CN110709960A - 带电粒子束装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种带电粒子束装置,能够检测在光轴附近通过的能量高的信号电子,例如背散射电子(BSE)、辅助光学系统中的二次电子(SE)。因此,该带电粒子束装置具有:带电粒子束源(101),其产生带电粒子束;物镜(105),其将带电粒子束聚集于试样;以及带电粒子检测元件(108),其配置于带电粒子束源(101)与物镜(105)之间,且检测通过带电粒子束与试样的相互作用而产生的带电粒子,其中,带电粒子检测元件(108)的检测面配置于物镜(105)的中心轴上。

Description

带电粒子束装置
技术领域
本发明涉及一种带电粒子束装置。
背景技术
能够进行纳米级的观察的电子显微镜被用于半导体领域、材料领域、生物领域等各种领域。扫描型电子显微镜(SEM:Scanning Electron Microscope)、透射电子显微镜(TEM:Transmission Electron Microscope)、扫描型透射电子显微镜(STEM:ScanningTransmission Electron Microscope)等通过对观察试样照射从电子源放射的电子,并检测从试样放射的二次电子、背散射电子、或者透过试样的电子,从而取得试样的构造信息、成分信息。因此,可得到的试样信息高度依赖检测器的结构。这一点并非限于电子显微镜,在离子显微镜等其它显微镜中也是相同的。
关于通过光轴附近的信号电子的检测,虽为辅助光学系统中的信号检测方法,但已知使用圆环状的检测器的信号检测系统(专利文献1)。另外,也已知使信号电子转向的方法(专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2000-30654号公报
专利文献2:日本特开平7-192679号公报
发明内容
发明所要解决的课题
为了检测通过光轴附近的能量高的信号电子,例如背散射电子(BSE)、增强器光学系统中的二次电子(SE),在专利文献1的方法中,在带电粒子束的照射轴(光轴)上有开口,难以检测光轴附近的信号。另一方面,在专利文献2的方法中,虽然认为在信号电子的能量低的情况下通过转向而不会产生大的问题,但在信号电子的能量高的情况下,如果想要得到充分的转向角,则会影响照射电子束(一次电子束)。而且,在将信号电子转向来检测的情况下,难以均等地检测相对于光轴轴对称地放射的信号电子。
用于解决课题的方案
带电粒子束装置具有:带电粒子束源,其产生带电粒子束;物镜,其将带电粒子束聚集于试样;以及带电粒子检测元件,其配置于带电粒子束源与物镜之间,且检测通过带电粒子束与试样的相互作用而产生的带电粒子,其中,带电粒子检测元件的检测面配置于物镜的中心轴上。
发明效果
能够检测在光轴附近通过的能量高的带电粒子。能够检测起因于二次带电粒子的干涉条纹。
附图说明
图1是实施例1的带电粒子束装置的概略图。
图2A是对带电粒子检测元件的结构进行说明的图。
图2B是对带电粒子检测元件的结构进行说明的图。
图2C是对带电粒子检测元件的结构进行说明的图。
图3是具有多个开口光阑的带电粒子束光阑单元的例子。
图4是实施例1的带电粒子束装置的另一概略图。
图5是实施例1的带电粒子束装置的另一概略图。
图6是实施例2的带电粒子束装置的概略图。
图7是实施例3的带电粒子束装置的概略图。
具体实施方式
使用附图对本实施例进行说明。但是,以下说明的实施方式仅是用于实现本发明的一个结构例,不限制本发明的技术范围。另外,在各图中,对于共通的结构标注相同的参照编号,省略说明。
实施例1
图1表示实施例1的结构。带电粒子束装置的带电粒子光学系统具有:带电粒子束源101,其产生带电粒子束;第一、第二聚束透镜103、104,其聚集从带电粒子束源101放射的带电粒子束;带电粒子束光阑120,其遮蔽从带电粒子束源101放射的带电粒子的一部分;带电粒子束光阑单元121,其支撑带电粒子束光阑120;以及物镜105,其将带电粒子束聚集于试样。被来自带电粒子光学系统的带电粒子束照射的观察试样114配置于试样室115。当向带电粒子束照射到观察试样114时,通过带电粒子束与观察试样的相互作用,产生带电粒子。
为了检测通过与观察试样的相互作用而产生的带电粒子(二次带电粒子),在图1的结构例中具有检测面配置于带电粒子束光阑120的中心部的带电粒子检测元件108及配置于试样室的试样室检测器118。这样设置多个检测器是为了分别检测能量、放射角度不同的带电粒子。以将电子束用作带电粒子束的情况为例进行说明。试样内的电子被射入电子激发而放射到真空中的电子为二次电子(狭义),其能量一般定义为50eV以下。另一方面,射入电子在试样内散射而再次从试样表面放射到真空的电子为背散射电子,其能量高,一般具有50eV以上的能量。能量低的二次电子由配置于配置有带电粒子光学系统的带电粒子束柱外的试样室检测器118检测,另外,能量高的背散射电子由配置于带电粒子束柱内的带电粒子检测元件108检测。
分别设有用于控制带电粒子光学系统、试样室、检测器各结构的控制器。即,设有控制带电粒子束源101的带电粒子束源控制器151、控制第一聚束透镜103的第一聚束透镜控制器153、控制第二聚束透镜104的第二聚束透镜控制器154、控制带电粒子束光阑单元121的带电粒子束光阑单元控制器181、控制物镜的物镜控制器155、控制带电粒子检测元件108的带电粒子检测元件控制器158以及控制试样室检测器118的试样室检测器控制器168。这些控制器由控制整个带电粒子束装置的动作及根据检测器检测到的带电粒子信号进行带电粒子束图像的构筑的统合计算机170控制。另外,在统合计算机170除了各控制器,还连接有供操作员输入照射条件、电极的电压条件、位置条件等各种指示等的控制器(键盘、鼠标等)171和对操作员显示取得的带电粒子束图像、带电粒子束装置的控制画面的显示器172。
此外,图1所示的部分仅为带电粒子束装置的主要部分,例如,根据装置的功能,可设置用于将从带电粒子束源101放射的带电粒子束在观察试样114上扫描、移动的转向系统、载置观察试样114的工作台机构等。另外,在图1的例子中具备两个聚束透镜,但目的在于控制向物镜射入的带电粒子,不限制聚束透镜的数量。另外,物镜既可以是不会将磁场泄露到磁路之外的类型的透镜,也可以是将磁场泄露到磁路之外的类型的透镜,还可以是具备泄露磁场的类型和不会泄露磁场的类型双方的复合物镜。在将带电粒子束聚集到试样的目的下,不限制透镜的类型,因此聚束透镜及物镜不限于磁场透镜,也可以是静电透镜。但是,特别地,就与观察试样114接近配置的物镜105而言,有时产生将从观察试样114放射的带电粒子加速或减速的作用,因此,需要考虑其作用而设定观察条件。而且,带电粒子束装置具备的带电粒子束柱不限于一个,也可以是具备多个带电粒子束柱的复合带电粒子束装置。
使用图2A~C对带电粒子检测元件108的结构进行说明。带电粒子检测元件108通过三个检测元件支撑部110配置于带电粒子束光阑120的开口部的中心位置。带电粒子束光阑120可以是开口光阑120a(图2A、C),也可以是圆环光阑120b(图2B)。圆环光阑120b为在开口光阑的开口部的中心位置还设有遮蔽带电粒子束的遮蔽部的光阑。圆环光阑120b的中心位置的遮蔽部的形状、大小设为与带电粒子检测元件108大致相同,因此在圆环光阑120b设有带电粒子检测元件108的情况下的俯视图与图2A的俯视图大致相同。带电粒子检测元件108、带电粒子束光阑120的大小没有特别限定,但带电粒子检测元件的直径为60μm左右,带电粒子束光阑的开口部的内径为80~100μm左右。
另外,也能够由层叠有闪烁器109的光检测元件107构成带电粒子检测元件108(图2C)。在该情况下,不是直接检测电子,而是通过闪烁器109暂时转换成光(闪烁光),由光检测元件107检测转换成的光(闪烁光)。由于带电粒子检测元件108(或光检测元件107)需要为小型,因此使用半导体元件(CCD(Charge-Coupled Device)、光敏二极管、光敏二极管阵列)、硅光电倍增管(SiPM)等固体检测器。例如,在CMOS图像传感器的领域中公开了2μm以下的像素尺寸的传感器构造,能够灵活运用这些技术。
而且,也可以在配置于带电粒子束光阑120的开口部的中心位置的第一带电粒子检测元件的基础上,在带电粒子束光阑120的开口部的周边配置第二带电粒子检测元件,由多个带电粒子检测元件构成带电粒子检测元件108。通过使用多个带电粒子检测元件,能够增加检测来自试样的带电粒子的检测面积。在该情况下,优选构成为,第一带电粒子检测元件的信号输出和第二带电粒子检测元件的信号输出分离,能够仅输出第一带电粒子检测元件的信号输出。这是因为,由于第二带电粒子检测元件的信号输出检测稍远离光轴的带电粒子,因此如检测后述的带电粒子间的干涉的情况那样,有时希望仅通过第一带电粒子检测元件的信号输出来观察。
另外,在检测元件支撑部110之一配置有用于从带电粒子检测元件108(或光检测元件107)向外部引出检测信号到检测元件信号线111。根据引出信号的目的,也可以将检测元件信号线111与检测元件支撑部110分开配置,但为了使对来自带电粒子束源101的带电粒子束的影响最小,优选将检测元件信号线111配置于检测元件支撑部110。另外,在采用对闪烁器109施加高电压的结构的情况下,优选为此目的的电压供给配线也配置于检测元件支撑部110之一。此外,在图2A的例子中,考虑支撑部110的挠曲、旋转而由三个支撑部支撑带电粒子检测元件108,但支撑部的数量不限于三个。另外,也可以不是由带电粒子束光阑120支撑,而是与具备带电粒子束光阑的带电粒子束光阑单元121独立地设置支撑带电粒子检测元件108的带电粒子检测器单元。在该情况下,在没有带电粒子束光阑120的带电粒子光学系统、与带电粒子束光阑120分离配置带电粒子检测元件108的带电粒子光学系统(参照图4)中,也能够应用本实施例的带电粒子检测元件108。
这样,通过在带电粒子束的光轴上配置带电粒子检测元件108,由于带电粒子束的光量降低,因此S/N降低,另一方面,通过带电粒子束被集中,分辨率提高,因此只要通过这之间的平衡求出观察条件即可。对于在带电粒子束的光轴上配置带电粒子检测元件108的检测面的优点稍后叙述。
另外,如图3所示,带电粒子束光阑单元121可以除了支撑带电粒子检测元件108的光阑,额外具备一个以上的开口光阑。图3的例子为具备开口直径不同的多个开口光阑120c~e的例子。由此,能够选择带电粒子检测元件的插入状态和退避状态,能够选择一般的照射条件和本实施例的照射条件,能够扩大观察的宽度。另外,在设置支撑带电粒子检测元件的带电粒子检测器单元的情况下,通过以能够选择带电粒子检测元件的插入状态和退避状态的方式在带电粒子检测器单元设置驱动机构,能够得到相同的效果。
图4是将带电粒子束光阑120和带电粒子检测元件108分离配置的例子。通过将带电粒子检测元件108配置于带电粒子束的光轴上或物镜105的中心轴上而且与带电粒子束光阑120分离的位置,能够配置于带电粒子束柱的下部(接近物镜105的一侧),观察的宽度扩大。通过该配置,能够将根据向试样照射的带电粒子束的电流量、孔径角等照射条件和带电粒子束与观察试样的相互作用而产生的带电粒子的检测分离而最佳化。
图5表示另一变形例。在图5的例子中,在带电粒子束的光轴(物镜105的中心轴)上配置有闪烁器109,在闪烁器109的上部配置有反射镜106及光检测元件107。此外,闪烁器109设为遮蔽来自带电粒子束源101的带电粒子束的构造。也设有控制光检测元件107的光检测元件控制器157,光检测元件控制器157由统合计算机170控制。反射镜106以带电粒子束在光轴上穿过的方式具有开口,成为检测从闪烁器扩展的光(闪烁光)的结构。此外,也可以设为在光轴上支撑反射镜的结构,也可以使用圆环形状的反射镜。特别是在闪烁器109和反射镜106接近配置的情况下,通过在带电粒子束的光轴上设置反射镜,能够提高闪烁光的检测效率,是有效的。另外,也可以使用棱镜代替反射镜。进一步地,反射镜、棱镜也可以具备用于变更相对于闪烁器面的角度的机构。另外,也可以在闪烁器109与反射镜106(或棱镜)之间或反射镜106(或棱镜)与光检测元件107之间为了减少传送损失而配置导光体、光学透镜、光纤等。另外,也可以设为仅使用光纤将闪烁光引导至光检测元件的结构。
通过将带电粒子检测元件的检测面配置于带电粒子束的光轴(物镜的中心轴)上,能够检测在光轴上或光轴附近行进的二次带电粒子。此外,在称为二次带电粒子的情况下,广泛地指通过带电粒子束与试样的相互作用而产生的带电粒子。例如,二次电子(狭义)和背散射电子都是二次带电粒子。在此,如果以将背散射电子作为二次带电粒子检测的情况为例,则由于背散射电子根据构成试样的元素不同而产生量不同,因此为了确认试样中的成分分布,使用背散射电子图象。在与以往一样地带电粒子检测器相对于带电粒子束的光轴具有预定的角度配置的情况下,背散射电子的检测信号为除了成分的信息,还包含试样表面的凹凸信息的信息。与之相对,通过利用配置于带电粒子束的光轴上的带电粒子检测元件检测背散射电子,试样表面的凹凸信息被排除,能够进一步选择性地取得成分信息。
另外,在为了检测光轴附近的二次带电粒子而使二次带电粒子转向的现有方法(参照专利文献2)中,由于该转向,难以均等地检测相对于光轴轴对称地放射的二次带电粒子,与之相对,通过在光轴上配置检测面,能够均等地检测相对于光轴以相同角度放射的电子。由于不转向,因此,即使是能量高的二次带电粒子,也不会对带电粒子束产生歪斜等影响,能够检测在光轴上或光轴附近行进的二次带电粒子。
进一步地,能够检测相对于光轴轴对称地放射的二次带电粒子与在光轴上行进的二次带电粒子的干涉。由此,能够实现空间分辨率的提高。例如,能够检测从试样表面在光轴上行进的二次带电粒子与相对于光轴轴对称地放射的二次带电粒子之间的干涉。另外,在将在光轴上行进的二次带电粒子在检测元件的下方遮蔽的情况下,能够检测相对于光轴轴对称地放射的二次带电粒子间的干涉。在该情况下,干涉条纹相对于光轴平行地形成,因此难以受到二次带电粒子的能量扩散的影响。即,能够提高干涉条纹的检测灵敏度。以往,在透射型电子显微镜(TEM)等中进行透射电子与散射电子之间的干涉图像的观察等,但能够检测因从试样放射或反射的二次带电粒子而产生的干涉这一点是其它检测方法无法比拟的,是本实施例的特征。此外,为了将在光轴上行进的二次带电粒子在检测元件的下方遮蔽,具体来说,在带电粒子检测元件108与观察试样之间配置相同形状的另一带电粒子检测元件。在该情况下,能够在另一带电粒子检测元件中检测在光轴上进行的二次带电粒子,在带电粒子检测元件108中检测相对于光轴轴对称地放射的二次带电粒子间的干涉。或者,也可以在带电粒子检测元件与观察试样之间配置圆环光阑。圆环光阑的设于开口部的中心位置的遮蔽部配置于物镜的中心轴上。
另外,通过使配置于带电粒子束的光轴上的带电粒子检测元件的检测面能够调整,能够提高通用性。为了得到上述的技术效果,优选带电粒子检测器的中心与带电粒子束的光轴(或物镜的中心轴)一致。因此,优选能够进行相对于光轴垂直的平面内的位置调整。进一步地,在检测从试样表面在光轴上行进的二次带电粒子与相对于光轴轴对称地放射的二次带电粒子的干涉的情况下,光轴方向的位置调整也是重要的。因此,优选也能够进行光轴方向的位置调整。
而且,上述的技术效果的前提在于试样平面与光轴垂直。例如,能够进一步选择性地取得试样的成分信息的效果取决于检测相对于试样平面垂直地放射从而不受试样表面的凹凸的影响的背散射电子。另外,二次带电粒子的干涉的检测也假定与垂直于试样平面地放射的二次带电粒子的干涉。因此,只要能够调整带电粒子检测元件的检测面与物镜的中心轴(或带电粒子束的光轴)所成的角度,以在试样平面倾斜的情况下能够将带电粒子检测元件的检测面调整至相对于倾斜的试样平面垂直地放射的带电粒子的轨道上即可。
因此,设为具备用于调整带电粒子元件的检测面的电动驱动机构,且能够在显示于显示器172的控制画面上操作。进一步地,若统合计算机170具备存储设定好的带电粒子元件的检测面的位置的存储区域,且通过控制画面上的操作调用位置,则更便利。驱动检测面的机构可以是马达驱动,也可以是压电驱动。另外,也可以具备双方,根据调整量分开使用。此外,不仅是试样平面倾斜的情况,通过变更加速电压、电流量等带电粒子束的照射条件,也可能引起二次带电粒子的轨道变化。在这样的情况下,如果具备调整带电粒子元件的检测面相对于带电粒子束的光轴或物镜的中心轴的位置、角度的功能,则能够按照照射条件进行调整。
实施例2
图6表示实施例2的带电粒子束装置的结构。在图6的带电粒子束装置中,具有以下特征:带电粒子检测元件108的检测面位于物镜的中心轴上,但不位于带电粒子束的光轴上。
因此,在图6所示的带电粒子束柱中,具备使从带电粒子束源101放射的带电粒子束转向的转向器组122和控制转向器组的转向器组控制器182。转向器组控制器182由统合计算机170控制。在图6中,转向器组122由四个转向器构成,但只要能够将带电粒子束以避开带电粒子检测元件108的检测面的方式转向,转向器的数量就没有限制。例如,也可以构成为,使用由两级构成的转向器组使从带电粒子束源放射时的光轴和向试样照射时的光轴平行。
由此,不会将向试样照射的带电粒子束用带电粒子检测元件108遮挡。由此,能够实现比实施例1的结构高的照射电流。另外,图6的例子是对图1的结构设置了用于避开带电粒子检测元件108的检测面的转向器组的例子,但对于实施例1的变形例即图4、图5的结构,通过设置用于避开带电粒子检测元件108的检测面或闪烁器109的转向器组,也可得到相同的效果。
实施例3
图7表示实施例3的带电粒子束装置的结构。在图7的带电粒子束装置中,特征在于在带电粒子束柱内具备束射管。即,具备使从带电粒子束源101放射的带电粒子束加速的加速电极102、控制加速电极的加速电极控制器152、从加速电极配置到物镜下端附近的束射管112、向束射管供给电压的束射管用电源113以及控制束射管用电源的束射管控制器163。加速电极控制器152及束射管控制器163由统合计算机170控制。
从试样放射的能量低的二次带电粒子、例如二次电子通过束射管的电压加速,在带电粒子束柱中直线前进。由此,也能够检测能量低的二次带电粒子的干涉。
另外,作为二次带电粒子的加速机构,不限于图7所示的束射管,在应用了对载置观察试样114的工作台施加负的高电压的减速光学系统的带电粒子束装置中,也能得到相同的效果。其原因在于,使来自带电粒子束源101的朝向观察试样114的带电粒子束(电子束)减速的减速光学系统具有使从观察试样114放射或反射的二次带电粒子(二次电子)加速的作用。
另外,通过与实施例2组合,设置用于避开带电粒子检测元件108的检测面的转向器组,能够实现更高的照射电流。
符号说明
101—带电粒子束源,102—加速电极,103—第一聚束透镜,104—第二聚束透镜,105—物镜,106—反射镜,107—光检测元件,108—带电粒子检测元件,109—闪烁器,110—检测元件支撑部,111—检测元件信号线,112—束射管,113—束射管用电源,114—观察试样,115—试样室,118—试样室检测器,120—带电粒子束光阑,121—带电粒子束光阑单元,122—转向器组,151—带电粒子束源控制器,152—加速电极控制器,153—第一聚束透镜控制器,154—第二聚束透镜控制器,155—物镜控制器,157—光检测元件控制器,158—带电粒子检测元件控制器,163—束射管控制器,168—试样室检测器控制器,170—统合计算机,171—控制器,172—显示器,181—带电粒子束光阑单元控制器,182—转向器组控制器。

Claims (15)

1.一种带电粒子束装置,其特征在于,具有:
带电粒子束源,其产生带电粒子束;
物镜,其将上述带电粒子束聚集于试样;以及
第一带电粒子检测元件,其配置于上述带电粒子束源与上述物镜之间,检测通过上述带电粒子束与上述试样的相互作用而产生的带电粒子,
上述第一带电粒子检测元件的检测面配置于上述物镜的中心轴上。
2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有第一带电粒子束光阑,该第一带电粒子束光阑配置于上述带电粒子束的光轴上,且具有开口部,
上述第一带电粒子检测元件配置于上述第一带电粒子束光阑的开口部的中心位置。
3.根据权利要求2所述的带电粒子束装置,其特征在于,
上述第一带电粒子束光阑为在上述开口部的中心位置具有遮蔽上述带电粒子束的遮蔽部的圆环光阑,
上述第一带电粒子检测元件配置于上述圆环光阑的上述遮蔽部。
4.根据权利要求2所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有第二带电粒子检测元件,该第二带电粒子检测元件配置于上述第一带电粒子束光阑的上述开口部的周边,
上述第一带电粒子检测元件的信号输出和上述第二带电粒子检测元件的信号元件能够分离输出。
5.根据权利要求2所述的带电粒子束装置,其特征在于,具有:
第二带电粒子束光阑,其在开口部未配置带电粒子检测元件;以及
带电粒子束光阑单元,其能够选择地支撑上述第一带电粒子束光阑和上述第二带电粒子束光阑。
6.根据权利要求2所述的带电粒子束装置,其特征在于:
上述第一带电粒子检测元件具有:闪烁器,其将通过上述带电粒子束和上述试样的相互作用产生的带电粒子转换成闪烁光;光检测元件,其检测上述闪烁光。
7.根据权利要求1所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有驱动机构,该驱动机构调整上述第一带电粒子检测元件的检测面的位置或上述第一带电粒子检测元件的检测面与上述物镜的中心轴所成的角度。
8.根据权利要求1所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有将上述带电粒子束转向的转向器组,
通过上述转向器组使从上述带电粒子束源产生的带电粒子束避开上述第一带电粒子检测元件的检测面而射入上述物镜。
9.根据权利要求1所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有加速机构,该加速机构使通过上述带电粒子束与上述试样的相互作用而产生的带电粒子加速,
上述第一带电粒子检测元件检测通过上述加速机构进行了加速的带电粒子。
10.一种带电粒子束装置,其特征在于,具有:
带电粒子束源,其产生带电粒子束;
物镜,其将上述带电粒子束聚集于试样;
闪烁器,其配置于上述带电粒子束源与上述物镜之间的上述物镜的中心轴上;以及
光检测元件,
上述闪烁器将通过上述带电粒子束与上述试样的相互作用而产生的带电粒子转换成闪烁光,上述光检测元件检测上述闪烁光。
11.根据权利要求10所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有改变上述闪烁光的行进方向的反射镜或棱镜或光纤,
上述光检测元件配置于上述带电粒子束的光轴外。
12.一种带电粒子束装置,其特征在于,
带电粒子束源,其产生带电粒子束;
物镜,其将上述带电粒子束聚集于试样;
第一带电粒子检测元件,其配置于上述带电粒子束源与上述物镜之间,且检测通过上述带电粒子束与上述试样的相互作用而产生的带电粒子;以及
驱动机构,其调整上述第一带电粒子检测元件的检测面的位置或上述第一带电粒子检测元件的检测面与上述物镜的中心轴所成的角度,
上述第一带电粒子检测元件的检测面配置于上述物镜的中心轴上,且检测通过上述带电粒子束与上述试样的相互作用而产生的带电粒子间的干涉。
13.根据权利要求12所述的带电粒子束装置,其特征在于,
上述驱动机构具有电动驱动机构。
14.根据权利要求12所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有第二带电粒子检测元件,
上述第二带电粒子检测元件的检测面配置于上述第一带电粒子检测元件与上述试样之间的上述物镜的中心轴上。
15.根据权利要求12所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具有在开口部的中心位置具有遮蔽部的圆环光阑,
上述圆环光阑的遮蔽部配置于上述第一带电粒子检测元件与上述试样之间的上述物镜的中心轴上。
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