一高度，侧周壁的底端位于下仓体下方；顶壁的外圈与侧周壁连接，顶壁的内圈与上仓体的顶端连接；排污管贯穿底壁；净液仓的内部还设有供液泵，供液泵位于净液仓的底部；供液泵的输出端通过三通管外接第一供液管和第二供液管；第一供液管伸出至净液仓外部并与清洗用喷嘴连接，第一供液管上设有清洗阀；各反冲洗用喷嘴分别通过供液支管与第二供液管连接，供液支管上设有反冲洗阀；
所述采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗，包括如下步骤：
将工件安装在抛光仓中的夹具上，开启抛光阀，抛光液供应管向射流抛光用喷嘴供应抛光液，射流抛光用喷嘴对工件进行射流抛光，抛光产生的废液落入漏斗状的抛光仓中，并进入沉淀仓中，沉淀仓中的液面溢过滤网，废液中的杂质会被滤网过滤拦击，过滤后的净液由溢流口进入净液仓，杂质在沉淀仓中沉淀；
射流抛光完成后，关闭抛光阀，开启供液泵和清洗阀，净液仓中的净液由第一供液管送至清洗用喷嘴，清洗用喷嘴对完成抛光的工件进行清洗，清洗产生的废液也落入漏斗状的抛光仓中，并进入沉淀仓中，沉淀仓中的液面溢过滤网，废液中的杂质会被滤网过滤拦击，过滤后的净液由溢流口进入净液仓，杂质在沉淀仓中沉淀；
清洗完成后，将工件从夹具上取走，安装新的工件重复上述抛光和清洗的工序；
当完成多个工件的抛光和清洗，沉淀仓中的杂质浓度达到一定程度时，关闭抛光阀和清洗阀，开启供液泵、排污阀和各个反冲洗阀，净液仓中的净液由第二供液管和供液支管送至各个反冲洗用喷嘴，反冲洗用喷嘴对滤网进行反冲洗，沉淀仓中的废液由排污管排出。
优选的，所述净液仓的内部还设有液位检测装置；净液仓的顶壁外接有补水管，补水管上设有补水阀；
所述液位检测装置监测净液仓的液面，当净液仓的液面低至一定程度，开启补水阀，由补水管向净液仓补充干净的水。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (2)

1.一种射流抛光方法，采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗；其特征在于：
所述射流抛光装置，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓；
所述射流抛光用喷嘴外接有向其供应抛光液的抛光液供应管，抛光液供应管上设有抛光阀；
所述沉淀仓包括：与抛光仓共轴心的竖置圆筒状上仓体，以及与上仓体共轴心的竖置漏斗状下仓体；抛光仓的底端伸入上仓体中，且上仓体的顶端与抛光仓的外壁连接；上仓体的内部还设有平置的圆环状滤网，该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子；滤网与上仓体共轴心，滤网的外圈与上仓体的内壁连接，滤网的内圈与抛光仓的外壁连接；上仓体还设有多个溢流口，该多个溢流口位于同一高度，且该多个溢流口沿上仓体的周向均布；该多个溢流口位于滤网上方，且该多个溢流口靠近滤网；上仓体的内周壁上还设有多个反冲洗用喷嘴，该多个反冲洗用喷嘴位于同一高度，且该多个反冲洗用喷嘴沿上仓体的周向均布；该多个反冲洗用喷嘴位于上述多个溢流口上方，且该多个反冲洗用喷嘴朝向滤网；下仓体的底端外接竖置排污管，且排污管上设有排污阀，排污阀靠近下仓体的底端；
所述净液仓包括：与上仓体共轴心的竖置圆筒状侧周壁，封闭侧周壁底端的平置圆盘状底壁，以及平置圆环状顶壁；侧周壁的顶端与上仓体的顶端位于同一高度，侧周壁的底端位于下仓体下方；顶壁的外圈与侧周壁连接，顶壁的内圈与上仓体的顶端连接；排污管贯穿底壁；净液仓的内部还设有供液泵，供液泵位于净液仓的底部；供液泵的输出端通过三通管外接第一供液管和第二供液管；第一供液管伸出至净液仓外部并与清洗用喷嘴连接，第一供液管上设有清洗阀；各反冲洗用喷嘴分别通过供液支管与第二供液管连接，供液支管上设有反冲洗阀；
所述采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗，包括如下步骤：
将工件安装在抛光仓中的夹具上，开启抛光阀，抛光液供应管向射流抛光用喷嘴供应抛光液，射流抛光用喷嘴对工件进行射流抛光，抛光产生的废液落入漏斗状的抛光仓中，并进入沉淀仓中，沉淀仓中的液面溢过滤网，废液中的杂质会被滤网过滤拦击，过滤后的净液由溢流口进入净液仓，杂质在沉淀仓中沉淀；
射流抛光完成后，关闭抛光阀，开启供液泵和清洗阀，净液仓中的净液由第一供液管送至清洗用喷嘴，清洗用喷嘴对完成抛光的工件进行清洗，清洗产生的废液也落入漏斗状的抛光仓中，并进入沉淀仓中，沉淀仓中的液面溢过滤网，废液中的杂质会被滤网过滤拦击，过滤后的净液由溢流口进入净液仓，杂质在沉淀仓中沉淀；
清洗完成后，将工件从夹具上取走，安装新的工件重复上述抛光和清洗的工序；
当完成多个工件的抛光和清洗，沉淀仓中的杂质浓度达到一定程度时，关闭抛光阀和清洗阀，开启供液泵、排污阀和各个反冲洗阀，净液仓中的净液由第二供液管和供液支管送至各个反冲洗用喷嘴，反冲洗用喷嘴对滤网进行反冲洗，沉淀仓中的废液由排污管排出。
2.根据权利要求1所述的射流抛光方法，其特征在于，所述净液仓的内部还设有液位检测装置；净液仓的顶壁外接有补水管，补水管上设有补水阀；
所述液位检测装置监测净液仓的液面，当净液仓的液面低至一定程度，开启补水阀，由补水管向净液仓补充干净的水。
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