CN110873702A - 耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件 - Google Patents

耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件 Download PDF

Info

Publication number
CN110873702A
CN110873702A CN201910672314.9A CN201910672314A CN110873702A CN 110873702 A CN110873702 A CN 110873702A CN 201910672314 A CN201910672314 A CN 201910672314A CN 110873702 A CN110873702 A CN 110873702A
Authority
CN
China
Prior art keywords
lightness
oleic acid
optical member
coating
fingerprint resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910672314.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110873702B (zh
Inventor
星野弘气
户高昌也
大类知生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Publication of CN110873702A publication Critical patent/CN110873702A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110873702B publication Critical patent/CN110873702B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
    • G01N21/4738—Diffuse reflection, e.g. also for testing fluids, fibrous materials
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/26—Oils; Viscous liquids; Paints; Inks
    • G01N33/32—Paints; Inks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9511—Optical elements other than lenses, e.g. mirrors
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513—Liquid crystal panels
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/9506—Optical discs

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Piezo-Electric Transducers For Audible Bands (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性的耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法以及耐指纹性优异的光学构件。该耐指纹性的评价方法中，测定评价对象表面的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，接着，在评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后，测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，将涂布油酸稀释液前后的明度L*作为指标，评价评价对象的表面的耐指纹性。

Description

耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件
技术领域
本发明涉及一种耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法及光学构件、特别是耐指纹性优异的光学构件。
背景技术
近年来，在各种电子设备中，多利用兼具显示装置与输入手段的触摸面板。为了防止擦伤，通常在该触摸面板的表面上设置有具有硬涂层的硬涂膜。
对于该触摸面板，由于利用手指进行操作的情况较多，因此通常在触摸面板的表面上会附着因手指油脂导致的指纹。若像这样指纹附着于触摸面板的表面，则外观变差，且同时难以看清显示图像。因此，要求上述硬涂膜具有作为不易看见附着指纹的性能的耐指纹性。
在以往，并没有明确的用于评价耐指纹性的指标，作为参考，不过是测定水或油酸的接触角、或对实际附着指纹时的外观进行感官评价而已。然而，所测定的接触角与感官评价之间的相关性低，此外，存在仅通过肉眼进行感官评价时，再现性低的问题。
对此，专利文献1中提出了一种污染性评价方法，该方法中，对试验体照射光，检测该试验体中发生反射或透射的散射光，评价试验体表面的污染程度。具体而言，利用国际照明委员会(CIE)所规定的L*a*b*颜色模型中的ΔE*ab，根据表面被人为污染后的ΔE*ab与之后实施了清洗处理后的ΔE*ab的差，进行污染程度的评价。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2008/029946号公报
发明内容
本发明要解决的技术问题
然而，像专利文献1那样利用ΔE*ab时，表面被人为污染后的ΔE*ab与之后实施了清洗处理后的ΔE*ab的差绝对地小，难以明确指纹的附着程度。因此，其并非是评价耐指纹性的充分的指标。
本发明是鉴于上述实际状况而完成的，其目的在于提供一种能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性的耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法以及耐指纹性优异的光学构件。
解决技术问题的技术手段
为了实现上述目的，第一，本发明提供一种耐指纹性的评价方法，其特征在于，测定评价对象表面的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，接着，在所述评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后，测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，将涂布所述油酸稀释液前后的所述明度L*作为指标，评价所述评价对象的表面的耐指纹性(发明1)。
另外，本发明中的“耐指纹性”是指不易通过肉眼看到附着指纹的性能。
根据上述发明(发明1)，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性。此外，与基于肉眼的评价之间的相关性也高。
上述发明(发明1)中，优选油酸稀释液为利用挥发性溶剂稀释油酸而成的液体。此外，优选挥发性溶剂为醇类溶剂，优选醇类溶剂为乙醇。油酸稀释液中的油酸的浓度优选为0.12质量％以上、12质量％以下。优选使用棒涂机将油酸稀释液涂布在评价对象的表面上。
上述发明(发明1)中，优选：将涂布所述油酸稀释液前的所述明度L*设为涂布前明度L*，将涂布所述油酸稀释液后的所述明度L*设为涂布后明度L*，根据由所述涂布后明度L*减去所述涂布前明度L*而得到的变化量ΔL*，评价所述评价对象的表面的耐指纹性；或者将涂布所述油酸稀释液前的所述明度L*设为涂布前明度L*，将涂布所述油酸稀释液后的所述明度L*设为涂布后明度L*，根据利用下述式算出的变化率(％)，评价所述评价对象的表面的耐指纹性(发明2、3)。此外，也可以根据这两者来进行评价。
变化率＝{(涂布后明度L*-涂布前明度L*)/涂布前明度L*}×100
上述发明(发明1～3)中，优选在所述评价对象的涂布有所述油酸稀释液的表面上存在硬涂层(发明4)。
上述发明(发明1～4)中，优选所述评价对象为光学构件(发明5)。
第二，本发明提供一种光学构件的生产方法，其特征在于，其具备：得到光学构件的工序；及将所述光学构件作为评价对象，通过所述耐指纹性的评价方法(发明1～5)进行耐指纹性的评价的评价工序(发明6)。
第三，本发明提供一种光学构件，其特征在于，将涂布油酸稀释液前的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布前明度L*，并将涂布油酸稀释液后的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布后明度L*时，由所述涂布后明度L*减去所述涂布前明度L*而得到的变化量ΔL*小于0.3(发明7)。
第四，本发明提供一种光学构件，其特征在于，将涂布油酸稀释液前的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布前明度L*，并将涂布油酸稀释液后的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布后明度L*时，利用下述式算出的变化率为6％以下(发明8)。
变化率＝{(涂布后明度L*-涂布前明度L*)/涂布前明度L*}×100
上述发明(发明7、8)中，优选在所述光学构件的涂布有所述油酸稀释液的表面上存在硬涂层(发明9)。
发明效果
根据本发明的耐指纹性的评价方法，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性。此外，根据本发明的光学构件的生产方法，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性，并能够生产光学构件。进一步，本发明的光学构件的耐指纹性优异。
附图说明
图1为本发明的一个实施方式的光学构件的剖面图。
附图标记说明
1：光学构件；11：基材；12：硬涂层。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。
[耐指纹性的评价方法]
本发明的一个实施方式的耐指纹性的评价方法中，测定评价对象表面的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，接着，在评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后，测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，将涂布油酸稀释液前后的上述明度L*作为指标，评价评价对象的表面的耐指纹性。
根据上述评价方法，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性。此外，与基于肉眼的评价之间的相关性也高。
作为评价对象的种类没有特别限定，根据上述耐指纹性的评价方法，能够评价各种各样的评价对象的耐指纹性。作为这种评价对象，可优选列举出易附着指纹的物品或指纹的附着易于显眼的物品，可特别优选列举出具有平滑的表面的物品。此外，该评价对象可以为透明的物品，也可以为不透明的物品，可以为无色的物品，也可以为有颜色的物品，其中，优选透明的物品，特别优选无色透明的物品。作为具体的评价对象，例如可列举出光学构件、光盘、外壳等。作为光学构件，例如可列举出塑料膜、塑料板、玻璃板；在它们的单面或两面上设置有各种功能层(透明导电膜、金属层、二氧化硅层、硬涂层、防眩层等)的物体；具备它们的显示体、触摸面板或它们的一个构件等。上述之中，特别优选在最外层表面(手指接触的面)具有硬涂层的塑料膜、塑料板、玻璃板、显示体、触摸面板等。
上述明度L*的测定方法的详细内容如后文所示，但当评价对象为透明构件(特别是透明膜)时，优选将评价对象贴附在黑色板上后再进行测定。由此，能够更加准确地以明度L*的形式测定附着在评价对象上的指纹。
作为此时所使用的黑色板的颜色(色味)，优选由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*为0.1～60、色度a*为-40～40、色度b*为-40～40，特别优选明度L*为1～30、色度a*为-20～20、色度b*为-20～20，进一步优选明度L*为2～15、色度a*为-10～10、色度b*为-10～10。
上述黑色板的材料没有特别限定，例如能够使用塑料板、金属板、陶瓷板等，其中，优选易于显现上述黑色的颜色的塑料板。作为塑料板，例如可列举出亚克力板、聚碳酸酯板、聚对苯二甲酸乙二酯板、氯乙烯树脂板等，其中，优选易于显现上述黑色的颜色的亚克力板。
将评价对象贴附于黑色板的方法没有特别限定，但是优选使用具有透明度高、折射率接近1的粘着剂层的粘着片。该粘着剂层的雾度值(基于JIS K7136：2000测定的值)优选为10％以下，特别优选为5％以下，进一步优选为1％以下。此外，该粘着剂层的折射率(依据JIS K7142的B法)优选为1.2～1.8，特别优选为1.3～1.6，进一步优选为1.4～1.55。
优选评价对象的表面上所涂布的油酸稀释液为利用挥发性溶剂稀释油酸而成的液体。优选挥发性溶剂为沸点为35～110℃的挥发性溶剂。作为该挥发性溶剂，例如可列举出甲醇、乙醇、丁醇、异丙醇等醇；二乙醚、四氢呋喃等醚，丙酮等酮，乙酸乙酯等酯，己烷等脂肪烃，苯、甲苯等芳香烃，二氯甲烷、三氯乙烷等卤代烃等。这些挥发性溶剂能够单独使用一种，也能够组合使用两种以上。
上述之中，从增大涂布油酸稀释液后的明度L*，并易于进行耐指纹性的评价的角度出发，优选醇类溶剂，特别优选乙醇。
上述油酸稀释液中的油酸的浓度的下限值优选为0.12质量％以上，特别优选为0.15质量％以上，进一步优选为0.18质量％以上。由此，接近实际的指纹的易附着性。此外，上述油酸稀释液中的油酸的浓度的上限值优选为12质量％以下，更优选为6质量％以下，特别优选为2质量％以下，进一步优选为0.5质量％以下。由此，接近实际的指纹的易擦去度。
作为在评价对象的表面上涂布油酸稀释液的方法，例如能够利用棒涂法、刮刀涂布法、辊涂法、刮片涂布法、模具涂布法、凹版涂布法等。上述之中，优选棒涂法，即优选使用棒涂机进行涂布。通过棒涂机，能够在评价对象的平面状的表面上均匀地涂布油酸稀释液，由此在评价对象的表面上均匀地形成油酸层，可正确地测定涂布油酸稀释液后的明度L*。作为棒涂机，特别优选绕线棒(wire bar)。
在评价对象的表面上涂布油酸稀释液后，使该油酸稀释液干燥，在评价对象的表面上形成油酸层。作为干燥的条件，根据所使用的稀释溶剂适当决定即可，但是从在评价对象的表面上均匀地形成油酸层的角度出发，优选以5℃～80℃、特别优选以20℃～40℃使其干燥。特别是，使用乙醇作为稀释溶剂时，优选在常温常压(主要为23℃、50％RH)下使其自然干燥。
如上所述使油酸稀释液干燥后，再次通过与上述方法相同的方法，测定评价对象的表面(形成有油酸层的面)的明度L*。
此处，将涂布油酸稀释液前所测定的明度L*称为“涂布前明度L*”，将涂布油酸稀释液后所测定的明度L*称为“涂布后明度L*”。本实施方式中，将涂布前明度L*及涂布后明度L*作为指标，评价评价对象的表面的耐指纹性。
具体而言，第一，根据由涂布后明度L*减去涂布前明度L*而得到的变化量ΔL*，能够评价评价对象的表面的耐指纹性。此时，变化量ΔL*小的可以说是耐指纹性优异。为了具有优异的耐指纹性，变化量ΔL*优选小于0.3，更优选为0.2以下，特别优选为0.12以下，进一步优选为0.04以下。另外，变化量ΔL*的下限值最优选为0，但是通常优选为0.01以上，特别优选为0.02以上。
第二，根据利用下述式算出的明度L*的变化率(％)，能够评价评价对象的表面的耐指纹性。
变化率＝{(涂布后明度L*-涂布前明度L*)/涂布前明度L*}×100
此时，变化率小的可以说是耐指纹性优异。为了具有优异的耐指纹性，明度L*的变化率优选为6％以下，更优选为4％以下，特别优选为2％以下，进一步优选为1.0％以下，最优选为0.9％以下。另外，变化率的下限值最优选为0％，但是通常优选为0.01％以上，特别优选为0.1％以上。
另外，将本发明的涂布前明度L*及涂布后明度L*作为指标的耐指纹性的评价方法不受上述限定。例如，也能够将(涂布后明度L*)2-(涂布前明度L*)2的值，或该值的平方根等作为指标。
[光学构件的生产方法]
本发明的一个实施方式的光学构件的生产方法具备：得到光学构件的工序；及将该光学构件作为评价对象，通过上述耐指纹性的评价方法，进行耐指纹性的评价的评价工序。根据该光学构件的生产方法，上述评价工序中，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性，并能够生产光学构件。因此，能够以高成品率生产耐指纹性优异的光学构件。
更具体而言，优选：制造作为样品的光学构件(得到光学构件的工序)，将该光学构件作为评价对象，通过上述的耐指纹性的评价方法，进行耐指纹性的评价(评价工序)，并通过与被判断为耐指纹性优异的样品的制造方法相同的制造方法，制造光学构件(得到光学构件的工序)。
作为光学构件的种类，可列举出上述的光学构件。其中，特别优选在最外层表面(手指接触的面)具有硬涂层的塑料膜、塑料板、玻璃板、显示体、触摸面板等。
光学构件自身能够通过以往公知的方法制造。然而，对于耐指纹性优异的光学构件，优选通过后述的方法制造。
[光学构件]
本发明的第一实施方式的光学构件为上述由涂布后明度L*减去涂布前明度L*而得到的变化量ΔL*小于0.3的光学构件。此外，本发明的第二实施方式的光学构件为基于上述涂布后明度L*及涂布前明度L*、利用下述式算出的变化率为6％以下的光学构件。
变化率＝{(涂布后明度L*-涂布前明度L*)/涂布前明度L*}×100
上述第一实施方式的光学构件及第二实施方式的光学构件的耐指纹性优异，即，不易看见附着指纹的性能优异。可定量地、且以高再现性评价该优异的耐指纹性。
从耐指纹性的角度出发，第一实施方式的光学构件的上述变化量ΔL*优选为0.2以下，特别优选为0.12以下，进一步优选为0.04以下。此外，从耐指纹性的角度出发，第二实施方式的光学构件的上述变化率优选为4％以下，特别优选为2％以下，进一步优选为1.0％以下，最优选为0.9％以下。另外，上述变化量ΔL*的下限值最优选为0，但是通常优选为0.01以上，特别优选为0.02以上。此外，上述变化率的下限值最优选为0％，但是通常优选为0.01％以上，特别优选为0.1％以上。
作为本实施方式的光学构件的种类，可列举出上述的光学构件。其中，特别优选在最外层表面(手指接触的面)具有硬涂层的塑料膜、塑料板、玻璃板、显示体、触摸面板等。
参照图1对本实施方式的光学构件进行说明。
如图1所示，本实施方式的光学构件1由基材11及形成在基材11的一个面上的硬涂层12构成。
1.各构件
1-1.基材
本实施方式的光学构件1的基材11没有特别限定，但可优选列举出塑料膜、塑料板及玻璃板。可以在基材11的与硬涂层12为相反侧的面上设置各种功能层，例如透明导电膜、金属层、二氧化硅层、硬涂层、防眩层等。此外，也可以在基材11与硬涂层12之间设置各种功能层，例如透明导电膜、金属层、二氧化硅层、防眩层等。
作为塑料膜，例如可列举出聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜等聚烯烃膜、赛璐玢、二醋酸纤维素膜、三醋酸纤维素膜、醋酸纤维素丁酸酯膜、聚氯乙烯膜、聚偏二氯乙烯膜、聚乙烯醇膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚甲基戊烯膜、聚砜膜、聚醚醚酮膜、聚醚砜膜、聚醚酰亚胺膜、氟树脂膜、聚酰胺膜、丙烯酸树脂膜、聚氨酯树脂膜、降冰片烯类聚合物膜、环状烯烃类聚合物膜、环状共轭二烯类聚合物膜、乙烯基脂环式烃聚合物膜等塑料膜或它们的层叠膜。其中，从机械强度等方面出发，优选聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚碳酸酯膜、降冰片烯类聚合物膜等。
此外，上述塑料膜中，以提高与设置在其表面上的层(硬涂层12或粘着剂层等)的密合性为目的，可根据需要，通过底漆处理(primer treatment)、氧化法、凹凸化法等在单面或两面上实施表面处理。作为氧化法，例如可列举出电晕放电处理、铬酸处理、火焰处理、热风处理、臭氧〃紫外线处理等，作为凹凸化法，例如可列举出喷砂法、溶剂处理法等。这些表面处理法可根据塑料膜的种类进行适当选择，但是从效果及操作性方面出发，通常优选使用电晕放电处理法。
塑料膜的厚度通常为15～300μm左右，优选为30～200μm左右。
作为塑料板，没有特别限定，例如可列举出亚克力板、聚碳酸酯板等。塑料板的厚度没有特别限定，但是通常为0.3～5mm，优选为0.5～3mm。
作为玻璃板，没有特别限定，例如可列举出化学强化玻璃、无碱玻璃、石英玻璃、钠钙玻璃、含钡锶玻璃、铝硅酸盐玻璃、铅玻璃、硼硅酸盐玻璃、钡硼硅酸盐玻璃等。玻璃板的厚度没有特别限定，但通常为0.1～5mm，优选为0.2～3mm。
1-2.硬涂层
只要以涂布后明度L*及涂布前明度L*为指标的变化量ΔL*或变化率满足上述值，则本实施方式的光学构件1的硬涂层12可以由任意材料形成，但是优选通过固化下文所说明的涂布组合物C而形成。通过涂布组合物C，易于形成满足上述值的硬涂层12。
本实施方式的涂布组合物C含有活性能量射线固化性成分、微粒及规定的表面调整剂。
(1)各成分
(1-1)活性能量射线固化性成分
通过使涂布组合物C含有活性能量射线固化性成分，利用活性能量射线使该涂布组合物C固化而得到的硬涂层12具有所期望的硬度及耐擦伤性。
作为活性能量射线固化性成分，可列举出多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体、(甲基)丙烯酸酯类预聚物、活性能量射线固化性聚合物等。作为活性能量射线固化性成分，优选至少使用多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体，特别优选同时使用多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体及(甲基)丙烯酸酯类预聚物。另外，在本说明书中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者。其他的类似用语也相同。
作为多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体，例如可列举出1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇酯二(甲基)丙烯酸酯、二环戊基二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化环己基二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能度(甲基)丙烯酸酯。上述之中，优选二季戊四醇类的(甲基)丙烯酸酯，特别优选二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯，进一步优选二季戊四醇六丙烯酸酯。这些多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
另一方面，作为(甲基)丙烯酸酯类预聚物，例如可列举出聚酯丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类、氨基甲酸乙酯丙烯酸酯类、多元醇丙烯酸酯类等预聚物。这些预聚物可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
作为聚酯丙烯酸酯类预聚物，例如，可通过以下方式而得到：利用(甲基)丙烯酸，将通过多元羧酸与多元醇的缩合而得到的、在两末端具有羟基的聚酯寡聚物的羟基酯化；或是利用(甲基)丙烯酸，将向多元羧酸加成环氧烷而得到的寡聚物的末端的羟基酯化。
环氧丙烯酸酯类预聚物例如可通过以下方式而得到：使分子量相对较低的双酚型环氧树脂或酚醛清漆型环氧树脂的环氧乙烷环，与(甲基)丙烯酸反应而进行酯化。
氨基甲酸乙酯丙烯酸酯类预聚物例如可通过以下方式而得到：利用(甲基)丙烯酸，将通过聚醚多元醇或聚酯多元醇与聚异氰酸酯的反应而得到的聚氨酯寡聚物酯化。
多元醇丙烯酸酯类预聚物例如可通过利用(甲基)丙烯酸，将聚醚多元醇的羟基酯化而得到。
上述之中，优选氨基甲酸乙酯丙烯酸酯类预聚物(多官能度氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯)，特别优选多官能度氨基甲酸乙酯丙烯酸酯。此外，优选同时使用多官能度氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯与多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体，特别优选同时使用多官能度氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯与二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
同时使用多官能度氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯与多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体(特别是二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯)时，相对于100质量份的多官能度(甲基)丙烯酸酯类单体的多官能度氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯的掺合量优选为50质量份以上，特别优选为80质量份以上，进一步优选为95质量份以上。此外，该掺合量优选为150质量份以下，特别优选为120质量份以下，进一步优选为105质量份以下。
(1-2)微粒
微粒可以为无机类微粒及有机类微粒中的任意一种，优选涂布前后的明度L*的变化量〃变化率容易成为上述值的无机类微粒。此外，微粒、特别是无机类微粒的形状优选为非球状，特别优选为无定形。此处所谓的“无定形”是指不是球状或椭圆形状这种规则的形状，而是具有不规则的多个角或面的形状。另外，微粒可以单独使用一种或组合使用两种以上。
作为无机类微粒，例如可列举出由二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化锌、氧化锗、氧化铟、氧化锡、氧化铟锡(ITO)、氧化锑、氧化铈等金属氧化物；氟化镁、氟化钠等金属氟化物等形成的微粒。上述之中，优选二氧化硅及氧化铝，特别优选二氧化硅，进一步优选无定形的二氧化硅。另外，无机类微粒的表面也可使用有机化合物等而进行了化学改性。
微粒的平均粒径优选为0.1μm以上，特别优选为0.4μm以上，进一步优选为0.6μm以上。此外，微粒的平均粒径优选为20μm以下，进一步优选为10μm以下，特别优选为4μm以下，进一步优选为2μm以下。另外，本说明书中的微粒的平均粒径为利用激光衍射散射式粒度分布测定装置(HORIBA,Ltd.制造，产品名称“LA-920”)所测定的值。
关于上述微粒的粒度分布，下述式所表示的粒径的变异系数(CV值)优选为10％以上，特别优选为50％以上，进一步优选为80％以上。此外，上述CV值优选为300％以下，更优选为200％以下，特别优选为150％以下，进一步优选为100％以下。
粒径的变异系数(CV值)(％)＝(标准偏差粒径/平均粒径)×100
另外，将粒径的变异系数(CV值)定义为利用激光衍射散射式粒度分布测定装置(HORIBA,Ltd.制造，产品名称“LA-920”)所测定的值。
相对于100质量份的活性能量射线固化性成分的上述微粒的掺合比例优选为1质量份以上，特别优选为6质量份以上，进一步优选为12质量份以上。此外，上述掺合比例优选为50质量份以下，特别优选为30质量份以下，进一步优选为20质量份以下。通过使微粒的掺合比例在上述范围内，涂布前后的明度L*的变化量〃变化率容易成为上述值。
(1-3)表面调整剂
为了得到耐指纹性优异的光学构件，优选涂布组合物C所含有的表面调整剂为氟类化合物。作为氟类化合物，例如可列举出氟代烷基羧酸盐、氟代烷基磷酸盐、氟代烷基磺酸盐、氟代烷基铵盐类、氟代烷基环氧乙烷衍生物、氟代烯基低聚物衍生物、氟代金刚烷衍生物等。其中，从耐指纹性的角度出发，特别优选具有金刚烷骨架的氟类化合物。
此外，从耐指纹性的角度出发，优选上述氟类化合物为具有聚合性官能团的化合物，即含聚合性官能团的氟类化合物。其中，从耐指纹性的角度出发，特别优选具有金刚烷骨架的含聚合性官能团的氟类化合物，即含有聚合性基团的含氟金刚烷衍生物。另外，表面调整剂可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
优选上述含有聚合性基团的含氟金刚烷衍生物为下述通式(I)所表示的化合物。
[化学式1]
Figure BDA0002142119370000131
上述通式(I)中，s为1～15，优选为1～12的整数；t为1～15，优选为4～15的整数；u为0～14，优选为0～4的整数，且s+t+u＝16。此外，上述通式(I)中，F表示氟原子。
上述通式(I)中，Y表示选自氢原子、烃基、烷氧基、卤素取代的烃基、环烃基、卤素取代的环烃基、羟基、羧基、及键合在同一个碳原子上的2个Y与碳原子一起形成的C＝O中的基团。
作为Y所表示的烃基，例如可列举出碳原子数为1～10的烷基等。烷基可以为直链状、支链状、环状中的任意一种，作为具体例，可列举出甲基、乙基、丙基、丁基等。作为烷氧基，可列举出甲氧基及乙氧基等。作为卤素取代的烃基，可列举出上述烃基的1个以上的氢原子被卤原子取代而成的基团，例如三氟甲基等。另外，作为卤原子，可列举出氟、氯、溴及碘(以下相同)。
作为Y所表示的环烃基，例如可列举出碳原子数为5～10的环烷基，具体而言，可列举出环戊基、甲基环戊基、环己基、甲基环己基、乙基环己基等。此外，作为卤素取代的环烃基，可列举出上述环烃基的1个以上的氢原子被卤原子取代而成的基团，例如氟代环戊基、氟代环己基、三氟甲基环戊基、三氟甲基环己基等。
上述通式(I)中，Z1表示下述通式(II)或(III)所表示的基团。
[化学式2]
Figure BDA0002142119370000141
上述通式(II)或(III)中，R1～R4分别独立地表示氢原子、卤原子或可以含有杂原子的碳原子数为1～20、优选为1～15的脂肪族烃基。n及m为0以上的整数。
R1～R4所表示的碳原子数为1～20、优选为1～15的脂肪族烃基中，作为不含杂原子的脂肪族烃基，可列举出具有甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基等碳原子数为1～20、优选碳原子数为1～15的直链或支链的烷基。
R1～R4所表示的碳原子数为1～20、优选为1～15的脂肪族烃基中，作为包含杂原子的脂肪族烃基，可列举出具有-O-(碳原子数为1～20、优选碳原子数为1～15的直链或具有支链的烷基)、-S-(碳原子数为1～20、优选碳原子数为1～15的直链或具有支链的烷基)、-CO-(碳原子数为1～19、优选碳原子数为1～14的直链或具有支链的烷基)、-NH-(碳原子数为1～20、优选碳原子数为1～15的直链或具有支链的烷基)、-N(碳原子数为1～19、优选碳原子数为1～7的直链或具有支链的烷基)2等的骨架的脂肪族羟基。
作为包含杂原子的碳原子数为1～20、优选为1～15的脂肪族烃基，具体而言，可列举出甲氧基、乙氧基、丁氧基、羟甲基、羟乙基、甲硫基、乙硫基、甲氨基、二甲氨基、乙氨基，二乙氨基等。
上述通式(II)中，n为0以上的整数，例如为0～20的整数，优选为0～10的整数，更优选为0、1、2、3、4或5。
上述通式(III)中，m为0以上的整数，例如为0～20的整数，优选为0～10的整数，更优选为0、1、2、3、4或5，特别优选为0或1。
上述通式(I)中，X1表示下述通式(IV)、下述式(V)或下述通式(VI)所表示的聚合性基团。
[化学式3]
Figure BDA0002142119370000151
上述通式(IV)中，R5表示氢原子、甲基或三氟甲基。此外，上述通式(VI)中，R6表示碳原子数为1～5的烃基。作为该碳原子数为1～5的烃基，可列举出烷基、烷氧基等。烷基可以为直链状、支链状、环状中的任意一种，作为具体例子，可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基等。作为烷氧基，可列举出甲氧基、乙氧基等。
作为上述含有聚合性基团的含氟金刚烷衍生物，特别优选1-全氟金刚烷基甲基丙烯酸酯、全氟-1,3-双(丙烯酰氧基乙氧基)金刚烷及全氟-1,3-金刚烷二醇二甲基丙烯酸酯。
由于上述含有聚合性基团的含氟金刚烷衍生物在分子内具有X1的聚合性基团、例如反应性的(甲基)丙烯酸酯基，因此通过活性能量射线的照射，与作为主要成分的活性能量射线固化性成分进行反应，形成一体化的硬涂层12。通过该硬涂层12，涂布前后的明度L*的变化量〃变化率容易成为上述值，且该物性的持续性高。
作为氟类的表面调整剂而市售的产品，例如可列举出DIC CORPORATION制造的MEGAFACE F系列、MEGAFACE R系列、MEGAFACE RS系列；Neos Corporation制造的ftergent系列；3M Japan Limited制造的FC-4430、FC-4432；AGC SEIMI CHEMICAL CO.,LTD.制造的SURFLON系列等。
相对于100质量份的活性能量射线固化性成分的上述表面调整剂的掺合比例优选为0.01质量份以上，特别优选为0.08质量份以上，进一步优选为0.12质量份以上。此外，上述掺合比例优选为1质量份以下，特别优选为0.6质量份以下，进一步优选为0.2质量份以下。通过使表面调整剂的含量在上述范围内，涂布前后的明度L*的变化量〃变化率容易成为上述值。
(1-4)光聚合引发剂
使用紫外线作为用于使上述活性能量射线固化性成分固化的活性能量射线时，优选涂布组合物C含有光聚合引发剂。通过这样含有光聚合引发剂，能够有效地聚合活性能量射线固化性成分，此外，能够减少聚合固化时间及紫外线的照射量。
作为这种光聚合引发剂，例如可列举出苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻异丁醚、苯乙酮、二甲氨基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-2-(羟基-2-丙基)酮、二苯甲酮、对苯基二苯甲酮、4,4’-二乙基氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、安息香双甲醚、苯乙酮二乙酮(acetophenonediethyl ketal)、对二甲基氨基苯甲酸酯、低聚[2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦等。这些光聚合引发剂可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
相对于100质量份的活性能量射线固化性成分的上述光聚合引发剂的掺合比例优选为0.01质量份以上，特别优选为0.1质量份以上，进一步优选为1质量份以上。此外，上述掺合比例优选为20质量份以下，特别优选为10质量份以下，进一步优选为5质量份以下。
(1-5)其他成分
除了上述成分以外，涂布组合物C也可以含有各种添加剂。作为各种添加剂，例如可列举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、光稳定剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、抗老化剂、热聚合抑制剂、着色剂、表面活性剂、保存稳定剂、增塑剂、润滑剂、消泡剂、湿润性改良剂、涂面改良剂等。
(2)硬涂层的厚度
硬涂层12的厚度优选为1μm以上，特别优选为2μm以上，进一步优选为3μm以上。通过使硬涂层12的厚度的下限值为上述值，硬涂层具有所期望的耐擦伤性及铅笔硬度。此外，硬涂层12的厚度优选为20μm以下，特别优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下。通过使硬涂层12的厚度的上限值为上述值，涂布前后的明度L*的变化量〃变化率容易成为上述值。进一步，从涂布前后的明度L*的变化量〃变化率成为更优选的值的角度出发，硬涂层12的厚度优选为8μm以下，特别优选为5μm以下，进一步优选为4μm以下。
2.光学构件的制造方法
本实施方式的光学构件1能够通过以下方式而制造：将含有硬涂层12形成用的涂布组合物、优选将含有涂布组合物C及根据需要的溶剂的涂布液涂布在基材11上，使其固化而形成硬涂层12。
溶剂可用于涂布性的改良、粘度调节、固体成分浓度的调节等，只要为能溶解固化性成分等、分散微粒等的溶剂，则可没有特别限定地进行使用。
作为溶剂的具体例，可列举出甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯等酯类；乙二醇单甲醚(甲基溶纤剂)、乙二醇单乙醚(乙基溶纤剂)、二乙二醇单丁醚(丁基溶纤剂)、丙二醇单甲醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类等。上述之中，从涂布液中的成分的分散性或涂布性的角度出发，优选醚类，特别优选丙二醇单甲醚。
作为涂布液的浓度(固体成分浓度)，优选为10质量％以上，特别优选为20质量％以上，进一步优选为25质量％以上。此外，该浓度优选为60质量％以下，特别优选为48质量％以下，进一步优选为42质量％以下。若涂布液的浓度在上述范围内，则涂布面(涂布层表面)的面内均匀性得以提高，明度L*的再现性得以进一步提高。
涂布组合物的涂布液的涂布使用常规方法进行即可，例如通过棒涂法、刮刀涂布法、辊涂法、刮片涂布法、模具涂布法、凹版涂布法进行即可。在对涂布组合物的涂布液进行涂布之后，优选以40～120℃使涂膜干燥30秒～5分钟左右。
像涂布组合物C这样，当涂布组合物为活性能量射线固化性时，涂布组合物的固化通过对涂布组合物的涂膜照射紫外线、电子束等活性能量射线而进行。紫外线照射能够使用高压汞灯、FUSION H灯、氙灯等进行，优选紫外线的照射量以照度计为50～1000mW/cm2、以光量计为50～1000mJ/cm2左右。特别是，从涂布面的面内均匀性的提高的角度、以及伴随由面内均匀性的提高带来的明度L*的再现性提高，涂布前后的L*的变化量〃变化率容易成为所期望的值的角度出发，优选照度为200～500mW/cm2、光量为200～500mJ/cm2。另一方面，电子束照射能够使用电子束加速器等进行，优选电子束的照射量为10～1000krad左右。
3.光学构件的物性
(1)雾度值
本实施方式的光学构件1的雾度值优选为30％以下，更优选为20％以下，特别优选为15％以下。若雾度值为30％以下，则适合作为显示体用。另一方面，赋予光学构件1或硬涂层12防眩性时，雾度值优选为3％以上，更优选为4.5％以上，特别优选为5.4％以上。另外，雾度值为依据JIS K7136-2000而测定的值。
(2)总透光率
本实施方式的光学构件1的总透光率优选为70％以上，特别优选为80％以上，进一步优选为90％以上。若总透光率为70％以上，则适合作为显示体用。此外，该总透光率的上限值没有特别限定，但是通常优选为100％，更优选为96％以下，特别优选为92％以下。另外，总透光率为依据JIS K7361-1：1997而测定的值。
(3)算术平均表面粗糙度(Ra)
本实施方式的光学构件1的硬涂层12的表面的算术平均表面粗糙度(Ra)优选为0.6μm以下，特别优选为0.3μm以下，进一步优选为0.15μm以下。若算术平均表面粗糙度(Ra)为0.6μm以下，则适合作为显示体用。另一方面，赋予硬涂层12防眩性时，算术平均表面粗糙度(Ra)优选为0.01μm以上，特别优选为0.03μm以上，进一步优选为0.08μm以上。另外，将本说明书中的算术平均表面粗糙度(Ra)定义为通过依据JIS B0601-1994并使用接触式粗糙度仪测定的粗糙度曲线而求得的值。
(4)图像清晰度
对本实施方式的光学构件1测定的0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的光梳的图像清晰度(％)的总值优选为200以上，特别优选为250以上，进一步优选为300以上。由此，作为显示体的画像可视性变得良好。另一方面，赋予光学构件1或硬涂层12防眩性时，图像清晰度的总值优选为450以下，特别优选为405以下，进一步优选为360以下。
此处，图像清晰度通过使透射试验体的平行光线的光量通过具有透射部及遮光部的光梳而测定。光梳的透射部与遮光部的宽度(梳宽)越小，则表示图像清晰度的精细度越高。图像清晰度基于JIS K7374：2007的透射法而测定。
(5)接触角
(5-1)对水的接触角(水接触角)
本实施方式的光学构件1的硬涂层12的表面的水接触角的下限值优选为45°以上，特别优选为55°以上，进一步优选为65°以上。由此，指纹不易附着在硬涂层12上，此外，附着的指纹容易擦去。另一方面，水接触角的上限值没有特别限定，但优选为90°以下，更优选为85°以下，特别优选为80°以下，进一步优选为75°以下。
另外，水接触角是指：在使水的液滴静置在硬涂层的表面上的状态下，液滴在其与上述硬涂层表面的接触部分的切线同上述硬涂层表面所形成的角度中，包含液滴一侧的角度。水接触角的测定方法的详细内容如后述的试验例所示。
(5-2)对油酸的接触角(油酸接触角)
本实施方式的光学构件1的硬涂层12的表面的油酸接触角的下限值优选为10°以上，特别优选为15°以上，进一步优选为20°以上。由此，指纹不易附着在硬涂层12上，此外，附着的指纹容易擦去。另一方面，油酸接触角的上限值没有特别限定，但是优选为50°以下，特别优选为40°以下，进一步优选为30°以下。
另外，油酸接触角是指：在使油酸的液滴静置在硬涂层的表面上的状态下，液滴在其与上述硬涂层表面的接触部分的切线同上述硬涂层表面所形成的角度中，包含液滴一侧的角度。油酸接触角的测定方法的详细内容如后述的试验例所示。
(6)耐擦伤性
对本实施方式的光学构件1的硬涂层12，使用#0000的钢丝绒，以250g/cm2的负荷在硬涂层12上以10cm来回擦拭10次，优选不产生擦伤。由于具有基于这种钢丝绒硬度的评价的耐擦伤性，因此在将光学构件1用于触摸面板的表面时，能够抑制硬涂层12被擦伤。
(7)铅笔硬度
优选本实施方式的光学构件1的硬涂层12的铅笔硬度为2H以上。由于硬涂层12具有这种铅笔硬度，光学构件1的表面具有充分的硬度，因此例如在将光学构件1用于触摸面板的表面时，能够发挥优异的表面保护性。
以上所说明的实施方式是为了容易理解本发明而记载的，并非是为了限定本发明而记载。因此，上述实施方式中所公开的各要素，包括属于本发明技术范围的所有设计变更或等同物。
例如，光学构件1的涂布有油酸稀释液的面可以不是平面状。但是，优选均匀地涂布油酸稀释液。
实施例
以下，通过实施例等对本发明进行进一步具体的说明，但本发明的范围并不受这些实施例等的限定。
按照以下的制造例1～6制造作为评价对象的硬涂膜。
[制造例1]
将二季戊四醇六丙烯酸酯50质量份(表示固体成分换算值。以下，关于其他成分也同样)、多官能度氨基甲酸乙酯丙烯酸酯(Arakawa Chemical Industries,Ltd.制造，产品名称“Beamset 575CB”)50质量份、二氧化硅微粒(平均粒径0.8μm，CV值93％，折射率1.46，无定形)17质量份、作为光聚合引发剂的α-羟基苯基酮3质量份、作为表面调整剂的含有聚合性基团的含氟金刚烷衍生物(Neos Corporation制造，产品名称“ftergent602A”)0.15质量份混合，得到涂布组合物。使用丙二醇单甲醚稀释该涂布组合物，制备固体成分浓度为30质量％的涂布液。
使用绕线棒#12，在作为基材膜的、两面实施了易粘合处理的聚对苯二甲酸乙二酯膜(TORAY INDUSTRIES,INC.制造，产品名称“Lumirror U48”，厚度：125μm)上涂布上述得到的涂布液，以70℃使其干燥1分钟。接着，在氮气气氛下，使用紫外线照射装置(Eyegraphics Co.,Ltd.制造，产品名称“Eye Runtage ECS-401GX型”)并以下述条件照射紫外线，形成厚度为4μm的硬涂层，得到硬涂膜。
＜紫外线照射条件＞
〃光源：高压汞灯
〃灯功率：2kW
〃传送带速度：4.23m/min
〃照度：240mW/cm2
〃光量：307mJ/cm2
[制造例2]
将二季戊四醇六丙烯酸酯100质量份、二氧化硅微粒(平均粒径1.5μm，CV值83％，折射率1.46，无定形)14质量份、作为光聚合引发剂的α-羟基苯基酮3质量份、作为表面调整剂的含有聚合性基团的含氟金刚烷衍生物(Neos Corporation制造，产品名称“ftergent602A”)0.15质量份混合，得到涂布组合物。使用丙二醇单甲醚稀释该涂布组合物，制备固体成分浓度为30质量％的涂布液。使用得到的涂布液，以与制造例1相同的方式制造硬涂膜。
[制造例3]
使用丙二醇单甲醚稀释以与制造例1相同的方式得到的涂布组合物，制备固体成分浓度为40质量％的涂布液。除了使用所得到的涂布液，并将硬涂层的厚度制成6μm以外，以与制造例1相同的方式制造硬涂膜。
[制造例4]
使用丙二醇单甲醚稀释以与制造例1相同的方式得到的涂布组合物，制备固体成分浓度为35质量％的涂布液。除了使用所得到的涂布液，并将硬涂层的厚度制成5μm以外，以与制造例1相同的方式制造硬涂膜。
[制造例5]
将二季戊四醇六丙烯酸酯40质量份、反应性二氧化硅微粒(表面具有丙烯酰基的二氧化硅微粒，表面改性前的二氧化硅微粒的平均粒径为40nm)60质量份、交联聚甲基丙烯酸甲酯微粒(平均粒径1.5μm，CV值23％，折射率1.49，球状)4质量份、作为分散剂的含羧基聚合物改性物(KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD.制造，产品名称“FLOWLEN G-700”)0.2质量份、作为光聚合引发剂的α-羟基苯基酮3质量份、作为表面调整剂的丙烯酸改性聚二甲基硅氧烷(BYKChemie公司制造，产品名称“BYK-3550”)0.2质量份混合，得到涂布组合物。使用丙二醇单甲醚稀释该涂布组合物，制备固体成分浓度为30质量％的涂布液。使用得到的涂布液，以与制造例1相同的方式制造硬涂膜。
[制造例6]
将二季戊四醇六丙烯酸酯50质量份、多官能度氨基甲酸乙酯丙烯酸酯(ArakawaChemical Industries,Ltd.制造，产品名称“Beamset 575CB”)50质量份、二氧化硅微粒(平均粒径0.8μm，CV值93％，折射率1.46，无定形)15质量份、作为光聚合引发剂的α-羟基苯基酮3质量份、作为表面调整剂的丙烯酸改性聚二甲基硅氧烷(BYKChemie公司制造，产品名称“BYK-3550”)5质量份混合，得到涂布组合物。使用丙二醇单甲醚稀释该涂布组合物，制备固体成分浓度为30质量％的涂布液。使用得到的涂布液，以与制造例1相同的方式制造硬涂膜。
[参考例](油酸浓度的选定)
将油酸(Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.(TCI)制造；以下相同)本身作为样品1(油酸浓度：100质量％)。
向1g油酸中添加4g乙醇，将完全溶解的油酸稀释液作为样品2(油酸浓度：20质量％)。
向1g油酸中添加99g乙醇，将完全溶解的油酸稀释液作为样品3(油酸浓度：1质量％)。
向0.2g油酸中添加99.8g乙醇，将完全溶解的油酸稀释液作为样品4(油酸浓度：0.2质量％)。
向0.1g油酸中添加99.9g乙醇，将完全溶解的油酸稀释液作为样品5(油酸浓度：0.1质量％)。
使用指套将各样品1～5附着在制造例1中得到的硬涂膜的硬涂层表面上。另一方面，使实际的指纹附着在制造例1中得到的硬涂膜的硬涂层表面上。
通过肉眼对比附着有各样品1～5的硬涂膜与附着有实际的指纹的硬涂膜。此外，使用无纺布擦拭布(Asahi Kasei Corporation制造，产品名称“BEMCOT S-2”)从附着有各样品1～5的硬涂膜及附着有实际的指纹的硬涂膜上擦去各样品1～5及实际的指纹。对比各样品1～5与实际的指纹的易擦去度。将结果分别示于表1。
[表1]
Figure BDA0002142119370000241
由表1的结果可知，在对硬涂膜的附着程度(附着性)及从硬涂膜上的易擦去度(擦去性)方面，油酸浓度为0.2质量％的油酸稀释液与实际的指纹相同。
[试验例1](雾度值〃总透光率的测定)
使用雾度计(NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES Co.,Ltd.制造，产品名称“NDH-5000”)，分别依据JIS K7136：2000及JIS K7361-1：1997测定各制造例中制造的硬涂膜的雾度值(％)及总透光率(％)。将结果示于表2。
[试验例2](表面粗糙度的测定)
通过依据JIS B0601-1994并使用接触式粗糙度计(Mitutoyo Corporation.制造，产品名称“SV3000S4”)测定的粗糙度曲线，求出各制造例中制造的硬涂膜的硬涂层表面的算术平均表面粗糙度(Ra；单位μm)。将结果示于表2。
[试验例3](图像清晰度的测定)
对各制造例中制造的硬涂膜，使用图像清晰度测定器(Suga Test InstrumentsCo.,Ltd.制造，产品名称“ICM-10P”)，依据JIS K7374：2007的透射法，测定5种光梳(梳宽：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm)的图像清晰度(％)，算出其总值并作为图像清晰度。将结果示于表2。
[试验例4](接触角的测定)
(1)水接触角的测定
使用全自动接触角测定仪(Kyowa Interface Science,Inc制造，产品名称“DM-701”)，按照以下的条件测定各制造例中制造的硬涂膜的硬涂层表面的水接触角。另外，作为水，使用纯水。将结果示于表2。
〃环境温度：23℃
〃水的液滴量：2μl
〃测定时间：滴下3秒后
〃图像分析法：θ/2法
(2)油酸接触角的测定
使用全自动接触角测定仪(Kyowa Interface Science,Inc制造，产品名称“DM-701”)，按照以下的条件测定各制造例中制造的硬涂膜的硬涂层表面的油酸接触角。另外，作为油酸，使用Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造的油酸。将结果示于表2。
〃环境温度：23℃
〃油酸的液滴量：2μl
〃测定时间：滴下3秒后
〃图像分析法：θ/2法
[试验例5](耐擦伤性的评价)
对实施例及比较例中制造的硬涂膜的硬涂层表面，使用#0000的钢丝绒，以250g/cm2的负荷以10cm来回擦拭10次。在三波长荧光灯下通过肉眼确认该硬涂层的表面，按照以下的标准评价耐擦伤性。将结果示于表2。
A：没有确认到擦伤。
B：确认到擦伤。
[试验例6](铅笔硬度的测定)
使用电动铅笔划痕硬度计(YASUDA SEIKI SEISAKUSHO,LTD.制造，产品名称“No.553-M1”)，依据JIS K5600测定实施例及比较例中制造的硬涂膜的硬涂层表面的铅笔硬度。将结果示于表2。
[试验例7](耐指纹性的评价)
(1)评价样品的制作
使用丙烯酸类透明双面粘着片(Lintec Corporation制造，产品名称“OPTERIAMO-3006C”，折射率：1.49，雾度：＜1.0％)贴合各制造例中制造的硬涂膜的基材膜侧的面与黑色亚克力板(L*3.42，a*-0.17，b*0.40)，将其作为评价样品。
(2)感官评价
将指纹附着于上述得到的评价样品的硬涂层表面。然后，在三波长荧光灯(1000lux.)下，肉眼观察附着的指纹，按照以下的标准评价指纹的可视性。另外，将评价为3以上判断为良好。将结果示于表2。
5：附着的指纹非常不显眼
4：附着的指纹不显眼
3：附着的指纹稍微显眼
2：附着的指纹显眼
1：附着的指纹非常显眼
(3)将涂布油酸稀释液前后的明度L*作为指标的评价
首先，对上述得到的评价样品的硬涂层的表面，使用同时测光分光式色差计(NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES Co.,Ltd.制造，产品名称“SE6000”)，按照以下条件，测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*(涂布前明度L*)。将结果示于表2。
＜测定条件＞
光源：C光源
测定方法：反射测量
测定面积：
Figure BDA0002142119370000261
(直径为30mm的圆形)
另一方面，向0.2g油酸中添加99.8g乙醇，使其完全溶解，将其作为油酸稀释液。利用绕线棒#2将得到的油酸稀释液涂布在上述得到的评价样品的硬涂层的表面上，在23℃、50％RH下使其自然干燥，形成油酸层。
以与上述相同的方式测定上述评价样品的形成有油酸层的面的明度L*(涂布前后明度L*)。将结果示于表2。
接着，算出由涂布后明度L*减去涂布前明度L*而得到的变化量ΔL*。此外，按照下述式，算出明度L*的变化率(％)。将结果分别示于表2。
变化率＝{(涂布后明度L*-涂布前明度L*)/涂布前明度L*}×100
Figure BDA0002142119370000281
由表2可知，由于将涂布前明度L*及涂布后明度L*作为指标，因此与感官评价的相关性高，此外，能够定量地评价耐指纹性。进一步，制造例1～4的硬涂膜的耐指纹性优异。
[试验例8](耐指纹性评价的再现性试验)
以与制造例1相同的方式，另外制造2片硬涂膜。另外，分别在不同日期制造3片硬涂膜。对得到的各片硬涂膜，进行基于试验例7的耐指纹性评价，确认其再现性。将制造例1的硬涂膜设为N＝1、第2片硬涂膜设为N＝2、第3片硬涂膜设为N＝3，将结果示于表3。
[表3]
Figure BDA0002142119370000291
由表3可知，在任意的硬涂膜中，明度L*的变化量ΔL*及明度L*的变化率均在一定的范围内，取得了感官评价与明度L*的变化量ΔL*及明度L*的变化率的相关性。即，通过上述耐指纹性的评价方法，能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性。
工业实用性
本发明的耐指纹性的评价方法适合用于评价例如触摸面板、特别是位于触摸面板的最表层的硬涂膜的耐指纹性。此外，本发明的光学构件适合作为例如位于触摸面板的最表层的硬涂膜。

Claims (9)

1.一种耐指纹性的评价方法，其特征在于，
测定评价对象表面的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，
接着，在所述评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后，测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，
将涂布所述油酸稀释液前后的所述明度L*作为指标，评价所述评价对象的表面的耐指纹性。
2.根据权利要求1所述的耐指纹性的评价方法，其特征在于，
将涂布所述油酸稀释液前的所述明度L*设为涂布前明度L*，
将涂布所述油酸稀释液后的所述明度L*设为涂布后明度L*，
根据由所述涂布后明度L*减去所述涂布前明度L*而得到的变化量ΔL*，评价所述评价对象的表面的耐指纹性。
3.根据权利要求1所述的耐指纹性的评价方法，其特征在于，
将涂布所述油酸稀释液前的所述明度L*设为涂布前明度L*，
将涂布所述油酸稀释液后的所述明度L*设为涂布后明度L*，
根据利用下述式算出的变化率(％)，评价所述评价对象的表面的耐指纹性，
变化率＝{(涂布后明度L*-涂布前明度L*)/涂布前明度L*}×100。
4.根据权利要求1所述的耐指纹性的评价方法，其特征在于，在所述评价对象的涂布有所述油酸稀释液的表面上存在硬涂层。
5.根据权利要求1所述的耐指纹性的评价方法，其特征在于，所述评价对象为光学构件。
6.一种光学构件的生产方法，其特征在于，其具备：
得到光学构件的工序；及
将所述光学构件作为评价对象，通过权利要求1～5中任一项所述的耐指纹性的评价方法进行耐指纹性的评价的评价工序。
7.一种光学构件，其特征在于，
将涂布油酸稀释液前的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布前明度L*，
并将涂布油酸稀释液后的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布后明度L*时，
由所述涂布后明度L*减去所述涂布前明度L*而得到的变化量ΔL*小于0.3。
8.一种光学构件，其特征在于，
将涂布油酸稀释液前的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布前明度L*，
并将涂布油酸稀释液后的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*设为涂布后明度L*时，
利用下述式算出的变化率为6％以下，
变化率＝{(涂布后明度L*-涂布前明度L*)/涂布前明度L*}×100。
9.根据权利要求7或8所述的光学构件，其特征在于，在所述光学构件的涂布有所述油酸稀释液的表面上存在硬涂层。
CN201910672314.9A 2018-08-30 2019-07-24 耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件 Active CN110873702B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018161081A JP7347922B2 (ja) 2018-08-30 2018-08-30 耐指紋性の評価方法、光学部材の生産方法および光学部材
JP2018-161081 2018-08-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110873702A true CN110873702A (zh) 2020-03-10
CN110873702B CN110873702B (zh) 2024-07-26

Family

ID=69667765

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910672314.9A Active CN110873702B (zh) 2018-08-30 2019-07-24 耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件

Country Status (4)

Country Link
JP (2) JP7347922B2 (zh)
KR (1) KR20200026008A (zh)
CN (1) CN110873702B (zh)
TW (1) TWI818011B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113537718A (zh) * 2021-06-18 2021-10-22 宝钢日铁汽车板有限公司 一种冷轧涂油机钢带漏涂质量自动化评价方法
WO2023153456A1 (ja) * 2022-02-09 2023-08-17 日本航空電子工業株式会社 耐指紋性の評価方法、積層体、その製造方法および表示装置
JP7367245B2 (ja) * 2022-02-09 2023-10-23 日本航空電子工業株式会社 耐指紋性の評価方法
JP2023146802A (ja) * 2022-03-29 2023-10-12 リンテック株式会社 防眩フィルム

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006016592A1 (en) * 2004-08-12 2006-02-16 Fujifilm Corporation Anti-reflection film
JP2009122416A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Toppan Printing Co Ltd 光学薄膜フィルム
CN101512323A (zh) * 2006-09-08 2009-08-19 大日本印刷株式会社 污染性评价方法、污染性评价装置、光学部件的制造方法、光学叠层体以及显示器产品
JP2010215775A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Aica Kogyo Co Ltd 硬化性樹脂組成物およびフィルム
TW201129469A (en) * 2009-11-20 2011-09-01 Sumitomo Metal Mining Co Heat-resistant, light-shielding black film, production thereof, and aperture, light intensity adjusting module, and heat resistant light shading tape
CN104115039A (zh) * 2011-09-27 2014-10-22 日本制纸株式会社 防眩硬涂膜
JP2016020049A (ja) * 2014-07-14 2016-02-04 日油株式会社 インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及びこれを用いた樹脂成型品
WO2017202692A1 (de) * 2016-05-24 2017-11-30 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst)reinigungseigenschaften sowie deren verwendung

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53125239A (en) * 1977-04-09 1978-11-01 Kobe Steel Ltd Surface treating method for electrically galvanized steel sheet
JPH01176090A (ja) * 1987-12-29 1989-07-12 Nisshin Steel Co Ltd 耐指紋性に優れた電気亜鉛めっき鋼板の製造方法
JP4258247B2 (ja) 2003-03-28 2009-04-30 東レ株式会社 皮脂取り布帛およびその製造方法
JP4508635B2 (ja) 2003-12-26 2010-07-21 リンテック株式会社 画像表示装置用ハードコートフィルム
JP6364719B2 (ja) 2013-08-07 2018-08-01 三菱ケミカル株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化物、積層体、ハードコートフィルム及びフィルム積層体
TWI516555B (zh) * 2013-09-27 2016-01-11 國立臺灣科技大學 具有抗指紋特性的非氟化塗佈材料及其評估方法
US9206322B2 (en) 2013-09-27 2015-12-08 National Taiwan University Of Science And Technology Non-fluorinated coating materials with anti-fingerprint property, and evaluation method thereof
JP6563228B2 (ja) 2015-03-30 2019-08-21 リンテック株式会社 透明導電性フィルム
JP7016603B2 (ja) 2015-07-17 2022-02-07 大日本印刷株式会社 タッチパネル用ハードコートフィルム、及び、折り畳み式画像表示装置
JP6894716B2 (ja) 2016-02-16 2021-06-30 三洋化成工業株式会社 活性エネルギー線硬化型耐指紋性付与剤

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006016592A1 (en) * 2004-08-12 2006-02-16 Fujifilm Corporation Anti-reflection film
CN101512323A (zh) * 2006-09-08 2009-08-19 大日本印刷株式会社 污染性评价方法、污染性评价装置、光学部件的制造方法、光学叠层体以及显示器产品
JP2009122416A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Toppan Printing Co Ltd 光学薄膜フィルム
JP2010215775A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Aica Kogyo Co Ltd 硬化性樹脂組成物およびフィルム
TW201129469A (en) * 2009-11-20 2011-09-01 Sumitomo Metal Mining Co Heat-resistant, light-shielding black film, production thereof, and aperture, light intensity adjusting module, and heat resistant light shading tape
CN104115039A (zh) * 2011-09-27 2014-10-22 日本制纸株式会社 防眩硬涂膜
JP2016020049A (ja) * 2014-07-14 2016-02-04 日油株式会社 インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及びこれを用いた樹脂成型品
WO2017202692A1 (de) * 2016-05-24 2017-11-30 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst)reinigungseigenschaften sowie deren verwendung

Also Published As

Publication number Publication date
JP7347922B2 (ja) 2023-09-20
JP2023171767A (ja) 2023-12-05
TWI818011B (zh) 2023-10-11
TW202009474A (zh) 2020-03-01
JP2020034416A (ja) 2020-03-05
KR20200026008A (ko) 2020-03-10
CN110873702B (zh) 2024-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110873702A (zh) 耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件
KR101792253B1 (ko) 반사방지필름 및 그것을 이용한 편광판
CN109073789B (zh) 硬涂膜
JP5290046B2 (ja) 防眩性ハードコートフィルム及びそれを用いた偏光板
JP2001287308A (ja) プラスチック積層体および画像表示保護フイルム
JP6244760B2 (ja) 反射防止フィルム
CN112375243B (zh) 一种高耐磨、低闪点的防眩光膜及其制备方法
KR101432987B1 (ko) 투과도가 우수한 내지문성 방현코팅액 조성물 및 상기 조성물을 이용하여 제조된 내지문성 방현필름
JP4266623B2 (ja) ハードコートフィルム
JP6475920B2 (ja) タッチパネル
JP2014529091A (ja) 優れた耐指紋性を有する防眩コーティング組成物、これを用いて製造された防眩フィルム
JP6385094B2 (ja) タッチパネル
JP5690491B2 (ja) 防眩性ハードコートフィルム及びそれを用いた偏光板
TWI389798B (zh) 抗反射薄膜
TWI532798B (zh) 低折射率層形成用組合物與使用該組合物的防反射薄膜、偏光板及顯示裝置
JP5047636B2 (ja) ハードコートフィルム
JP7490016B2 (ja) コートフィルム
KR20240011799A (ko) 하드 코트 필름, 광학 부재, 및 화상 표시 장치
KR100373207B1 (ko) 광경화형 대전방지 및 내마모성 코팅 조성물
KR20190119793A (ko) 곡면 디스플레이용 광학투명접착조성물
CN114966907A (zh) 硬涂膜
CN112204441B (zh) 偏光板和显示装置
JP2012046654A (ja) 硬化性組成物、並びに耐擦傷性樹脂板および表示窓保護板
JP4479198B2 (ja) 反射防止フィルム
TWI816241B (zh) 抗黏附硬塗膜

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant