CN110956899A - 柔性显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供了一种柔性显示装置及其制造方法。根据实施例的柔性显示装置包括：显示构件；窗构件，位于显示构件上并且具有面对显示构件的后表面和定位为与后表面相对的顶表面；薄膜层，包括基体层和多个颗粒，基体层具有接触后表面的第一表面以及定位为与第一表面相对的第二表面，多个颗粒结合到第二表面；保护构件，与窗构件间隔开，显示构件位于保护构件与窗构件之间；第一粘合构件，被构造为将薄膜层结合到显示构件；以及第二粘合构件，被构造为将显示构件结合到保护构件。每个颗粒从基体层的第二表面向保护构件突出。

Description

柔性显示装置及其制造方法
本申请要求于2018年9月27日提交的第10-2018-0114931号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
技术领域
本公开涉及一种柔性显示装置及其制造方法。
背景技术
随着诸如智能电话、数码相机、笔记本电脑、导航单元和智能电视的电子装置正在以各种合适的形状被开发，显示装置的形状也根据电子装置的形状而变化。示例电子装置包括平板型显示装置。然而，最近开发的电子装置可以与柔性型显示装置(诸如，弯折、弯曲或卷曲型的显示装置)一起使用。
发明内容
本公开的实施例在此涉及一种柔性显示装置，例如，涉及一种能够以反复的方式弯曲的柔性显示装置。
本公开的实施例提供具有提高的耐久性的柔性显示装置。
本公开的实施例提供了一种柔性显示装置，所述柔性显示装置包括：显示构件，被构造为显示图像；柔性窗构件，位于显示构件上并且具有面对显示构件的后表面和定位为与后表面相对的顶表面；薄膜层，包括基体层和多个颗粒，基层具有接触柔性窗构件的后表面的第一表面以及定位为与第一表面相对的第二表面，多个颗粒结合到第二表面；保护构件，与柔性窗构件间隔开，显示构件位于保护构件与柔性窗构件之间；第一粘合构件，被构造为将薄膜层结合到显示构件；以及第二粘合构件，被构造为将显示构件结合到保护构件。这里，每个颗粒沿突出方向从基体层的第二表面向保护构件突出。
在实施例中，薄膜层的接触第一粘合构件的底表面可以通过所述多个颗粒和第二表面的通过所述多个颗粒暴露的部分限定，并且薄膜层的底表面可以具有比柔性窗构件的后表面的表面粗糙度相对大的表面粗糙度。
在实施例中，所述多个颗粒可以包括与基体层相同的材料。
在实施例中，柔性窗构件和薄膜层中的每个可以包括氧化硅(SiOx)，并且柔性窗构件的氧与硅的比可以大于薄膜层的氧与硅的比。
在实施例中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒之间的沿与突出方向垂直的(例如，基本上垂直的)方向的距离可以彼此不同。
在实施例中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒均可以具有不同的突出高度。
在实施例中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒均可以具有不同的突出形状。
在实施例中，所述多个颗粒可以是随机地布置的。
在实施例中，显示构件可以包括：显示面板层，包括被构造为关于在第一方向上延伸的弯曲轴弯曲的弯曲区域以及在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开的非弯曲区域，弯曲区域位于非弯曲区域之间，并且弯曲区域在与第一方向交叉的第二方向上位于非弯曲区域之间；输入感测层直接位于显示面板层上；并且反射防止层位于输入感测层上。
在实施例中，柔性窗构件可以包括玻璃，并且柔性窗构件可以具有在约20μm至约100μm的范围内的厚度。
在本公开的实施例中，一种柔性显示装置包括：显示构件，包括被构造为关于在第一方向上延伸的弯曲轴弯曲的弯曲区域以及在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开的非弯曲区域，弯曲区域位于非弯曲区域之间；柔性窗构件，位于显示构件上并且具有面对显示构件的后表面以及定位为与后表面相对的顶表面；薄膜层，包括基体层和多个颗粒，基体层具有接触柔性窗构件的后表面的第一表面以及定位为与第一表面相对的第二表面，所述多个颗粒结合到第二表面；以及粘合构件，被构造为将薄膜层结合到显示构件。这里，基体层和所述多个颗粒包括彼此相同的材料。
在实施例中，每个颗粒可以在与第一方向和第二方向中的每个交叉的第三方向上从基体层的第二表面突出。
在实施例中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒均可以具有不同的突出高度。
在实施例中，每个颗粒可以在第二方向上具有不同的最大宽度。
在实施例中，薄膜层的接触粘合构件的底表面可以通过所述多个颗粒和第二表面的通过所述多个颗粒暴露的部分限定，并且薄膜层的底表面可以具有比柔性窗构件的后表面的表面粗糙度相对大的表面粗糙度。
在实施例中，柔性窗构件和薄膜层中的每个可以包括氧化硅(SiOx)，并且柔性窗构件的氧与硅的比可以大于薄膜层的氧与硅的比。
在实施例中，柔性窗构件可以具有在约20μm至约100μm的范围内的厚度。
在本公开的实施例中，制造柔性显示装置的方法包括：提供具有顶表面和定位为与顶表面相对的后表面的窗构件；通过将包括氧化硅(SiOx)的沉积材料沉积到后表面形成预备薄膜层；以及从预备薄膜层形成薄膜层，薄膜层包括基体层和结合到基体层并且从基体层突出的多个颗粒。这里，沉积材料的至少一部分在所述多个颗粒的形成期间凝聚。
在实施例中，初始薄膜层可以具有在约
Figure BDA0002214477560000031
至约
Figure BDA0002214477560000032
的范围内的厚度。
在实施例中，可以通过真空沉积法形成预备薄膜层。
附图说明
包括附图以提供对本公开的进一步理解，附图被包含在本说明书中并且是构成说明书的一部分。附图示出了本公开的示例性实施例，并且与描述一起用于解释本公开的原理。在附图中：
图1A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第一操作的透视图；
图1B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第二操作的透视图；
图1C是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第三操作的透视图；
图2A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第一操作的剖视图；
图2B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第二操作的剖视图；
图2C是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第三操作的剖视图；
图3A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图；
图3B是示出根据本公开的实施例的有机发光显示面板层的局部剖视图；
图4是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图；
图5A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图；
图5B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图；
图6A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图；
图6B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的放大视图；
图7是示出本公开的实施例和对比实施例的并排比较的剖视图；
图8A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图；
图8B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图；
图9是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图；以及
图10A至图10D是示出根据本公开的实施例的制造柔性显示装置的方法的剖视图。
具体实施方式
在本说明书中，将理解的是，当诸如区域、层或部件的元件被称作在另一元件“上”时，该元件可直接在所述另一元件上或者也可以存在中间元件。另外，还将理解的是，当元件或层被称作在两元件或层“之间”时，该元件或层可以是在两个元件或层之间的唯一元件或层，或者在还可以存在一个或更多个中间元件或层。
同样的附图标记始终表示同样的元件。此外，在附图中，为了示出的清楚，可以夸大组件的厚度、比例和尺寸。
如这里所使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任何组合和所有组合。
将理解的是，尽管在这里使用第一和第二的术语来描述各种元件，但是这些元件不应该受这些术语限制。这些术语用于将一个组件与其他组件区分开。例如，在一个实施例中被称为第一元件的元件可以在另一实施例中被称为第二元件。除非被提及相反，否则单数形式的术语可以包括复数形式。
此外，为了易于描述，可以在这里使用诸如“在……下方”、“下”、“在……上方”、“上”等的空间相对术语来描述如附图中所示的一个元件和/或特征与另一(其他)元件和/或特征之间的关系。该术语是相对概念并关于在附图中指示的方向进行描述。
除非另外限定，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本领域的技术人员所通常理解的意思相同的意思。在通用字典中定义的术语应被解释为具有与相关技术的上下文中的意思相同的意思，除非在描述中明显地定义了所述术语，否则不将所述术语理想地或过度地解释为具有正式含义。
术语“包含”或“包括”指定性质、区域、固定数字、行为、工艺、元件和/或组件，但不排除其他性质、区域、固定数字、行为、工艺、元件和/或组件。在下文中，将参照附图描述本公开的实施例。
图1A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第一操作(也可以称为第一操作状态)的透视图。图1B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第二操作(也可以称为第二操作状态)的透视图。图1C是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第三操作(也可以称为第三操作状态)的透视图。图2A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第一操作的剖视图。图2B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第二操作的剖视图。
图2C是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的第三操作的剖视图。在下文中，将参照图1A至图2C描述根据本公开的实施例的柔性显示装置。
参照图1A，根据本公开的实施例的柔性显示装置DD可以被构造为通过显示表面IS显示图像IM。显示表面IS平行(例如，基本上平行)于通过第一方向DR1和第二方向DR2限定的表面。显示表面IS的法线方向(例如，柔性显示装置DD的厚度方向)指示第三方向DR3。
在本实施例中，示例性示出了适用于移动终端的柔性显示装置DD。在一些实施例中，安装在主板上的电子模块、相机模块和电力模块可以在支架或壳体上与柔性显示装置DD一起构成移动终端。根据本公开的实施例的柔性显示装置DD可以用于诸如电视机或监控器的大型电子装置以及诸如平板PC、用于车辆的导航单元、游戏控制台和智能手表的中小型电子装置，但是本公开不限于此。图1A至图2C示出了作为柔性显示装置DD的一个示例的可折叠显示装置。然而，本公开的实施例的不具体限制于此。例如，柔性显示装置DD可以是可卷曲柔性显示装置。
图1A示出了其中柔性显示装置DD是未折叠的第一操作。图1B示出了其中柔性显示装置DD是向内弯曲的第二操作，图1C示出了其中柔性显示装置DD是向外弯曲的第三操作。
柔性显示装置DD的显示表面IS可以分为多个区域。柔性显示装置DD包括其中可以显示图像IM的显示区域DD-DA和定位为与显示区域DD-DA相邻的非显示区域DD-NDA。非显示区域DD-NDA可以是其中不显示图像的区域(例如，非显示区域DD-NDA可以被构造为不显示图像)。图1A示出了图标作为图像IM的示例。例如，显示区域DD-DA可以具有矩形形状。非显示区域DD-NDA可以围绕显示区域DD-DA。然而本公开的实施例不限于此。例如，显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA可以在形状上相关地设计。
如图1A至图1C中所示，柔性显示装置DD可以包括基于弯曲轴BX弯曲的弯曲区域BA、第一非弯曲区域NBA1和第二非弯曲区域NBA2。可以沿第二方向DR2限定根据实施例的弯曲轴BX。在第二操作状态下，柔性显示装置DD可以向内弯曲使得第一非弯曲区域NBA1的显示表面IS面对第二非弯曲区域NBA2的显示表面IS。当柔性显示装置DD向内弯曲时，可以更有效的保护柔性显示装置DD中的组件。
如图1C中所示，在第三操作状态下，柔性显示装置DD可以向外弯曲使得显示表面IS暴露到外侧。当柔性显示装置DD向外弯曲时，即使在弯曲状态下也可以控制柔性显示装置DD。
在本公开的实施例中，柔性显示装置DD可以包括多个弯曲区域BA。另外，弯曲区域BA可以对应于其中用户操纵柔性显示装置DD的类型来限定。例如，与图1B和图1C中示出的方向不同，弯曲轴BX可以被限定为平行(例如，基本上平行)于第一方向DR1或被限定为在另一个方向(诸如以对角线方向为例)上。然而，本公开的实施例不限于此。在本公开的实施例中，柔性显示装置DD可以被构造为仅在一个方向上弯曲。例如，柔性显示装置DD可以被构造为仅根据图1A和图1B中示出的操作模式弯曲或者可以被构造为仅根据图1A和图1C中示出的操作模式弯曲。
如图2A和图2C中所示，柔性显示装置DD包括保护构件PM、显示构件DM、窗构件WM、薄膜层TIO、第一粘合构件AM1和第二粘合构件AM2。显示构件DM位于保护构件PM与窗构件WM之间。第一粘合构件AM1将显示构件DM结合到保护构件PM，第二粘合构件AM2将显示构件DM结合到位于窗构件WM下方的薄膜层TIO。
保护构件PM保护显示构件DM。保护构件PM防止或减少外部湿气引入到显示构件DM中并且吸收外部冲击。保护构件PM通过第一粘合构件AM1结合到显示构件DM。
保护构件PM可以包括塑料膜作为基体层。保护构件PM可以包括含有从聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚芳醚砜及其组合的组中选择的一者的塑料膜。
保护构件PM的材料不限于塑料树脂。例如，保护构件PM可以包括有机/无机复合材料。保护构件PM可以包括多孔有机层和填充在有机层的孔中的无机材料。
保护构件PM还可以包括设置在塑料膜上的功能层。功能层可以包括树脂层。功能层可以通过涂覆方法形成。
显示构件DM位于保护构件PM上。显示构件DM可以通过位于保护构件PM与窗构件WM之间而被保护。
显示构件DM可以包括显示面板层DP、输入感测层TS和反射防止层RPL。在本实施例中，显示面板层DP、输入感测层TS和反射防止层RPL可以通过连续的(例如，基本上连续的)工艺形成。尽管在图2A中示例性地示出了其中显示面板层DP、输入感测层TS和反射防止层RPL顺序地层叠的显示构件DM，但是本公开的实施例不限于此。根据本公开的实施例，可以改变功能层的层叠顺序，可以省略一些功能层或者可以由一个功能层替换两个功能层。
显示面板层DP被构造为生成与输入的图像数据对应的图像IM(参照图1A)。显示面板层DP可以是有机发光显示面板、电泳显示面板或电润湿显示面板。然而，本公开的实施例不限于显示面板层的种类。在本实施例中，示例性地描述有机发光显示面板。在下文中将更详细地描述有机发光显示面板。
输入感测层TS可以直接地位于显示面板层DP上。在本实施例中，可以通过连续的(例如，基本上连续的)工艺在显示面板层DP上制造输入感测层TS。输入感测层TS获取外部输入的坐标信息。从外侧施加的外部输入可以以各种合适的类型被提供。例如，输入可以包括通过用户的诸如手的身体的一部分产生的接触和通过定位为与柔性显示装置DD相邻或通过定位为以设定的或预定的距离相邻而施加的外部输入(例如，悬停)。此外，外部输入可以具有诸如力、压力和光的各种合适的类型。然而，本公开的实施例不限于此。
在本实施例中，输入感测层TS可以是电容型输入感测层。然而，本公开的实施例不限于此。例如，输入感测层TS可以被包括两种类型的电极(诸如，以电磁感应型的电极为例)的不同类型的输入感测层所取代。
反射防止层RPL可以吸收或破坏性地干扰从外侧入射的光以降低显示装置的外部光反射率。反射防止层RPL可以取代防止或降低外部光的反射率的光学膜。在本实施例中，反射防止层RPL可以通过连续的(例如，基本上连续的)工艺与输入感测层TS一起制造。
在通过连续的(例如，基本上连续的)工艺形成输入感测层TS和反射防止层RPL时，可以省略用于使所述两层结合的粘合构件。此外，当输入感测层TS和反射防止层RPL直接形成在显示面板层DP上时，可以减小显示构件DM的厚度。
窗构件WM与保护构件PM间隔开且显示构件DM位于窗构件WM与保护构件PM之间。窗构件WM可以保护显示构件DM免受外部冲击并且向用户提供输入表面。
窗构件WM可以含有透明的绝缘材料。窗构件WM可以具有柔性性质。然而，本公开的实施例不限于此。例如，窗构件WM可以含有虽然是刚性的但是通过控制其厚度是可弯曲的任意合适的材料。例如，窗构件WM可以包括从含有二氧化硅的玻璃、石英、有机材料或无机材料中选择的至少一种。
此外，窗构件WM可以包括玻璃纤维增强塑料(FRP)。窗构件WM还可以包括功能层。例如，窗构件WM还可以包括硬度提高层、指纹输入防止层和/或自恢复层。
薄膜层TIO可以位于窗构件WM与显示构件DM之间。薄膜层TIO具有接触窗构件WM的一个表面。薄膜层TIO可以通过第二粘合构件AM2结合到显示构件DM。在下文将更详细地描述薄膜层TIO。
第一粘合构件AM1和第二粘合构件AM2中的每个可以包括光学透明粘合膜(OCA)、光学透明树脂(OCR)或压敏粘合膜(PSA)。第一粘合构件AM1和第二粘合构件AM2中的每个可以包括光固化粘合材料或热固化粘合材料。然而，本公开的实施例不具体地限制于此。
图2B示出了第二操作。柔性显示装置DD可以通过用户的操纵以设定的或预定的曲率半径向内弯曲。在向内弯曲的情况下的曲率半径可以被限定为从弯曲轴BX到窗构件WM的顶表面的间隔距离。图2C示出了第三操作。柔性显示装置DD可以通过用户的操纵以设定的或预定的曲率半径向外弯曲。在向外弯曲的情况下的曲率半径可以被限定为从弯曲轴BX到保护构件PM的后表面的间隔距离。
柔性显示装置DD可以根据用户的操纵在任一方向上弯曲。可以重复在任一方向上的弯曲。曲率半径可以恒定地(例如，基本上恒定地)维持并且第一非弯曲区域NBA1和第二非弯曲区域NBA2可以彼此面对。例如，第一非弯曲区域NBA1和第二非弯曲区域NBA2彼此平行(例如，基本上平行)面对。弯曲区域BA可以具有不固定的并且根据弯曲区域BA的曲率半径确定的区域。用户可以从图2A中的非弯曲状态下的柔性显示装置DD或者图2C中的向外弯曲状态下的柔性显示装置DD接收图像。
图3A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图。图3B是示出根据本公开的实施例的显示面板层的局部剖视图。图4是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图。
在图3A中，以简单的方式示出了直接设置在显示面板层DP上的输入感测层TS。显示面板层DP包括基体层SUB、电路层DP-CL、有机发光元件层DP-OLED和薄膜封装层TFE。电路层DP-CL包括多个导电层和多个绝缘层，有机发光元件层DP-OLED包括像素限定层PXL和有机发光元件OLED。
作为柔性基底的基体层SUB可以包括诸如以聚酰亚胺基底为例的塑料基底、玻璃基底、金属基底和/或有机/无机复合基底。基体层SUB可以具有多层结构。
参照图3B，用于显示图像的像素PX位于基体层SUB上。像素PX包括薄膜晶体管TR和有机发光元件OLED。薄膜晶体管TR可以包含在电路层DP-CL中。有机发光元件OLED可以包含在有机发光元件层DP-OLED中。
根据本公开的实施例的显示区域DD-DA(参照图1A)可以包括发光区域PXA和定位为与发光区域PXA相邻的非发光区域NPXA。非发光区域NPXA可以在平面上围绕发光区域PXA。发光区域PXA可以以多个的形式设置在显示区域DD-DA中。多个发光区域PXA可以彼此间隔开，并且非发光区域NPXA可以定位为与发光区域PXA相邻。在图3B中，示例性地示出了一个发光区域PXA。
薄膜晶体管TR包括半导体图案AL、控制电极(或栅电极)GE、源电极SE和漏电极DE。
薄膜晶体管TR的半导体图案AL和第一绝缘层IL1位于基体层SUB上。第一绝缘层IL1覆盖半导体图案AL。
控制电极GE和第二绝缘层IL2位于第一绝缘层IL1上。第二绝缘层IL2覆盖控制电极GE。第一绝缘层IL1和第二绝缘层IL2中的每个包括有机层和/或无机层。第一绝缘层IL1和第二绝缘层IL2中的每个可以包括多个薄膜。
源电极SE、漏电极DE和第三绝缘层IL3位于第二绝缘层IL2上。第三绝缘层IL3覆盖源电极SE和漏电极DE。
源电极SE和漏电极DE分别通过限定在第一绝缘层IL1和第二绝缘层IL2中的第一通孔CH1和第二通孔CH2结合到半导体图案AL。
有机发光元件OLED和像素限定层PXL位于第三绝缘层IL3上。有机发光元件OLED包括阳电极AE、发光图案EML、阴电极CE、限定在阳电极AE与发光图案EML之间的空穴传输区域HCL以及限定在阴电极CE与发光图案EML之间的电子传输区域ECL。
阳电极AE通过限定在第三绝缘层IL3中的第三通孔CH3结合到漏电极DE。
像素限定层PXL位于第三绝缘层IL3上。用于暴露阳电极AE的至少一部分的开口OB可以限定在像素限定层PXL中。其中定位有阳电极AE的区域可以与从有机发光元件OLED发射的光的发光区域PXA对应。在本公开的另一实施例中，其中限定开口OB的区域可以与发光区域PXA对应。
空穴传输区域HCL位于阳电极AE上以覆盖阳电极AE和像素限定层PXL。空穴传输区域HCL可以包括空穴注入层、空穴传输层和具有空穴注入功能和空穴传输功能两者的单层中的至少一个。
发光图案EML位于空穴传输区域HCL上。发光图案EML可以包括荧光材料、磷材料和/或量子点。发光图案EML可以产生具有一种颜色的光或具有至少两种颜色的混合颜色的光。根据本公开的实施例的发光区域PXA可以在平面上与发光图案EML叠置。
电子传输区域ECL位于发光图案EML上以覆盖发光图案EML和空穴传输区域HCL。电子传输区域ECL可以包括从电子传输材料和电子注入材料中选择的至少一种。电子传输区域ECL可以是包括电子传输材料的电子传输层或者是包括电子传输材料和电子注入材料的电子注入/传输单层。
阴电极CE位于电子传输区域ECL上以面对阳电极AE。阴电极CE可以由具有低逸出功的材料制成以容易地注入电子。
阴电极CE和阳电极AE可以由依据发光方式而彼此不同的材料制成。例如，当根据本公开的实施例的显示面板层DP是前发光型时，阴电极CE可以是透射电极，阳电极AE可以是反射电极。在一些实施例中，例如，当根据本公开的实施例的显示面板层DP是后发光型时，阴电极CE可以是反射电极，阳电极AE可以是透射电极。尽管根据本公开的实施例的显示面板层DP可以包括具有各种合适的结构的有机发光元件，但是本公开的实施例不限于此。
薄膜封装层TFE位于阴电极CE上。薄膜封装层TFE覆盖阴电极CE的整个(例如，基本上整个)表面并且密封有机发光元件OLED。薄膜封装层TFE保护有机发光元件OLED免受湿气和外来物质的影响。薄膜封装层TFE可以通过沉积形成。
薄膜封装层TFE包括无机层和/或有机层。无机层可以包括从例如氧化铝、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳化硅、氧化钛、氧化锆和氧化锌中选择的至少一种。
有机层可以包括从例如环氧树脂、聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)和聚丙烯酸酯中选择的至少一种。
再次参照图3A，输入感测层TS可以直接位于薄膜封装层TFE上。输入感测层TS可以包括在显示区域DD-DA上的输入感测部件(参照图1A)和在非显示区域DD-NDA上的信号线(参照图1A)。信号线可以结合到输入感测部件。根据本公开的实施例的输入感测部件在平面上可以不与有机发光元件OLED叠置。根据本公开的实施例的输入感测层TS可以通过互电容方法和/或自电容方法检测外部输入。
参照图4，与图3A中的输入感测层TS不同，单独设置的输入感测单元TSC可以位于显示面板层DP上。输入感测单元TSC可以包括基体基底BST、输入感测电极TP和绝缘层ILT。输入感测单元TSC可以通过粘合构件AML结合到显示面板层DP。根据实施例的输入感测电极TP可以与图3A中的输入感测层TS对应。
图5A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图。图5B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的剖视图。与图1A至图4中的组件相同的组件将由相同的附图标记表示，并且在这里不再重复其重复的描述。
参照图5A，不同于图2A，输入感测层TS可以与反射防止层RPL间隔开并且显示面板层DP位于输入感测层TS与反射防止层RPL之间。因此，第一粘合构件AM1将输入感测层TS结合到保护构件PM。
参照图5B，不同于图5A，输入感测层TS可以与显示面板层DP间隔开且反射防止层RPL位于输入感测层TS与显示面板层DP之间。第一粘合构件AM1将显示面板层DP结合到保护构件PM，第二粘合构件AM2将输入感测层TS结合到薄膜层TIO。
虽然显示构件DM的输入感测层TS、反射防止层RPL和显示面板层DP的层叠顺序可以根据目的改变，但是本公开的实施例不限于此。在一些实施例中，可以省略输入感测层TS和反射防止层RPL中的至少一者。
图6A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图。图6B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的放大视图。图7是本公开的一个实施例与对比实验示例之间的比较实验示例。与图1A至图4中的组件相同的组件将由相同的附图标记表示，在这里不再重复其重复的描述。
在图6A中，仅示出了在图2A中的柔性显示装置DD的组件中的窗构件WM、薄膜层TIO和第二粘合构件AM2。窗构件WM包括顶表面WM-U和定位为与顶表面WM-U相对的后表面WM-B。
因为柔性显示装置DD(参照图2B)关于弯曲轴BX(参照图2B)弯曲，所以柔性显示装置DD的组件具有细长的形状和柔性性质。因此，窗构件WM具有细长形状。
根据实施例，窗构件WM可以在第三方向DR3上具有约20μm或更大且100μm或更小的厚度TH1。当窗构件WM的厚度TH1小于约20μm时，窗构件WM的抗冲击性会劣化从而不能适当保护位于窗构件WM下方的显示构件DM。当窗构件WM的厚度TH1大于约100μm时，窗构件WM的弯曲性质会劣化，从而在窗构件WM中会因由于重复弯曲导致的拉应力而产生裂纹。
薄膜层TIO包括基体层GL和多个颗粒PTC(在下文中，被称为颗粒)。基体层GL包括第一表面T1和第二表面T2。第一表面T1接触窗构件WM的后表面WM-B。第二表面T2定位为与第一表面T1相对。第二表面T2接触第二粘合构件AM2。基体层GL包含无机材料。例如，基体层GL可以包括氧化硅(SiOx)。
颗粒PTC结合到基体层GL的第二表面T2。每个颗粒PTC在第三方向DR3上从基体层GL的第二表面T2突出。例如，每个颗粒PTC可以从第二表面T2朝向保护构件PM(参照图2A)突出。在第一方向DR1上彼此相邻的颗粒PTC之间的间隔距离可以彼此不同。因此，颗粒PTC可以随机地布置在基体层GL上。
虽然颗粒PTC被描述为与基体层GL分离的组件，实质上，颗粒PTC可以结合到基体层GL以提供薄膜层TIO的单个组件。因此，颗粒PTC和基体层GL可以包含相同的材料。
第二粘合构件AM2接触薄膜层TIO。第二粘合构件AM2可以接触颗粒PTC和第二表面T2的通过颗粒PTC暴露的部分。
在图6A中，示例性地示出了颗粒PTC中的第一颗粒PT1、第二颗粒PT2、第三颗粒PT3和第四颗粒PT4。例如，第一颗粒PT1和第二颗粒PT2在第一方向DR1上彼此间隔开第一间隔距离L1。第二颗粒PT2和第三颗粒PT3在第一方向DR1上彼此间隔开第二间隔距离L2。第三颗粒PT3和第四颗粒PT4在第一方向DR1上彼此间隔开第三间隔距离L3。
根据实施例，第一颗粒PT1、第二颗粒PT2、第三颗粒PT3和第四颗粒PT4可以随机地布置。因此，第一间隔距离L1、第二间隔距离L2和第三间隔距离L3可以彼此不同。因此，第一间隔距离L1、第二间隔距离L2、第三间隔距离L3可以被设计为具有彼此相同或不同的值，而不彼此影响。
根据本公开的实施例，薄膜层TIO的底表面可以具有比窗构件WM的后表面WM-B的表面粗糙度相对大的表面粗糙度。薄膜层TIO的底表面可以被限定为颗粒PTC和第二表面T2的通过颗粒PTC暴露的部分。因此，薄膜层TIO的底表面是接触第二粘合构件AM2的表面。
薄膜层TIO可以将从外侧施加的拉应力分散并且通过包括在第三方向DR3上突出的颗粒提高抗冲击性。
图7以并排比较的方式示出了窗构件WM和对比窗构件WM-E关于外部冲击PEN的实验示例。
与在图7的关于中心线CL的右侧处的本公开的实施例对比，位于图7的关于中心线CL的左侧处的对比窗构件WM-E不包括薄膜层TIO。因此，对比窗构件WM-E的底表面物理接触对比第二粘合构件AM2-E。另一方面，薄膜层TIO在窗构件WM下方，窗构件WM与第二粘合构件AM2间隔开且薄膜层TIO位于窗构件WM与第二粘合构件AM2之间。
根据对比实验示例，窗构件WM和WM-E可以由于外部对象PEN的接触而变形。由于外部对象PEN的接触造成的冲击表示为“之字形”形状的箭头。由于外部对象PEN施加的冲击量之间的差异表示为箭头的厚度之间的差异。在由于外部对象PEN造成的冲击从对比窗构件WM-E直接传输到对比第二粘合构件AM2-E的同时，由于外部对象PEN造成的冲击被根据本公开的实施例的窗构件WM的薄膜层TIO的颗粒PTC部分地吸收。
因此，代表冲击量的箭头的厚度可以在穿过薄膜层TIO时减小，而对比窗构件WM-E具有比根据本公开的实施例的窗构件WM的应变相对大的应变。
例如，由于冲击引起的对比窗构件WM-E和对比第二粘合构件AM2-E的变形表示为第一曲率半径GR1，由于冲击引起的窗构件WM、薄膜层TIO和第二粘合构件AM2的变形表示为第二曲率半径GR2。
根据实验示例，第一曲率半径GR1可以小于第二曲率半径GR2。因此，由于冲击引起的对比窗构件WM-E的变形可以大于根据本公开的实施例的包括薄膜层TIO的窗构件WM的变形。
参照图6B，薄膜层TIO可以具有约
Figure BDA0002214477560000142
至约
Figure BDA0002214477560000143
的厚度。薄膜层TIO的厚度TH2可以被限定为基体层GL的厚度HL1和颗粒PTC的厚度HL2的总和。颗粒PTC的厚度HL2可以被限定为在第三方向DR3上从第二表面T2突出的高度。
当薄膜层TIO的厚度TH2小于约
Figure BDA0002214477560000144
或大于约
Figure BDA0002214477560000145
时，因为颗粒PTC形成在薄膜层TIO的第二表面T2上，所以不会(或不会充分地吸收)吸收外部冲击PEN。
将参照以下表1描述薄膜层TIO的表面粗糙度与厚度TH2之间的关系。
表1
Figure BDA0002214477560000141
在第一实施例中，未设置薄膜层TIO。在第二实施例中，位于窗构件WM的后表面WM-B上的薄膜层TIO的厚度TH2为约
Figure BDA0002214477560000146
在第三实施例中，位于窗构件WM的后表面WM-B上的薄膜层TIO的厚度TH2为约
Figure BDA0002214477560000147
在第四实施例中，位于窗构件WM的后表面WM-B上的薄膜层TIO的厚度TH2为约
Figure BDA0002214477560000151
破损高度是根据外部对象PEN的高度在窗构件中的其处产生裂痕的点的竖直高度。表面分析是通过原子力显微镜(AFM)分析来测量的值并且第一结果是均方根(RMS)值。RMS值是中心线的两侧的高度的绝对值的平均值，其通过表面粗糙度曲线的平均值表示为均方根值。第二结果可以是R峰峰值(R peak to peak value，RPV)。RPV是剖面的最大峰的高度与剖面的最小谷的高度之间的差值。随着第一结果值和第二结果值增加，表面粗糙度具有较大的值。
根据对比实验示例，在其中薄膜层TIO的厚度TH2为约
Figure BDA0002214477560000152
的第二实施例中，表面粗糙度值RMS和RPV具有上限值或最大值。在第二实施例中，与窗构件WM的键合力具有上限值或最大值。此外，在第二实施例中，关于外部冲击PEN的破损高度具有上限值或最大值，因此，第二实施例可以适合于柔性显示装置的保护构件。第三实施例和第四实施例中的每个具有与第二实施例对比是相对大值的薄膜层TIO的厚度TH2以及与第二实施例对比是相对小值的表面粗糙度值。当薄膜层TIO的厚度TH2为约
Figure BDA0002214477560000153
至约
Figure BDA0002214477560000154
时，可以提高窗构件WM的抗冲击性。
根据实施例，当窗构件WM包含氧化硅(SiOx)时，窗构件WM的氧与硅的比可以大于薄膜层TIO的氧与硅之间的比。
图8A是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图。图8B是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图。图9是示出根据本公开的实施例的柔性显示装置的局部构造的剖视图。与图6A至图6B中的组件相同的组件将由相同的附图标记表示，并且在这里将不再重复其重复的描述。
参照图8A，根据实施例的薄膜层TIO-A包括多个颗粒PTC-A。颗粒PTC-A包括第一颗粒PT1-A、第二颗粒PT2-A和第三颗粒PT3-A。每个颗粒PTC-A可以在第三方向DR3上从基体层GL-A突出。
每个颗粒PTC-A可以在第一方向DR1上具有彼此不同的最大宽度。例如，第一颗粒PT1-A在第一方向DR1上具有第一宽度W1。第二颗粒PT2-A在第一方向DR1上具有第二宽度W2，第三颗粒PT3-A在第一方向DR1上具有第三宽度W3。
第一宽度W1大于第二宽度W2和第三宽度W3中的每个。此外，第二宽度W2可以大于第三宽度W3。然而，本公开的实施例不限于此。例如，颗粒PTC-A中的至少两个颗粒可以在第一方向DR1上具有彼此相同的宽度。
参照图8B，根据实施例的薄膜层TIO-B包括多个颗粒PTC-B。颗粒PTC-B包括第一颗粒PT1-B、第二颗粒PT2-B和第三颗粒PT3-B。每个颗粒PTC-B可以在第三方向DR3上从基体层GL-B突出。
每个颗粒PTC-B可以在第三方向DR3上具有不同的突出高度。例如，第一颗粒PT1-B在第三方向DR3上具有第一突出高度H1。第二颗粒PT2-B在第三方向DR3上具有第二突出高度H2，第三颗粒PT3-B在第三方向DR3上具有第三突出高度H3。
第一突出高度H1大于第二突出高度H2和第三突出高度H3中的每个。此外，第二突出高度H2可以大于第三突出高度H3。然而，本公开的实施例不限于此。例如，颗粒PTC-B中的至少两个颗粒可以在第三方向DR3上具有彼此相同的突出高度。
参照图9，根据实施例的薄膜层TIO-C包括多个颗粒PTC-C。每个颗粒PTC-C可以在第三方向DR3上从基体层GL-C的第二表面T2突出。根据实施例的颗粒PTC-C可以具有彼此不同的突出形状。例如，颗粒PTC-C包括第一颗粒PT1-C、第二颗粒PT2-C、第三颗粒PT3-C和第四颗粒PT4-C。第一颗粒PT1-C、第二颗粒PT2-C、第三颗粒PT3-C和第四颗粒PT4-C可以在剖面和平面上具有彼此不同的形状。因此，窗构件WM的接触第一表面T1的后表面WM-B可以具有比薄膜层TIO-C的底表面的表面粗糙度小的表面粗糙度。
根据本公开的实施例的，由于具有相对大的表面粗糙度的薄膜层TIO-C位于窗构件WM的后表面WM-B上，可以提高窗构件WM的抗冲击性。因此，可以提供具有提高的可靠性的柔性显示装置。
图10A至图10D是示出根据本公开的实施例的制造柔性显示装置的方法的剖视图。与图6A至图6B中的组件相同的组件将由相同的附图标记指示，并且在这里将不重复其重复的描述。
参照图10A，提供了窗构件WM。窗构件WM包括顶表面WM-U和定位为与顶表面WM-U相对的后表面WM-B。
此后，参照图10B和图10C，通过沉积沉积材料DPS形成预备薄膜层TIO-A。将沉积材料DPS沉积在后表面WM-B上。沉积材料DPS可以包含氧化硅(SiOx)。沉积沉积材料DPS的方法可以使用真空沉积方法。沉积材料DPS被吸附在后表面WM-B上然后随着时间的流逝而扩散以覆盖后表面WM-B。
此后，参照图10C和图10D，从预备薄膜层TIO-A形成薄膜层TIO。薄膜层TIO包括基体层GL和颗粒PTC。基体层GL包括包含后表面WM-B的第一表面T1和定位为与第一表面T1相对的第二表面T2。可以形成颗粒PTC，使得沉积材料DPS的形成预备薄膜层TIO-A的部分凝聚。例如，可以形成颗粒PTC使得沉积材料DPS在后表面WM-B上扩散，然后沉积材料DPS的一部分随着时间的流逝凝聚并且突出。可以随机地形成颗粒PTC。除了形成颗粒PTC的沉积材料DPS之外的剩余的沉积材料DPS可以形成基体层GL。根据本公开的实施例，薄膜层TIO的定位为与后表面WM-B相对的底表面可以具有比后表面WM-B的表面粗糙度大的表面粗糙度。
尽管在图10D中颗粒PTC具有彼此相同的形状，本公开的实施例不限于此。例如，颗粒PTC可以具有不同的突出形状、距第二表面T2不同的突出高度和/或在一个方向上彼此不同的宽度。
根据本公开的实施例的，当施加外部冲击时，薄膜层TIO的颗粒PTC可以消除或减少冲击以降低窗构件WM的应变。因此，可以提供具有提高的可靠性的柔性显示装置。
如上所述，由于根据本公开的实施例的柔性显示装置包括位于窗构件的底表面上并且包括多个颗粒的薄膜层，可以通过薄膜层的颗粒吸收从外侧施加到窗构件的冲击，因此可以提供具有提高的抗冲击性的柔性显示装置。
如在这里使用的，术语“基本上”、“大约”及类似的术语用作近似的术语而不用作程度的术语，并且意图解释本领域普通技术人员将认识到的测量值或计算值中的固有偏差。此外，当描述本公开的实施例时，“可”的使用表示“本公开的一个或更多个实施例”。如在这里使用的，术语“使用”及其变型可以被认为分别与术语“利用”及其变型同义。此外，术语“示例性”意图表示示例或说明。
此外，在这里记载的任何数值范围意图包括包含在记载的范围内的相同数值精度的所有子范围。例如，“1.0至10.0”的范围意图包括在记载的最小值1.0与记载的最大值10.0之间(并包括记载的最小值1.0和记载的最大值10.0)的全部子范围，即，具有大于等于1.0的最小值和小于等于10.0的最大值的全部子范围，诸如以2.4至7.6为例。在这里记载的任何最大数值限制意图包括其中包含的所有较低数值限制，而在本说明书中记载的任何最小数值限制意图包括其中包含的所有较高数值限制。因此，申请人保留修改本说明书(包括权利要求)的权利，以明确地记载包含在这里明确记载的范围内的任何子范围。
这里描述的主题将被认为是说明性的而非限制性的，所附权利要求意图覆盖落入本公开的真实精神和范围内的所有这种修改、改进和其他实施例。因此，在法律允许的最大程度上，本公开的范围将通过以下权利要求及其等同物的最宽允许的解释来确定，并且不应受限或限于上面的详细描述。
这里，应通过权利要求及其等同物的技术范围来确定本公开的真实保护范围。

Claims (20)

1.一种柔性显示装置，所述柔性显示装置包括：
显示构件，被构造为显示图像；
窗构件，位于所述显示构件上并且具有面对所述显示构件的后表面和定位为与所述后表面相对的顶表面；
薄膜层，包括基体层和多个颗粒，所述基体层具有接触所述窗构件的所述后表面的第一表面以及定位为与所述第一表面相对的第二表面，所述多个颗粒结合到所述第二表面；
保护构件，与所述窗构件间隔开，所述显示构件位于所述保护构件与所述窗构件之间；
第一粘合构件，被构造为将所述薄膜层结合到所述显示构件；以及
第二粘合构件，被构造为将所述显示构件结合到所述保护构件，
其中，所述多个颗粒中的每个颗粒沿突出方向从所述基体层的所述第二表面向所述保护构件突出。
2.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述薄膜层的接触所述第一粘合构件的底表面通过所述多个颗粒和所述第二表面的通过所述多个颗粒暴露的部分限定，并且
所述薄膜层的所述底表面具有比所述窗构件的所述后表面的表面粗糙度相对大的表面粗糙度。
3.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒包括与所述基体层相同的材料。
4.根据权利要求3所述的柔性显示装置，其中，所述窗构件和所述薄膜层中的每个包括氧化硅，并且
所述窗构件的氧与硅的比大于所述薄膜层的氧与硅的比。
5.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒之间的沿与所述突出方向垂直的方向的距离彼此不同。
6.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒均具有不同的突出高度。
7.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒均具有不同的突出形状。
8.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒是随机地布置的。
9.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其中，所述显示构件包括：
显示面板层，包括被构造为关于在第一方向上延伸的弯曲轴弯曲的弯曲区域以及在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开的非弯曲区域，所述弯曲区域位于所述非弯曲区域之间；
输入感测层，直接位于所述显示面板层上；以及
反射防止层，位于所述输入感测层上。
10.根据权利要求9所述的柔性显示装置，其中，所述窗构件包括玻璃，并且
其中，所述窗构件具有在20μm至100μm的范围内的厚度。
11.一种柔性显示装置，所述柔性显示装置包括：
显示构件，包括被构造为关于在第一方向上延伸的弯曲轴弯曲的弯曲区域以及在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开的非弯曲区域，所述弯曲区域位于所述非弯曲区域之间；
柔性窗构件，位于所述显示构件上并且具有面对所述显示构件的后表面和定位为与所述后表面相对的顶表面；
薄膜层，包括基体层和多个颗粒，所述基体层具有接触所述柔性窗构件的所述后表面的第一表面以及定位为与所述第一表面相对的第二表面，所述多个颗粒结合到所述第二表面；以及
粘合构件，被构造为将所述薄膜层结合到所述显示构件，
其中，所述基体层和所述多个颗粒包括彼此相同的材料。
12.根据权利要求11所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒中的每个颗粒在与所述第一方向和所述第二方向中的每个交叉的第三方向上从所述基体层的所述第二表面突出。
13.根据权利要求12所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒中的相邻的颗粒均具有不同的突出高度。
14.根据权利要求12所述的柔性显示装置，其中，所述多个颗粒中的每个颗粒在所述第二方向上具有不同的最大宽度。
15.根据权利要求11所述的柔性显示装置，其中，所述薄膜层的接触所述粘合构件的底表面通过所述多个颗粒和所述第二表面的通过所述多个颗粒暴露的部分限定，并且
所述薄膜层的所述底表面具有比所述柔性窗构件的所述后表面的表面粗糙度相对大的表面粗糙度。
16.根据权利要求11所述的柔性显示装置，其中，所述柔性窗构件和所述薄膜层中的每个包括氧化硅，并且
所述柔性窗构件的氧与硅的比大于所述薄膜层的氧与硅的比。
17.根据权利要求11所述的柔性显示装置，其中，所述柔性窗构件具有在20μm至100μm的范围内的厚度。
18.一种制造柔性显示装置的方法，所述方法包括：
提供具有顶表面和定位为与所述顶表面相对的后表面的窗构件；
通过将包括氧化硅的沉积材料沉积到所述后表面形成预备薄膜层；以及
从所述预备薄膜层形成薄膜层，所述薄膜层包括基体层和结合到所述基体层并且从所述基体层突出的多个颗粒，
其中，所述沉积材料的至少一部分在所述多个颗粒的形成期间凝聚。
19.根据权利要求18所述的方法，其中，所述预备薄膜层具有在
Figure FDA0002214477550000031
至
Figure FDA0002214477550000032
的范围内的厚度。
20.根据权利要求18所述的方法，其中，通过真空沉积法形成所述预备薄膜层。
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