CN110904472A - 一种防电解铜箔断裂阴极辊及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种防电解铜箔断裂阴极辊及其制备方法，所述防电解铜箔断裂阴极辊包括辊体，所述辊体的表面包括O型圈槽、绝缘带、浅钝化带和沉积带；沿所述辊体端部向中央方向，依次镜像设置所述O型圈槽、绝缘带、浅钝化带和沉积带，且相邻所述绝缘带、浅钝化带和沉积带之间紧密排布。本发明通过设置于绝缘带和浅钝化带，不仅将沉积带与O型圈隔开，使铜箔的沉积和剥离不受O型圈上电解液的影响；同时，使铜箔于绝缘带和浅钝化带的分界处均匀断开，显著减小铜箔边缘出现断裂的几率，提高了铜箔边缘平整度。

Description

一种防电解铜箔断裂阴极辊及其制备方法
技术领域
本发明涉及电解铜箔装置领域，特别是一种电解铜箔断裂阴极辊及其制备方法。
背景技术
目前，制备铜箔的方法主要可分为压延铜箔和电解铜箔，压延铜箔的致密度较高，产品表面较为光滑，利于制成印制电路板后的信号快速传递，因此常用于高频高速传送且电路精细的印制电路板上，但由于压延铜箔工艺成本远高于电解铜箔，且工艺条件上也存在诸多限制，使得用压延铜箔工艺难以应用于宽幅铜箔的大规模制备；而电解铜箔是通过连续电解法生产铜箔的方法，适合于生产宽幅铜箔，也是现今最常用的铜箔大规模生产方法。
在电解铜箔时，现有技术常绝缘的O型圈作为带动阴极辊转动的传动带，同时也将O型圈作为阻断铜箔两端边线，使铜箔能够自然地沿边线剥离阴极辊表面。但在实际使用中，在阴极辊不断旋转电解的过程中，O型圈表面也会沾上不少电解液，而这些电解液不断累积结晶，不仅会使铜箔剥离时边界出现不规整情况，严重还会使铜箔出现断裂。故需要提出一种新的阴极辊设计方式用于解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种电解铜箔断裂阴极辊及其制备方法，用于解决现有技术中电解铜箔剥离时出现边缘不规则以及易断裂的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供的第一解决方案为：一种防电解铜箔断裂阴极辊，包括辊体，辊体的表面包括O型圈槽、绝缘带、浅钝化带和沉积带；沿辊体端部向中央方向，依次镜像设置O型圈槽、绝缘带、浅钝化带和沉积带，且相邻绝缘带、浅钝化带和沉积带之间紧密排布。
优选的，辊体为表面镀铬的钛辊。
优选的，O型圈槽用于放置O型圈，且与O型圈的尺寸相适应。
优选的，绝缘带为环绕有PVDF薄膜的辊体区域，PVDF薄膜宽为2～3cm，厚为40～50μm。
优选的，浅钝化带为采用双氧水预处理过的辊体区域，浅钝化带宽为1～2cm。
优选的，沉积带为未处理且保持裸露状态的辊体。
为解决上述技术问题，本发明提供的第二解决方案为：一种防电解铜箔断裂阴极辊的制备方法，其步骤包括：于辊体两端分别刻出环形的O型圈槽；于每一O型圈槽向辊体中央方向，环设PVDF薄膜，制成绝缘带；于每一绝缘带向辊体中央方向，环向涂抹双氧水浸润5～10min，制成浅钝化带；于浅钝化带自然干燥后，两条浅钝化带之间形成沉积带。
其中，防电解铜箔断裂阴极辊的制备方法用于制备前述第一解决方案中任一防电解铜箔断裂阴极辊。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供一种电解铜箔断裂阴极辊及其制备方法，通过设置于绝缘带和浅钝化带，不仅将沉积带与O型圈隔开，使铜箔的沉积和剥离不受O型圈上电解液的影响；同时，使铜箔于绝缘带和浅钝化带的分界处均匀断开，显著减小铜箔边缘出现断裂的几率，提高了铜箔边缘平整度。
附图说明
图1是本发明中防电解铜箔断裂阴极辊一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本发明保护的范围。
对于本发明提供的第一解决方案，请参阅图1，图1是本发明中防电解铜箔断裂阴极辊一实施方式的结构示意图。本发明中防电解铜箔断裂阴极辊包括辊体100，辊体的表面包括O型圈槽101、绝缘带102、浅钝化带103和沉积带104；沿辊体100端部向中央方向，依次镜像设置O型圈槽101、绝缘带102、浅钝化带103和沉积带104，且相邻绝缘带102、浅钝化带103和沉积带104之间紧密排布。
本实施方式中，优选辊体为表面镀铬的钛辊；O型圈槽用于放置O型圈，且与O型圈的尺寸相适应；绝缘带为环绕有PVDF薄膜的辊体区域，PVDF薄膜宽为2～3cm，厚为40～50μm；浅钝化带为采用双氧水预处理过的辊体区域，浅钝化带宽为1～2cm；优选的，沉积带为未处理且保持裸露状态的辊体。
对于本发明提供的第二解决方案，防电解铜箔断裂阴极辊的制备方法，其步骤包括：于辊体两端分别刻出环形的O型圈槽；于每一O型圈槽向辊体中央方向，环设PVDF薄膜，制成绝缘带；于每一绝缘带向辊体中央方向，环向涂抹双氧水浸润5～10min，制成浅钝化带；于浅钝化带自然干燥后，两条浅钝化带之间形成沉积带。由于防电解铜箔断裂阴极辊的制备方法用于制备前述第一解决方案中任一防电解铜箔断裂阴极辊，则两解决方案中防电解铜箔断裂阴极辊的结构和功能应保持一致。
进一步地，对上述防电解铜箔断裂阴极辊的原理进行说明。本实施方式中，一方面，设置绝缘带是为了使沉积带与O型圈直接隔开，避免铜箔沉积边缘形状受到O型圈上电解液累积结晶的影响，而优选PVDF薄膜作为绝缘带则是利用了PVDF的耐蚀性和低摩擦系数，使绝缘带能够保持稳定且铜箔容易平整剥离；另一方面，由于通常在沉积铜箔使会出现中央薄而两边较厚的情况，设置浅钝化带是为了用双氧水将辊体的浅表面进行短时间的初步钝化，而非完全表层钝化，削弱铜箔沉积两边较厚的情况，也使得铜箔容易平整剥离，显著降低了铜箔边缘断裂率。
区别于现有技术的情况，本发明提供一种电解铜箔断裂阴极辊及其制备方法，通过设置于绝缘带和浅钝化带，不仅将沉积带与O型圈隔开，使铜箔的沉积和剥离不受O型圈上电解液的影响；同时，使铜箔于绝缘带和浅钝化带的分界处均匀断开，显著减小铜箔边缘出现断裂的几率，提高了铜箔边缘平整度。
以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种防电解铜箔断裂阴极辊，其特征在于，包括辊体，所述辊体的表面包括O型圈槽、绝缘带、浅钝化带和沉积带；
沿所述辊体端部向中央方向，依次镜像设置所述O型圈槽、绝缘带、浅钝化带和沉积带，且相邻所述绝缘带、浅钝化带和沉积带之间紧密排布。
2.根据权利要求1中所述的防电解铜箔断裂阴极辊，其特征在于，所述辊体为表面镀铬的钛辊。
3.根据权利要求1中所述的防电解铜箔断裂阴极辊，其特征在于，所述O型圈槽用于放置O型圈，且与O型圈的尺寸相适应。
4.根据权利要求1中所述的防电解铜箔断裂阴极辊，其特征在于，所述绝缘带为环绕有PVDF薄膜的所述辊体区域，所述PVDF薄膜宽为2～3cm，厚为40～50μm。
5.根据权利要求1中所述的防电解铜箔断裂阴极辊，其特征在于，浅钝化带为采用双氧水预处理过的所述辊体区域，所述浅钝化带宽为1～2cm。
6.根据权利要求1中所述的防电解铜箔断裂阴极辊，其特征在于，所述沉积带为未处理且保持裸露状态的所述辊体。
7.一种防电解铜箔断裂阴极辊的制备方法，其特征在于，其步骤包括：
于所述辊体两端分别刻出环形的O型圈槽；
于每一所述O型圈槽向所述辊体中央方向，环设PVDF薄膜，制成绝缘带；
于每一所述绝缘带向所述辊体中央方向，环向涂抹双氧水浸润5～10min，制成浅钝化带；
于所述浅钝化带自然干燥后，两条所述浅钝化带之间形成沉积带。
8.根据权利要求7中所述的防电解铜箔断裂阴极辊的制备方法，其特征在于，所述防电解铜箔断裂阴极辊的制备方法用于制备权利要求1～6中任一所述防电解铜箔断裂阴极辊。
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