CN110837201A - 高时间分辨率分幅照相系统 - Google Patents
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- 238000009432 framing Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 101100327165 Arabidopsis thaliana CCD8 gene Proteins 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 2
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 2
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 238000004875 x-ray luminescence Methods 0.000 description 1
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- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B42/00—Obtaining records using waves other than optical waves; Visualisation of such records by using optical means
- G03B42/02—Obtaining records using waves other than optical waves; Visualisation of such records by using optical means using X-rays
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
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- G21C17/00—Monitoring; Testing ; Maintaining
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
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- Plasma & Fusion (AREA)
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Abstract
本发明公开了一种高时间分辨率分幅照相系统,包括成像光路和记录光路,所述成像光路包括第一透镜、分束镜、台阶反射镜和半导体器件,所述台阶反射镜的反射面上具有若干级台阶,任意两级台阶的厚度均不相同,所述半导体器件远离分束镜的一侧表面镀有金属反射膜。采用以上技术方案的高时间分辨率分幅照相系统,实现了对X射线二维空间分布的高时间分辨多幅照相,具有目前传统X射线分幅相机不可达到的高时间分辨能力。
Description
技术领域
本发明涉及激光聚变研究技术领域,具体涉及一种高时间分辨率分幅照相系统。
背景技术
惯性约束聚变有望成为未来清洁利用聚变能源的有效途径,无论在民生经济还是在军事领域均具有重要的研究价值,世界上美国、中国、俄罗斯等大国围绕着激光惯性约束聚变开展了一系列深入的研究。惯性约束聚变根据驱动方式可分为直接驱动和间接驱动,无论哪种方式,最终都体现在对球形靶丸的压缩内爆,最终实现高压高温聚变燃烧,实现点火。
在激光惯性约束聚变研究中,X射线分幅相机是非常重要的诊断系统之一。采用X射线分幅相机,通过测量X射线的时空变化过程,可以完成对多种关键物理量及物理过程的诊断。比如,在间接驱动实验研究中,利用X射线分幅相机通过黑腔腔口测量腔内X射线发光过程,可以诊断出黑腔内等离子体聚心过程;结合X射线背光照相方法,利用X射线分幅相机,可以对靶丸压缩过程进行多幅拍照,从而诊断靶丸压缩速度及对称性等物理量;在内爆压缩后期,利用X射线分幅相机配接KB等显微成像系统,可以对热斑形貌演化过程进行诊断。
然而,受限于当前的电子工业技术发展现状,X射线分幅相机时间分辨通常难以优于40ps,针对某些超快物理过程,难以给出精细的实验数据,从而影响实验的最终分析判断。比如内爆过程中的热斑,其持续过程大约为100ps,因此为了获得热斑精细的演化过程,需要更高时间分辨的诊断技术对其二维形貌演化进行诊断,解决以上问题成为当务之急。
发明内容
为解决现有分幅照相系统时间分辨率低的技术问题,本发明提供了一种高时间分辨率分幅照相系统。
其技术方案如下:
一种高时间分辨率分幅照相系统,包括成像光路和记录光路,其要点在于:所述成像光路包括第一透镜、分束镜、台阶反射镜和半导体器件,所述台阶反射镜的反射面上具有若干级台阶,任意两级台阶的厚度均不相同,所述半导体器件远离分束镜的一侧表面镀有金属反射膜;
待测X射线从半导体器件镀有金属反射膜的一侧表面射入,同时,超短脉冲激光依次经第一透镜和分束镜射向台阶反射镜,由台阶反射镜反射回若干束成像光束,各束成像光束先后依次射入半导体器件,再依次经金属反射膜和分束镜反射后引入记录光路,并由记录光路进行记录。
采用以上方式,在半导体器件中,各空间区域X射线引起的光折变效应,由于强度不同,对探针光(即各束成像光束)形成不同程度的相位调制,转化为探针光的强度调制,也就是说,将待测X射线的空间强度信息,转化为探针光的空间强度调制;通过台阶反射镜的结构设计,不仅使各束成像光束能够成像半导体器件的不同位置,而且由于各束成像光束到达的时间各不相同,形成超短脉冲时间序列,因而使各束成像光束能够携带待测X射线不同时间的强度信息,并最终由记录光路记录,从而实现了对X射线二维空间分布的高时间分辨多幅照相,具有目前传统X射线分幅相机不可达到的高时间分辨能力(优于10ps)。
作为优选:各级所述台阶的反射面均为平面结构,任意两级台阶的反射面的倾角均不相同,并使成像光束能够错位叠加地作用在半导体器件的表面。采用以上方式,能够覆盖半导体器件的更多位置。
作为优选:各级所述台阶的厚度关系呈等差数列分布。采用以上方式,能够更精确地控制时间分辨率。
作为优选:所述记录光路包括第二透镜、第三透镜、频域滤波器件和CCD,所述第二透镜位于分束镜和频域滤波器件之间,所述第三透镜位于频域滤波器件和CCD之间。采用以上方式,能够准确地记录照相结果。
作为优选:所述频域滤波器件为光阑。采用以上方式,能够稳定可靠地进行频域滤波。
与现有技术相比,本发明的有益效果:
采用以上技术方案的高时间分辨率分幅照相系统,利用台阶反射镜产生超短脉冲时间序列,结合半导体器件光致折变效应及频域滤波,将待测X射线的空间强度信息转化为探针光的空间强度调制,同时基于台阶反射镜各台阶不同倾角设计,将携带不同时刻待测X射线空间强度信息的探针光成像至不同位置,并由记录光路进行记录,实现了对X射线二维空间分布的高时间分辨多幅照相,具有目前传统X射线分幅相机不可达到的高时间分辨能力。
附图说明
图1为本发明的示意图;
图2为台阶反射镜的结构示意图;
图3为半导体器件的结构示意图。
具体实施方式
以下结合实施例和附图对本发明作进一步说明。
如图1所示,一种高时间分辨率分幅照相系统,包括成像光路和记录光路,所述成像光路包括第一透镜1、分束镜2、台阶反射镜3和半导体器件4,所述记录光路包括第二透镜5、第三透镜6、频域滤波器件7和CCD8,所述第二透镜5位于分束镜2和频域滤波器件7之间,所述第三透镜6位于频域滤波器件7和CCD8之间。其中,所述台阶反射镜3和半导体器件4以及第一透镜1和第二透镜5两两相对地分布在分束镜2周围。
请参见图1和图2,所述台阶反射镜3的反射面上具有若干级台阶3a,任意两级台阶3a的厚度均不相同。进一步地,各级所述台阶3a的厚度关系呈等差数列分布。本实施例中,各级台阶3a的厚度差为1.5mm,当一束超短脉冲激光入射台阶反射镜3时,反射回的超短脉冲信号由于光程差,在时间上被分割成两两间距为10ps的超短脉冲序列,以配合实现高时间分辨率吩咐照相。具体地说,能够通过控制台阶3a的厚度差,调节超短脉冲序列中相邻超短脉冲信号的时间差,从而根据实际需要调整时间分辨率。
而且,各级所述台阶3a的反射面均为平面结构,任意两级台阶3a的反射面的倾角均不相同,并使成像光束能够错位叠加地作用在半导体器件4的表面。
请参见图1和图3,所述半导体器件4远离分束镜2的一侧表面镀有金属反射膜4a,该金属反射膜4a能够反射成像光束,并允许待测X射线通过。
本实施例中,所述频域滤波器件7为光阑,半导体器件4为锑化镉,采用锑化镉材料的半导体器件4能够将待测X射线的空间强度信息转化为折射率变化信息,从而对探针光进行调制。
请参见图1,待测X射线从半导体器件4镀有金属反射膜4a的一侧表面射入,同时,超短脉冲激光依次经第一透镜1和分束镜2射向台阶反射镜3,由台阶反射镜3反射回若干束成像光束,各束成像光束先后依次射入半导体器件4,再依次经金属反射膜4a和分束镜2反射后引入记录光路,并依次经第二透镜5、频域滤波器件7和第三透镜6射向CCD8,最终由CCD8记录。
具体地说,超短脉冲激光依次经第一透镜1和分束镜2射向台阶反射镜3,由于台阶反射镜3特殊的多级台阶3a设计,使各束成像光束不仅具有不同的时间延时,还能够在半导体器件表面呈现错位叠加状态。同时,半导体器件4一面镀有金属反射膜4a,待测X射线从金属反射膜4a的一面入射,各束成像光束从半导体器件4另一面入射,穿过半导体器件4并在金属反射膜4a处反射。各束成像光束在半导体器件4中,由于不同光强引起不同程度的光折变效应在半导体器件4中,各空间区域X射线引起的光折变效应,由于强度不同,对各束成像光束形成不同程度的相位调制(由于光折变效应形成的相位调制,转化为探针光的强度调制,换句话说,就是将待测X射线的空间强度信息,转化为探针光的空间强度调制)。然后,各束成像光束进入记录光路后,经第二透镜5射向频域滤波器件7,由频域滤波器件7频域滤波后,经第三透镜6射向CCD8,最终由CCD8记录,即可获得对待测X射线的高时间分辨分幅照相结果。
最后需要说明的是,上述描述仅仅为本发明的优选实施例,本领域的普通技术人员在本发明的启示下,在不违背本发明宗旨及权利要求的前提下,可以做出多种类似的表示,这样的变换均落入本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种高时间分辨率分幅照相系统,包括成像光路和记录光路,其特征在于:所述成像光路包括第一透镜(1)、分束镜(2)、台阶反射镜(3)和半导体器件(4),所述台阶反射镜(3)的反射面上具有若干级台阶(3a),任意两级台阶(3a)的厚度均不相同,所述半导体器件(4)远离分束镜(2)的一侧表面镀有金属反射膜(4a);
待测X射线从半导体器件(4)镀有金属反射膜(4a)的一侧表面射入,同时,超短脉冲激光依次经第一透镜(1)和分束镜(2)射向台阶反射镜(3),由台阶反射镜(3)反射回若干束成像光束,各束成像光束先后依次射入半导体器件(4),再依次经金属反射膜(4a)和分束镜(2)反射后引入记录光路,并由记录光路进行记录。
2.根据权利要求1所述的高时间分辨率分幅照相系统,其特征在于:各级所述台阶(3a)的反射面均为平面结构,任意两级台阶(3a)的反射面的倾角均不相同,并使成像光束能够错位叠加地作用在半导体器件(4)的表面。
3.根据权利要求1所述的高时间分辨率分幅照相系统,其特征在于:各级所述台阶(3a)的厚度关系呈等差数列分布。
4.根据权利要求1所述的高时间分辨率分幅照相系统,其特征在于:所述记录光路包括第二透镜(5)、第三透镜(6)、频域滤波器件(7)和CCD(8),所述第二透镜(5)位于分束镜(2)和频域滤波器件(7)之间,所述第三透镜(6)位于频域滤波器件(7)和CCD(8)之间。
5.根据权利要求4所述的高时间分辨率分幅照相系统,其特征在于:所述频域滤波器件(7)为光阑。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911179842.7A CN110837201A (zh) | 2019-11-27 | 2019-11-27 | 高时间分辨率分幅照相系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911179842.7A CN110837201A (zh) | 2019-11-27 | 2019-11-27 | 高时间分辨率分幅照相系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110837201A true CN110837201A (zh) | 2020-02-25 |
Family
ID=69577449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201911179842.7A Pending CN110837201A (zh) | 2019-11-27 | 2019-11-27 | 高时间分辨率分幅照相系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
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