CN110941146A - 一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机 - Google Patents
一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机 Download PDFInfo
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Abstract
本发明属于光刻技术领域,具体公开了一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机。本发明提供的栅格板设计方法包括:S1:确定栅格板的初始的设计参数,所述栅格板包括多个栅格;S2:根据设计参数,建立气浴装置的流体仿真模型;S3:计算获得流体出口的流体数据;S4:判断流体数据是否满足预设条件,如果是,执行S5,如果否,执行S6;S5:根据流体数据调整每个栅格或部分栅格的通风面积,更新设计参数并返回至S2;S6:获取每个栅格的最优通风面积。栅格板采用上述的栅格板设计方法形成,气浴装置包括上述的栅格板,光刻机包括上述的气浴装置。本发明提供的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机,提高了流体出口的流动均匀性和稳定性。
Description
技术领域
本发明涉及光刻技术领域,尤其涉及一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机。
背景技术
在薄膜晶体管(Thin Film Transistor)光刻机内,需要为干涉仪的光路布置气浴装置,以保证干涉仪光路的温度与压力的均匀性和稳定性。在TFT光刻机内,为降低光路气浴装置内的送风压阻、保证送风面能够覆盖干涉仪发出的光路以及避免气浴装置与干涉仪支架、出光口、长条镜等的干涉,通常需要将光路气浴装置的静压腔设计成L形。由于L形的静压腔的气浴入口与出气浴出口不在同一流线方向上,十分影响出风均匀性。
常规的气浴装置一般采用常压送风,为了保证气浴出口的压力稳定性和均匀性,通常会在气浴装置的静压腔内设置压阻较大的过滤装置对经过过滤装置的气流进行匀化处理,从而保证气浴出口的出气均匀性。但过滤器不仅会增大压阻,且由于过滤器的尺寸较大,对气浴静压腔的形状和尺寸等限制较大,当静压腔内安装空间有限时,难以将过滤器安装在静压腔内。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种气浴装置的栅格板的设计方法,提高栅格板对气流的匀化作用,满足大面积的均匀送风要求。
本发明的第二个目的在于提供一种栅格板,提高栅格板对气流的匀化作用,满足大面积的均匀送风要求。
本发明的第三个目的在于提供一种气浴装置,提高气浴装置的出风均匀性,满足气浴装置的大面积均匀出风,且有利于减小气浴装置的厚度。
本发明的第四个目的在于提供一种光刻机,用于提高光刻机中干涉仪光路的温度与压力的稳定性和均匀性,保证光刻质量。
为实现上述目的,本发明采用下述技术方案:
一种栅格板设计方法,包括如下步骤:
S1:确定所述栅格板的初始的设计参数,所述栅格板包括多个栅格;
S2:根据所述设计参数,建立气浴装置的流体仿真模型,所述气浴装置包括气浴入口、气浴出口以及气流腔,所述栅格板设置在所述气流腔中;
S3:计算获得所述气浴出口的流体数据;
S4:判断所述流体数据是否满足预设条件,如果是,执行S5,如果否,执行S6;
S5:根据所述流体数据调整每个所述栅格或部分所述栅格的通风面积,更新所述设计参数并返回至S2;
S6:获取每个所述栅格的最优通风面积,从而得到所述栅格的最终设计参数。
进一步地,初始的设计参数包括所述栅格板的最大总通风面积、所述栅格板中栅格的个数以及每个所述栅格的初始通风面积。
进一步地,在步骤S3之前,还包括:将所述气浴出口划分为若干个依次连接的出口区域,所述出口区域的个数及位置与所述栅格的个数与位置一一对应。
进一步地,所述流体数据包括每个所述出口区域的区域平均流速数据。
进一步地,步骤S5具体指:根据每个所述出口区域的所述区域平均流速,缩小所述区域平均流速超出所述气浴出口的预设平均流速所对应的所述栅格的通风面积。
进一步地,根据每个所述出口区域的所述区域平均流速,缩小所述区域平均流速超出所述气浴出口的设计平均流速所对应的所述栅格的通风面积,具体包括如下步骤:
S41:计算最大的区域平均流速超出所述预设平均流速的百分比A;
S42:根据所述百分比A确定所述最大的区域平均流速对应的所述栅格的通风面积的缩小比例B;
S43:计算其余的每个待调整的所述栅格对应的所述区域平均流速超出所述预设平均流速的百分比C;
S44:根据所述缩小比例B和所述每个所述区域平均流速的所述百分比C,确定每个对应的所述栅格的通风面积的缩小比例D。
进一步地,所述缩小比例B的计算为:
当所述百分比A满足:(n1-1)×10%<A≤n1×10%时,所述缩小比例B=1/(n1+1),其中,n1为正整数;
所述缩小比例D的计算为:
当所述百分比C满足:(n2-1)×10%<C≤n2×10%时,所述缩小比例D=(n1-n2+1)/(n1+1),其中,n2为正整数。
一种栅格板,采用如上所述的栅格板设计方法形成。
一种栅格板,所述栅格板包括本体和栅格调节组件,所述本体上开设有所述栅格,所述栅格调节组件的个数与位置与每个所述栅格一一对应,所述栅格调节组件能够调节对应的所述栅格的通风面积至所述栅格的最优通风面积。
进一步地,所述栅格调节组件包括拉板,所述拉板与所述本体滑动连接,且所述拉板能相对所述栅格板的高度或长度方向滑动,以调节所述拉板对应的所述栅格的通风面积。
进一步地,所述本体包括:
立板,所述立板上开设有所述栅格;
支撑部,所述立板沿其高度方向的两端垂直延伸有所述支撑部,所述支撑部上开设有滑槽,所述滑槽沿所述栅格板的长度方向设置,所述拉板的两端分别与对应的所述滑槽滑动连接。
进一步地,所述拉板与所立板平行,且所述拉板的一面与所述立板抵接。
进一步地,所述拉板远离所述立板的一面凸设有拉动部。
进一步地,所述栅格调节组件包括弧形挡板,所述弧形挡板与所述本体转动连接,以调节所述弧形挡板对应的所述栅格的通风面积。
进一步地,所述栅格调节组件还包括:
转轴,其沿所述栅格板的高度方向设置,且所述转轴与所述本体转动连接;
连接部,所述弧形挡板通过所述连接部与所述转轴连接,所述弧形挡板的弧形开口朝向所述转轴。
进一步地,所述本体为六面体,所述本体上开设有多个通风槽,所述通风槽贯穿所述本体沿其宽度方向的两侧,且所述通风槽在所述本体的一侧的槽口形成所述栅格,每个所述栅格调节组件均位于对应的所述通风槽内。
进一步地,所述通风槽沿所述栅格板高度方向的一侧槽壁上开设有弧形槽,所述弧形槽与所述弧形挡板同心设置,所述连接部的一侧凸设有限位杆,所述限位杆伸入所述弧形槽内,且能沿所述弧形槽滑动。
进一步地,当所述限位杆位于所述弧形槽的第一端点处时,所述弧形挡板完全遮挡所述栅格,当所述限位杆位于所述弧形槽的第二端点处时,所述所述弧形挡板未遮挡所述栅格。
一种气浴装置,所述气浴装置具有气流腔,所述气流腔内设置有上述的栅格板,所述栅格板与所述静压腔的气浴出口正对设置。
一种光刻机,包含如上所述的气浴装置。
本发明的有益效果在于:
本发明提供的栅格板设计方法,能够对非均匀栅格板进行设计,以实现对气浴装置内的非均匀流动进行匀化,提高栅格板所在的气流腔的流体出口处的流动均匀性和稳定性;有利于根据气流腔和流动情况对栅格板进行具体设计,使栅格板的使用不受限于气流腔的尺寸和形状。
本发明提供的栅格板,通过采用上述的栅格板设计方法设计,提高了对流动出口处的气流匀化效果,且使栅格板的使用不受限于气流腔的尺寸和形状。
本发明提供的栅格板,通过在栅格板上设置调节组件,能够根据仿真情况或现场实验情况对栅格板对每个栅格的通风面积进行调节,提高了栅格板对流动出口处的气流匀化效果,且使栅格板的使用不受限于流体流动腔的尺寸和外形。
本发明提供的气浴装置,通过采用上述的栅格板,提高了气浴出口的气流均匀性和稳定性,有利于减小气浴装置的厚度。
本发明提供的光刻机,通过采用上述的气浴装置,有利于保证光刻机光路的均匀性和稳定性,提高了光刻的质量。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的气浴装置的结构示意图;
图2为本发明实施例一提供的栅格板设计方法的流程图;
图3为本发明实施例二提供的栅格板的结构示意图;
图4为本发明实施例二提供的气浴出口的仿真结果图;
图5为本发明实施例三提供的栅格板的结构示意图;
图6为本发明实施例四提供的栅格板的结构示意图;
图7为本发明实施例四提供的本体的结构示意图;
图8为本发明实施例四提供的栅格调节组件的结构示意图。
图中标记如下:
10-栅格板;20-气浴装置;
1-本体;2-栅格调节组件;
11-立板;12-支撑部;13-栅格;14-通风槽;15-弧形槽;21-拉板;22-拉手部;23-弧形挡板;24-转轴;25-连接部;26-限位杆;27-羊角螺母;
121-滑槽,201-气浴入口;202-气浴出口;
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为本发明实施例提供的气浴装置的结构示意图,如图1所示,气浴装置20用于为光刻机的光路提供气浴。气浴装置20包括气浴入口201和气浴出口202,气浴入口201与气浴出口202之间连通有L型的气流腔,其中气浴入口201的进气风向与气浴出口202处的出气风向垂直。根据气流腔的形状,气流腔可以分为依次连通的进气段、过渡段和出气段,其中进气段与出气段垂直。由于气浴入口201和进气段的宽度较小,气浴出口202及出气段宽度较大,且过渡段处垂直流线垂直变化,因此,气浴气流在气流腔中的流动为非均匀流动,且在过渡段的流线变化最大。为保证气浴出口202处气流流速的均匀性,需要在气流腔内设置用于气流匀化的装置。
图2为本发明实施例提供的栅格板设计方法的流程图。如图1和2所示,本实施例提供了一种栅格板设计方法,用于对应用于气浴装置20的气流腔中的栅格板进行设计,从而使通过栅格板10的气流流动,尤其是非均匀流进行匀化,提高气浴出口202处的流动均匀性和稳定性。
在本实施例中,栅格板10应用于光刻机的气浴装置20的气流腔内,以提高气流腔的气浴出口处的气流均匀度,在其他实施例中,栅格板10也可以运用于各种存在非均匀流动的气流腔中。本实施例中的栅格板设计方法不对栅格板10的应用环境进行具体限制,仅以其在气浴装置20中的应用作为示例。
具体地,本实施例提供的栅格板设计方法包括如下步骤:
步骤S1:确定栅格板10的初始的设计参数。
初始设计参数包括栅格板10的总长度、总高度、最大通风面积、栅格13的个数以及每个栅格13的初始通风面积。
栅格板10的总长度和总高度应根据气流腔的尺寸以及栅格板10在气流腔中的位置进行具体确定。如图1所示,根据气流腔的形状与流线变化情况,在本实施例中,栅格板10设置在出气段内,且优选位于过渡段与出气段的连接处,有利于对过渡段流入出气段的非均匀气流进行匀化。且栅格板10优选为与气浴出口202正对设置,使通过栅格板10进行匀化后的气流能够正对气浴出口202流出,保证气浴出口202处的流体均匀性和稳定性。
即,在本实施例中,栅格板10的长度等于出气段的宽度,栅格板10的高度等于出气段的高度,从而使栅格板10的四侧均与气流腔的腔壁抵接,气流仅能从栅格板10中的栅格13流出。
栅格板10的总通风面积为栅板10上所有栅格13的通风面积之和,在本实施例中,栅格板10的最大总通风面积应不小于气浴出口202的总出风面积的一半。
由于气浴出口202处通常会设置出风栅板或孔板进一步对气浴出口202处的出气气流进行进一步匀化,因此,在本实施例中,气浴出口202的总出风面为气浴出口202处出风栅板或孔板的总通风面积。
在实施例中,栅格13的总通风面积=栅格13的高度×栅格13的宽度,栅格13的高度根据栅格板10的高度具体设置,在方便栅格板10的安装的同时,应使栅格13的高度尽可能地高。栅格13的宽度不应大于栅格13的高度,以保证在栅格板10的最大总通风面积一定时,栅格板10上的栅格13数尽可能地多,以提高栅格板10对流体流动的均化效果。
在本实施例中,优选使每个栅格13的初始通风面积相同,一方面有利于栅格13的初始化设置,另一方面有利于仿真计算的收敛。在其他实施例中,也可以任意设置每个栅格13的初始通风面积,以满足栅格13的宽度小于栅格13的高度以及能够计算收敛为准。
在本实施例中,优选使栅格板10上相邻两个栅格13之间的间距均设置成相同,有利于栅格13的初始化设置,以及方便栅格13的调节。在其他实施例中,可以对相邻两个栅格13之间的间距进行任意设置,以满足所有栅格13的布置以及能够计算收敛为准。
步骤S2:根据设计参数,建立流体仿真模型。
在本实施例中,根据栅格板10具体应用的气浴装置建立流体仿真模型,气浴装置包括气浴入口201、气浴出口202以及气流腔,气流腔分别与气浴入口201和气浴出口202连通,栅格板10设置在气流腔内。
在本实施例中,气浴装置为气浴装置20,气浴入口201为气浴入口201,气浴出口202为气浴出口202,气流腔为气流腔。在其他实施例中,气浴装置还可以为具有气流腔且需要匀化流体流速分布的其他装置。
在本实施例中,设计参数主要包括栅格板10的设计参数、气流腔的外形参数以及流体的参数。
气流腔的外形参数根据栅格板10的具体应用进行具体设计,栅格板10的设计参数参照步骤S1进行设置,流体的参数根据具体应用环境对流体的流速、压强等进行具体设置。
根据上述设计参数,建立气浴装置的流体仿真模型。
步骤S3:获取气浴出口202的流体数据。
在本实施例中,流体数据具体为流速分布数据,以方面更为直观地对气浴出口202处的气流均匀性进行评判。在其他实施例中,还可以通过测量压强分布数据或流通量数据作为流体数据进行后续的计算。
在本实施例中,将气浴装置的气浴出口202沿其宽度方向划分为若干个依次连接的出口区域,且出口区域的个数及位置与栅格13的个数及位置一一对应。具体地,可以根据每个栅格13的初始通风面积所占最大总通风面积的比例确定每个出口区域的宽度,即,每个出口区域的宽度=栅格13的初始通风面积/最大总通风面积×气浴出口202的宽度。
当气浴出口202处设置有出风栅板或孔板上,根据栅格板10上每个栅格13在出风栅板或孔板上的正投影确定每个出风栅板或孔板上通风口所对应的栅格13。
在本实施例中,流速分布数据包括每个出口区域的区域平均流速数据,有利于对各个栅格13对应的区域平均流速进行比对,获得气浴出口202的流速分布的不均匀分布情况,并有利于根据区域平均流速的数据对对应的栅格13进行调整,数据对比和调整方便。在其他实施例中,流速分布数据还可以为气浴出口202的流速分布云图,根据流速分布云图对对应栅格13的通风面积进行调整。
步骤S4:判断流体数据是否满足预设条件,如果是,执行步骤S5,如果否,执行步骤S6。
步骤S5:根据流体数据调整每个栅格或部分栅格的通风面积,更新设计参并返回至步骤S2。
在本实施例中,根据流体数据调整每个栅格13或部分栅格13的通风面积具体指:根据每个出口区域的区域平均流速,缩小区域平均流速超出设计平均流速所对应的栅格13的通风面积,具体包括如下步骤:
步骤S51:计算最大的区域平均流速超出预设平均流速的百分比A:
步骤S52:根据百分比A确定最大的区域平均流速对应的栅格13的通风面积的缩小比例B。
当百分比A满足:(n1-1)×10%<A≤n1×10%时,B=1/(n1+1),其中,n1为正整数。
步骤S53:计算其余每个待调整的栅格13对应的所述区域平均流速超出所述预设平均流速的百分比C。
步骤S54:根据所述缩小比例B和所述每个所述区域平均流速的所述百分比C,确定对应的所述栅格13的通风面积的缩小比例D:
当百分比C满足:(n2-1)×10%<C≤n2×10%时,D=(n1-n2+1)/(n1+1),其中,n2为正整数。
根据最大区域平均流速对应的缩小比例B和其他每个待调整的栅格13的缩小比例D,对所有带调整的栅格13进行调整,并将调整后的每个栅格13的通风面积作为新的栅格板10设计参数,对流体仿真模型的设计参数进行更新,并返回至步骤S2中进行进一步仿真计算与比对,直至所有的出口区域速度均满足预设条件。
步骤S6:获取每个栅格13的最优通风面积。
当每个出口区域的区域平均流速均满足预设条件后,将最后一次仿真计算的每个栅格13的通风面积作为其最优通风面积进行保存。
实施例二
图3为本实施例提供的栅格板10的结构示意图。如图3所示,本实施例提供了一种栅格板10,其采用实施例一的栅格板设计方法而设计形成。
具体地,栅格板10为矩形板结构,其上设置有多个栅格13,栅格13的个数与实施例一步骤S1中的栅格13的个数相同,每个栅格13的通风面积均为实施例一步骤S5中的最优通风面积,每个栅格13的位置均与实施例一中计算获得的栅格13的位置相同。
本实施例提供的栅格板10,由于其为采用实施例一的栅格板设计方法而获得的非均匀栅格板10,能够实现对气浴装置中的气流进行较好的匀化作用,提高气浴装置中的气浴出口202的流速均匀性和稳定性。且由于其可以根据气浴装置中气流腔的尺寸进行具体计算设置,因此,因此可以满足各类气流腔的需求,避免了气流腔尺寸对栅格板10的限制作用,且栅格板10的尺寸较小,从而压阻较小,能够满足大面积的均匀送风要求。
本实施例还提供了一种气浴装置20,气浴装置20的气流腔中设置上述的栅格板10。
图4为本发明实施例提供的气浴出口的仿真结果图,如图4所示,在气浴装置20中采用上述的栅格板10,每个出口区域处的区域平均流速相差幅度均在在0.1m/s的范围内,气浴出口202处的气流均匀性较好。
本实施例还提供了一种光刻机,包括上述的气浴装置20。
实施例三
图5为本实施例提供的栅格板10的结构示意图。如图5所示,本实施例提供了一种可调式的栅格板10,其能够采用实施例一提供的栅格板设计方法,并辅助自身的调节功能,能使栅格板10从实施例一中的初始的设计参数调节至实施例一中最优的设计参数,获得非均匀的栅格板10设计。
具体地,如图5所示,本实施例提供的栅格板10包括本体1和栅格调节组件2,本体1上开设有多个栅格13,栅格13的个数、位置和初始通风面积均与实施例一步骤S1中的参数相同。调节组件的个数与位置与每个栅格13一一对应,且调节组件能够调节对应的栅格13的通风面积至最优通风面积。
在本实施例中,本体1包括立板11和支撑部12,立板11的长度等于栅格板10的长度,立板11的高度等于栅格板10的高度,立板11沿栅格板10高度方向的两端均垂直延伸有支撑部12,且两个支撑部12相对且平行设置。当栅格板10安装在气浴装置20中时,立板11与气流腔的腔壁垂直,支撑部12与气流腔高度方向的两侧壁贴合。
栅格调节组件2包括拉板21,拉板21与本体11滑动连接,且拉板21能相对栅格板10的高度或长度方向滑动,以调节拉板21对应的栅格13的通风面积。在本实施例中,支撑板上的内侧开设有滑槽121,滑槽121沿栅格板10的长度方向设置,且滑槽121的长度等于栅格板10的长度。
拉板21与立板11平行设置,且拉板21的两端分别位于对应的支撑板的滑槽121内,使拉板21可以沿滑槽121滑动,从而使拉板21沿栅格板10的长度方向对栅格13进行遮挡。在本实施例中,优选将拉板21的一面与立板11抵接,从而避免拉板21与立板11之间存在间隙以使气流在间隙中产生流动。
在实施例中,拉板21设置在立板11远离气浴装置20的气浴出口202的一侧,避免拉板21的设置干扰匀化后的气力流动。
在本实施例中,拉板21远离立板11的一面凸设有拉手部22,方便人为通过拉手部22对拉板21进行调节。拉手部22为半圆球形,有利于减小拉手部22对气流流动的干扰。
在本实施例中,可以拉板21下侧的支撑部12上设置刻度尺,有利于根据计算结果对拉板21进行精确调整。
在实施例中,通过设置可以调节栅格13通风面积的栅格调节组件2,可以将栅格板10从均匀栅格13调整至非均匀栅格13,且在根据实施例一提供的栅格板设计方法的设计结果进行调节至仿真最优结果后,还可以在对栅格板10的试验测试中,根据试验的气浴出口202均匀性程度,对栅格板10中的栅格13通风面积进行微调,使栅格板10能够更加满足工程使用的需求。通过将理论流体仿真模型与工程试验相结合,在弥补了流体仿真模型与实际应用环境的模拟误差的同时,提高了气浴装置20的气浴出口202的流体均匀化程度,也简化了工程试验的时间和工程设计的难度。
本实施例还提供了一种光刻机,包括上述的气浴装置20。
实施例四
如图6所示,本实施例提供了一种可调式的栅格板10,其能够采用实施例一提供的栅格板设计方法,并辅助自身的调节功能,能使栅格板10从实施例一中的初始的设计参数调节至实施例一中最优的设计参数,获得非均匀的栅格板10设计。
具体地,如图6所示,本实施例提供的栅格板10包括本体1和栅格调节组件2,本体1上开设有多个栅格13,调节组件的个数与位置与每个栅格13一一对应,且调节组件能够调节对应的栅格13的通风面积至最优通风面积。
在本实施例中,本体1为六面体结构,本体1的长度方向沿气浴出口202的宽度方向设置。本体1沿其长度方向开设有多个通风槽14,通风槽14贯穿本体1沿宽度方向的两侧,且通风槽14在本体1两侧上形成的槽口相同且正对设置,且其靠近气浴装置20的一侧上的槽口形成上述栅格13,栅格13的个数、位置和初始通风面积均与实施例一步骤S1中的参数相同。
每个栅格调节组件2均位于对应的通风槽14中。如图8所示,栅格调节组件2包括转轴24、连接部25和弧形挡板23。转轴24沿栅格板10的高度方向设置,且转轴24与本体1转动连接。弧形挡板23通过连接部25与转轴24固定连接,弧形挡板23与通风槽14沿栅格板10高度方向的两侧槽壁垂直,且弧形挡板23的弧形开口朝向转轴24,从而使弧形挡板23能够相对本体1转动以对对应栅格13的通风面积进行调节。
在本实施例中,连接部25为圆盘,圆盘与转轴24同轴连接。圆盘的一侧与弧形挡板23连接,且圆盘的直径等于弧形挡板23的外径。在其他实施例中,连接部25可以为扇形,扇形靠近顶点的一端与转轴24连接,扇心的外侧与弧形挡板23连接,且弧形挡板23的外径等于扇形的外径。在其他实施例中,连接部25还可以为其他的形状,只要能实现弧形挡板23与转轴24的偏心连接即可。
在本实施例中,转轴24可以在弧形挡板23沿栅格板10高度方向的两端分别设置一个,每个转轴24处均连接有一个圆盘,转轴24的一端与本体1转动连接,转轴24的另一端与圆盘连接,弧形挡板23的两端分别与两个圆盘连接,有利于提高弧形挡板23的连接稳定性和导向性。
在本实施例中,转轴24连接圆盘的一端未伸入通风槽14中,有利于避免转轴24的设置干扰气流的流动。在其他实施例中,两根转轴24也可以穿过对应的圆盘且连接为一体,或仅设置一根贯穿两个圆盘的转轴24。
在本实施例中,如图7所示,通风槽14沿栅格板10长度方向的两侧边的槽壁为弧形槽15壁,弧形槽15壁的弧度与弧形挡板23的弧度一致,并且弧形挡板23的外表面与弧形槽15壁相贴合,从而有利于弧形挡板23转动时的导向,且减小通风槽14的尺寸。
在本实施例中,通风槽14沿栅格板10高度方向的两侧槽壁均开设有安装槽,安装槽的尺寸与圆盘的尺寸相同,使栅格调节组件2在安装的过程中,两个圆盘分别位于安装槽内,有利于栅格调节组件2的安装定位,且能够避免栅格调节组件2的设置对栅格13通风面积的占用。
在本实施例中,安装槽沿栅格板10高度方向的一侧槽壁上开设有弧形槽15,弧形槽15的弧形与弧形挡板23同心设置,连接部25的一面凸设有限位杆26,限位杆26穿设在弧形槽15内,且能沿弧形槽15滑动。通过设置限位杆26和弧形槽15,可以限制弧形挡板23的转动极限位置。在本实施例中,当限位杆26位于弧形槽15的第一端点处时,弧形挡板23完全遮挡对应的栅格13,当限位杆26位于弧形槽15的第二端点处时,弧形挡板23未遮挡栅格13,且弧形挡板23的外表面与通风槽14的弧形槽15壁完全贴合。
在本实施例中,转轴24可以完全位于气流腔内。在其他实施例中,转轴24也可以贯穿气流腔的腔壁并伸出气浴装置20的外侧,方便人工从气浴装置20的外侧对栅格13调节结构进行调节。此时,转轴24与气流腔的腔壁之间设置有密封装置,防止气体露出。且转轴24伸出气流腔的一端可以连接羊角螺母27等结构,方便人工对转轴24的转动调节。
在本实施例中,气浴装置为气浴装置20,气流腔为气流腔,气流腔内设置上述的栅格板10,栅格板10与气流腔的气浴出口202正对设置。
本实施例还提供了一种光刻机,包括上述的气浴装置20。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (20)
1.一种气浴装置(20)的栅格板设计方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1:确定所述栅格板(10)的初始的设计参数,所述栅格板(10)包括多个栅格(13);
S2:根据所述设计参数,建立气浴装置(20)的流体仿真模型,所述气浴装置(20)包括气浴入口(201)、气浴出口(202)以及气流腔,所述栅格板(10)设置在所述气流腔中;
S3:计算获得所述气浴出口(202)的流体数据;
S4:判断所述流体数据是否满足预设条件,如果是,执行S5;如果否,执行步骤S6;
S5:根据所述流体数据调整每个所述栅格(13)或部分所述栅格(13)的通风面积,更新所述设计参数并返回至S2;
S6:获取每个所述栅格(13)的最优通风面积,从而得到所述栅格板的最终设计参数。
2.根据权利要求1所述的设计方法,其特征在于,初始的设计参数包括所述栅格板(10)的最大总通风面积、所述栅格板(10)中栅格(13)的个数以及每个所述栅格(13)的初始通风面积。
3.根据权利要求1所述的设计方法,其特征在于,在步骤S3之前,还包括:将所述气浴出口(202)划分为若干个依次连接的出口区域,所述出口区域的个数及位置与所述栅格(13)的个数与位置一一对应。
4.根据权利要求3所述的设计方法,其特征在于,所述流体数据包括每个所述出口区域的区域平均流速数据。
5.根据权利要求4所述的设计方法,其特征在于,步骤S5具体指:根据每个所述出口区域的所述区域平均流速,缩小所述区域平均流速超出所述气浴出口(202)的预设平均流速所对应的所述栅格(13)的通风面积。
6.根据权利要求5所述的设计方法,其特征在于,步骤S5包括如下步骤:
S51:计算最大的区域平均流速超出所述预设平均流速的百分比A;
S52:根据所述百分比A确定所述最大的所述区域平均流速对应的所述栅格(13)的通风面积的缩小比例B;
S53:计算其余的每个待调整的所述栅格(13)对应的所述区域平均流速超出所述预设平均流速的百分比C;
S54:根据所述缩小比例B和所述每个所述区域平均流速的所述百分比C,确定每个对应的所述栅格(13)的通风面积的缩小比例D。
7.根据权利要求6所述的设计方法,其特征在于,所述缩小比例B的计算为:
当所述百分比A满足:(n1-1)×10%<A≤n1×10%时,所述缩小比例B=1/(n1+1),其中,n1为正整数;
所述缩小比例D的计算为:
当所述百分比C满足:(n2-1)×10%<C≤n2×10%时,所述缩小比例D(n1-n2+1)/(n1+1),其中,n2为正整数。
8.一种栅格板(10),其特征在于,采用如权利要求1-7任意一项所述的设计方法形成。
9.一种栅格板(10),其特征在于,所述栅格板(10)包括本体(1)和栅格调节组件(2),所述本体(1)上开设有栅格(13),所述栅格调节组件(2)的个数与位置与每个所述栅格(13)一一对应,所述栅格调节组件(2)能够调节对应的所述栅格(13)的通风面积至所述栅格板(13)的最优通风面积。
10.根据权利要求9所述的栅格板(10),其特征在于,所述栅格调节组件包括拉板(21),所述拉板(21)与所述本体(1)滑动连接,且所述拉板(21)能相对所述栅格板(10)的高度或长度方向滑动,以调节所述拉板(21)对应的所述栅格(13)的通风面积。
11.根据权利要求10所述的栅格板(10),其特征在于,所述本体(1)包括:
立板(11),所述立板(11)上开设有所述栅格(13);
支撑部(12),所述立板(11)沿其高度方向的两端垂直延伸有所述支撑部(12),所述支撑部(12)上开设有滑槽(121),所述滑槽(121)沿所述栅格板(10)的长度方向设置,所述拉板(21)的两端分别与对应的所述滑槽(121)滑动连接。
12.根据权利要求11所述的栅格板(10),其特征在于,所述拉板(21)与所立板(11)平行,且所述拉板(21)的一面与所述立板(11)抵接。
13.根据权利要求11所述的栅格板(10),其特征在于,所述拉板(21)远离所述立板(11)的一面凸设有拉动部。
14.根据权利要求9所述的栅格板(10),其特征在于,所述栅格调节组件(2)包括弧形挡板(23),所述弧形挡板(23)与所述本体(1)转动连接,以调节所述弧形挡板(23)对应的所述栅格(13)的通风面积。
15.根据权利要求14所述的栅格板(10),其特征在于,所述栅格调节组件(2)还包括:
转轴(24),其沿所述栅格板(10)的高度方向设置,且所述转轴(24)与所述本体(1)转动连接;
连接部(25),所述弧形挡板(23)通过所述连接部(25)与所述转轴(24)偏心连接,所述弧形挡板(23)的弧形开口朝向所述转轴(24)。
16.根据权利要求15所述的栅格板(10),其特征在于,所述本体(1)为六面体,所述本体(1)上开设有多个通风槽(14),所述通风槽(14)贯穿所述本体(1)沿其宽度方向的两侧,且所述通风槽(14)在所述本体(1)的一侧的槽口形成所述栅格(13),每个所述栅格调节组件(2)均位于对应的所述通风槽(14)内。
17.根据权利要求16所述的栅格板(10),其特征在于,所述通风槽(14)沿所述栅格板(10)高度方向的一侧槽壁上开设有弧形槽(15),所述弧形槽(15)与所述弧形挡板(23)同心设置,所述连接部(25)的一侧凸设有限位杆(26),所述限位杆(26)伸入所述弧形槽(15)内,且能沿所述弧形槽(15)滑动。
18.根据权利要求17所述的栅格板(10),其特征在于,当所述限位杆(26)位于所述弧形槽(15)的第一端点处时,所述弧形挡板(23)完全遮挡所述栅格(13),当所述限位杆(26)位于所述弧形槽(15)的第二端点处时,所述弧形挡板(23)未遮挡所述栅格(13)。
19.一种气浴装置(20),其特征在于,所述气浴装置(20)具有气流腔,所述气流腔内设置有如权利要求8-18任一项所述的栅格板(10),所述栅格板(10)与所述静压腔的气浴出口(202)正对设置。
20.一种光刻机,其特征在于,包含如权利要求19所述的气浴装置(20)。
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