CN110856333A - 一种旋转中子发生靶 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了一种旋转中子发生靶,包括靶托,所述的靶托为圆形,靶托的后侧连接有旋转轴杆,旋转轴杆与靶托同轴设置,还包括圆环形的靶,靶固定安装在靶托的前侧面上,靶与靶托同轴设置,所述的靶托内对应靶的区域设有冷却流道,冷却流道整体为环形且是断开设置形成两个端口,该两个端口分别为进液口和出液口,所述的冷却流道为连续波浪状起伏设置,靶托内还设有容液屏蔽室,容液屏蔽室位于冷却流道的后侧,所述的进液口与容液屏蔽室连接,所述的旋转轴杆上沿其长度方向设有进液通道和出液通道,进液通道与容液屏蔽室连通,出液通道与出液口连通。
Description
技术领域
本发明涉及一种旋转中子发生靶。
背景技术
传统的中子发生靶都是固定式结构,位置不可移动,该种中子靶受激光照射面积也小,所以在使用寿命和产生中子量方面也会受到限制。中子都是需要设置在屏蔽室内,目前中子靶发生的中子都是无规律发散式的,而中子的出射又是需要固定的,所以无规律发散式的中子束需要屏蔽室来进行屏蔽隔离,这样对屏蔽室的建设要求就很高。
发明内容
针对背景技术中指出的问题,本发明提出一种旋转中子发生靶,以提高靶的使用寿命和产生中子量,且靶结构自身具有中子屏蔽慢化能力及良好的冷却能力,可在非中子出射方向来对中子进行屏蔽和慢化。
本发明的技术方案是这样实现的:
一种旋转中子发生靶,包括靶托,所述的靶托为圆形,靶托的后侧连接有旋转轴杆,旋转轴杆与靶托同轴设置,还包括圆环形的靶,靶固定安装在靶托的前侧面上,靶与靶托同轴设置,所述的靶托内对应靶的区域设有冷却流道,冷却流道整体为环形且是断开设置形成两个端口,该两个端口分别为进液口和出液口,所述的冷却流道为连续波浪状起伏设置,靶托内还设有容液屏蔽室,容液屏蔽室位于冷却流道的后侧,所述的进液口与容液屏蔽室连接,所述的旋转轴杆上沿其长度方向设有进液通道和出液通道,进液通道与容液屏蔽室连通,出液通道与出液口连通。
本发明还进一步设置为,所述的靶托的前侧面上设有安置靶的环形的凹槽,所述的容液屏蔽室的截面为U形,容液屏蔽室环绕靶的后侧及旁侧设置。
本发明还进一步设置为,所述的靶为锂或铍。
本发明还进一步设置为,所述的靶托和旋转轴杆由铝材制成。
本发明还进一步设置为,所述的靶托的后侧面上设有散热片,所述的散热片由铝材制成。
采用了上述技术方案,本发明的有益效果为:
(1)、靶面积大,且可通过旋转来对环形的靶的所有区域进行激光照射来产生中子,提高了靶的使用寿命和产生中子量;
(2)、连续波浪状起伏设置的冷却流道具有良好的冷却效果;
(3)、容液屏蔽室内充满冷却液(水)后可起到慢化和屏蔽中子的作用,同时也具有对靶和靶托进行冷却的作用;
(4)靶托的后侧面上设置的散热片也具有对靶托进行散热的作用;
(5)容液屏蔽室设计成环绕靶的后侧及旁侧设置,使的靶发生的中子只能向其前侧发射,其他方向发散的中子则会被容液屏蔽室内的冷却液(水)慢化屏蔽掉。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的正视图;
图2为本发明的后视图;
图3为本发明的剖视图;
图4为本发明冷却流道的结构示意图;
图5为本发明的剖视图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如下参考图1-5对本发明进行说明:
一种旋转中子发生靶,包括靶托1,所述的靶托1为圆形,靶托1的后侧连接有旋转轴杆2,旋转轴杆2与靶托1同轴设置,通过驱动旋转轴杆2转动来带动靶托转动。
还包括圆环形的靶3,靶3固定安装在靶托1的前侧面上,靶3与靶托1同轴设置,所述的靶托1内对应靶3的区域设有冷却流道4,冷却流道4整体为环形且是断开设置形成两个端口,该两个端口分别为进液口5和出液口6。
所述的冷却流道4为连续波浪状起伏设置,该设置使冷却流道4靶3的接触面积更大,散热效果更好。
靶托1内还设有容液屏蔽室7,容液屏蔽室7位于冷却流道4的后侧,所述的进液口5与容液屏蔽室7连接。
所述的旋转轴杆2上沿其长度方向设有进液通道8和出液通道9,进液通道8与容液屏蔽室7连通,出液通道9与出液口6连通。
水从进液通道8进入容液屏蔽室7,再通过进液口5进入冷却流道4再通过出液口6流向出液通道9。实现循环散热。
其中,所述的靶托1的前侧面上设有安置靶3的环形的凹槽10,所述的容液屏蔽室7的截面为U形,容液屏蔽室7环绕靶的后侧及旁侧设置。该设置使得容液屏蔽室7具有更好的慢化屏蔽能力和散热能力。
其中,所述的靶为锂或铍。
其中,所述的靶托1和旋转轴杆2由铝材制成。
其中,所述的靶托1的后侧面上设有散热片11,所述的散热片11由铝材制成。
采用了上述技术方案,本发明的有益效果为:
1、靶面积大,且可通过旋转来对环形的靶的所有区域进行激光照射来产生中子,提高了靶的使用寿命和产生中子量;
2、连续波浪状起伏设置的冷却流道4具有良好的冷却效果;
3、容液屏蔽室7内充满冷却液(水)后可起到慢化和屏蔽中子的作用,同时也具有对靶和靶托1进行冷却的作用;
4、靶托1的后侧面上设置的散热片11也具有对靶托1进行散热的作用;容液屏蔽室7设计成环绕靶的后侧及旁侧设置,使的靶发生的中子只能向其前侧发射,其他方向发散的中子则会被容液屏蔽室7内的冷却液(水)慢化屏蔽掉。
以上所述的仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种旋转中子发生靶,其特征在于:包括靶托,所述的靶托为圆形,靶托的后侧连接有旋转轴杆,旋转轴杆与靶托同轴设置,还包括圆环形的靶,靶固定安装在靶托的前侧面上,靶与靶托同轴设置,所述的靶托内对应靶的区域设有冷却流道,冷却流道整体为环形且是断开设置形成两个端口,该两个端口分别为进液口和出液口,所述的冷却流道为连续波浪状起伏设置,靶托内还设有容液屏蔽室,容液屏蔽室位于冷却流道的后侧,所述的进液口与容液屏蔽室连接,所述的旋转轴杆上沿其长度方向设有进液通道和出液通道,进液通道与容液屏蔽室连通,出液通道与出液口连通。
2.根据权利要求1所述的一种旋转中子发生靶,其特征在于:所述的靶托的前侧面上设有安置靶的环形的凹槽,所述的容液屏蔽室的截面为U形,容液屏蔽室环绕靶的后侧及旁侧设置。
3.根据权利要求1所述的一种旋转中子发生靶,其特征在于:所述的靶为锂或铍。
4.根据权利要求1所述的一种旋转中子发生靶,其特征在于:所述的靶托和旋转轴杆由铝材制成。
5.根据权利要求1所述的一种旋转中子发生靶,其特征在于:所述的靶托的后侧面上设有散热片,所述的散热片由铝材制成。
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