CN110843099A - 一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置 - Google Patents

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Abstract

一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其包括喷嘴本体（1）、喷嘴帽（2）、出口部（3）、旋流片（4），喷嘴帽设置于喷嘴本体上，其与喷嘴本体通过第二螺纹部（21）连接，液体通道依次包括第一直径段（15）、第一锥形段（16）、第二直径段（17）、出口腔（18），出口腔内设置有出口部、旋流片（4），其特征在于：旋流片（4）的一端与出口部相抵接，另一端与预紧弹簧（43）相抵接，预紧弹簧另一端与出口腔的台阶面相抵接，出口腔与出口部之间通过第一螺纹部（19）连接。该施釉装置能够降低釉液/颜料凝结为小微粒的风险，提高喷釉雾化充分性、均匀性，喷射效果好，节约原料。

Description

一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置
技术领域
本发明涉及陶瓷制品/产品生产制造工艺技术领域，具体为一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置。
背景技术
在陶瓷制品/产品生产制造工艺中，通常会对陶瓷制品进行喷釉或喷色彩处理。但现有的施釉装置存在喷釉雾化不充分、不均匀、釉液/颜料凝结为小微粒的风险的问题。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，通过可调预旋流腔、可调气流喷射口尺寸的设计、改进，能够降低釉液/颜料凝结为小微粒/微团的风险，提高喷釉雾化充分性、均匀性，喷射效果好，节约原料。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为 ：
一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其包括喷涂装置、气源、液源，喷涂装置通过管线与气源、液源相连接，该喷涂装置包括喷嘴本体（1）、喷嘴帽（2）、出口部（3）、旋流片（4），喷嘴帽设置于喷嘴本体上，其与喷嘴本体通过第二螺纹部（21）连接，喷嘴本体内设置有液体通道（L），液体通道的径向外周设置有气体通道（g），液体通道依次包括第一直径段（15）、第一锥形段（16）、第二直径段（17）、出口腔（18），出口腔内设置有出口部、旋流片（4），其特征在于：旋流片（4）的一端与出口部相抵接，另一端与预紧弹簧（43）相抵接，预紧弹簧另一端与出口腔的台阶面相抵接，出口腔与出口部之间通过第一螺纹部（19）连接。
进一步地，所述喷嘴本体的出口端部具有轴向凸缘（20），轴向凸缘位于出口腔的径向外周。
进一步地，所述气体通道依次包括第一气体流道（11）、第二气体流道（12）、第三气体流道（13）、第四气体流道（14），第一气体流道为轴向流道，第二气体流道为径向流道，第三气体流道为倾斜流道，第四气体流道一端连接于第一气体流道、另一端连接于第二直径段。
进一步地，所述出口部依次包括第一凸台部（32）、第二锥形部（33）、第三直径段（34）、第一出口流道（35），第一凸台部与旋流片相抵接，第二锥形部的内腔与第一凸台部的内腔共同构成集流增速腔，第一出口流道为一个或多个径向出口流道。
进一步地，所述第一出口流道的出口侧连接一个或多个第二出口流道（37）、第三出口流道（37），第二出口流道与喷嘴本体的轴线平行设置，第三出口流道与喷嘴本体的轴线倾斜设置。
进一步地，所述流片包括多个第一旋流孔（41）、第二旋流孔（42），多个第一旋流孔位于多个第二旋流孔径向外周，第一旋流孔、第二旋流孔与喷嘴本体的轴线夹角为10-60°。
进一步地，在径向截面中，第一旋流孔与径向的夹角为20-70°，第二旋流孔与径向的夹角为20-70°，第一旋流孔的数量为第二旋流孔数量的1-4倍。
该施釉装置用于陶瓷制品/产品制造工艺过程中喷釉、喷颜料或喷色彩等处理。
该一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，通过可调预旋流腔、可调气流喷射口尺寸的设计、改进，能够降低釉液/颜料凝结为小微粒的风险，提高喷釉雾化充分性、均匀性，喷射效果好，节约原料。
附图说明
图1为本发明施釉装置结构示意图；
图2为本发明施釉装置的局部放大结构示意图；
图3为本发明旋流片结构示意图。
图中：喷嘴本体1、喷嘴帽2、出口部3、（可调式）旋流片4、第一气体流道11、第二气体流道12、第三气体流道13、第四气体流道14、第一直径段15、第一锥形段16、第二直径段17、出口腔18、第一螺纹部19（内螺纹、外螺纹）、轴向凸缘20、第二螺纹部21（内螺纹、外螺纹）、第二外螺纹31、第一凸台部32、第二锥形部33、第三直径段34、第一出口流道35（液体出口流道）、第二出口流道36、第三出口流道37、第一旋流孔41、第二旋流孔42、预紧弹簧43、气体通道/流向g、液体通道/流向L。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
下面结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图1-3所示，一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其包括喷涂装置、气源、液源，喷涂装置通过管线与气源、液源相连接，该喷涂装置包括喷嘴本体1、喷嘴帽2、出口部3、（可调式）旋流片4，喷嘴帽2设置于喷嘴本体1上，其与喷嘴本体1通过第二螺纹部21连接（内螺纹、外螺纹），喷嘴本体1内设置有液体通道L，液体通道L的径向外周设置有气体通道g，液体通道L依次包括第一直径段15、第一锥形段16、第二直径段17、出口腔18，出口腔18内设置有出口部3、旋流片4；旋流片4的一端与出口部3相抵接，另一端与预紧弹簧43相抵接，预紧弹簧43另一端与出口腔18的台阶面相抵接，出口腔18与出口部3通过第一螺纹部19连接（内螺纹、外螺纹），喷嘴本体1的出口端部具有轴向凸缘20，轴向凸缘20位于出口腔18的径向外周。
该施釉装置用于陶瓷制品/产品制造工艺过程中喷釉、喷颜料或喷色彩等处理。
通过调节第二螺纹部21的旋合长度可以调节喷嘴帽2出口端与喷嘴本体1的轴向凸缘20之间的轴向相对位置/间隙长度，从而调节第三气体流道13的出口尺寸，从而调节压缩气体的喷射压力、流量。通过调节第一螺纹部19的旋合长度可以调节出口部3、旋流片4与出口腔18的轴向相对位置，从而调节第二直径段17与旋流片4之间所构成的预旋流腔的轴向尺寸，从而调节预旋流腔内液体的压力分布状态。
气体通道g依次包括第一气体流道11、第二气体流道12、第三气体流道13、第四气体流道14，第一气体流道11为轴向流道，第二气体流道12为径向流道，第三气体流道13为倾斜流道，其与喷嘴本体1的轴线的夹角为35-55°，第四气体流道14一端连接于第一气体流道11、另一端连接于第二直径段17，第四气体流道14包括径向流道和倾斜流道，径向流道与倾斜流道通流面积不同，在预旋流腔之前实现气液的第一次混合。
如图2-3所示，出口部3依次包括第一凸台部32、第二锥形部33、第三直径段34、第一出口流道35，第一凸台部32与旋流片4相抵接，第二锥形部33与喷嘴本体1的轴线的夹角为40-60°，第二锥形部33的内腔与第一凸台部32的内腔共同构成集流增速腔，第一出口流道35为一个或多个径向出口流道，第一出口流道35的出口侧连接一个或多个第二出口流道36、第三出口流道37，第二出口流道36与喷嘴本体1的轴线平行设置，第三出口流道37与喷嘴本体1的轴线倾斜设置，第三出口流道37与喷嘴本体1的轴线夹角为10-20°，优选地15°，第二出口流道36位于第三出口流道37的径向外周，第一出口流道35的通流面积大于第二出口流道36、第三出口流道37的通流面积。
旋流片4包括多个第一旋流孔41、第二旋流孔42，多个第一旋流孔41位于多个第二旋流孔42径向外周，第一旋流孔41、第二旋流孔42与喷嘴本体1的轴线夹角为20-40°，优选地30°；在径向截面中，第一旋流孔41与径向的夹角为30-50°，如42°，第二旋流孔42与径向的夹角为30-50°，如38°，第一旋流孔41的数量为第二旋流孔42数量的1.5-3倍，优选地2倍。
该一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，通过可调预旋流腔、可调气流喷射口尺寸的设计、改进，能够降低釉液/颜料凝结为小微粒的风险，提高喷釉雾化充分性、均匀性，喷射效果好，节约原料。
上述实施方式是对本发明的说明，不是对本发明的限定，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的保护范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其包括喷涂装置、气源、液源，喷涂装置通过管线与气源、液源相连接，该喷涂装置包括喷嘴本体（1）、喷嘴帽（2）、出口部（3）、旋流片（4），喷嘴帽设置于喷嘴本体上，其与喷嘴本体通过第二螺纹部（21）连接，喷嘴本体内设置有液体通道（L），液体通道的径向外周设置有气体通道（g），液体通道依次包括第一直径段（15）、第一锥形段（16）、第二直径段（17）、出口腔（18），出口腔内设置有出口部、旋流片（4），其特征在于：旋流片（4）的一端与出口部相抵接，另一端与预紧弹簧（43）相抵接，预紧弹簧另一端与出口腔的台阶面相抵接，出口腔与出口部之间通过第一螺纹部（19）连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述喷嘴本体的出口端部具有轴向凸缘（20），轴向凸缘位于出口腔的径向外周。
3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述气体通道依次包括第一气体流道（11）、第二气体流道（12）、第三气体流道（13）、第四气体流道（14），第一气体流道为轴向流道，第二气体流道为径向流道，第三气体流道为倾斜流道，第四气体流道一端连接于第一气体流道、另一端连接于第二直径段。
4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述出口部依次包括第一凸台部（32）、第二锥形部（33）、第三直径段（34）、第一出口流道（35），第一凸台部与旋流片相抵接，第二锥形部的内腔与第一凸台部的内腔共同构成集流增速腔，第一出口流道为一个或多个径向出口流道。
5.根据权利要求4所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述第一出口流道的出口侧连接一个或多个第二出口流道（37）、第三出口流道（37），第二出口流道与喷嘴本体的轴线平行设置，第三出口流道与喷嘴本体的轴线倾斜设置。
6.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述流片包括多个第一旋流孔（41）、第二旋流孔（42），多个第一旋流孔位于多个第二旋流孔径向外周，第一旋流孔、第二旋流孔与喷嘴本体的轴线夹角为10-60°。
7.根据权利要求6所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，在径向截面中，第一旋流孔与径向的夹角为20-70°，第二旋流孔与径向的夹角为20-70°，第一旋流孔的数量为第二旋流孔数量的1-4倍。
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