CN110695863A - 一种提高植砂均匀性的静电植砂方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，属于静电植砂的方法技术领域。本发明的一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，使附着有粘接剂的基材行走经过电力场，将砂粒传输至电力场内，在电力场的作用下，砂粒上升附着于基材上，在电力场内，使砂粒先上升穿过筛网被均匀化后、再附着于基材上。采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上，生产的产品质量更佳。

Description

一种提高植砂均匀性的静电植砂方法

技术领域

本发明涉及一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，属于静电植砂的方法技术领域。

背景技术

目前，基材的静电植砂作业一般采用逆向植砂或顺向植砂。

逆向植砂的静电植砂装置如图1所示，砂粒7通过下砂装置2下落到输砂带1上后被运输到上极板3和下极板4之间，在上极板3与下极板4之间产生的电力场的作用下，砂粒7上升并附着到涂有粘结剂的基材6上，基材6再被基材导辊5导向进入烤箱进行固化，此装置因为输砂带上砂粒运动方向与基材运动方向相反，故而称为逆向植砂。

与图1所示的逆向植砂不同之处，顺向植砂的静电植砂装置如图2所示，此装置的输砂带1上砂粒运动方向与基材运动方向相同，故而称为顺向植砂。这两种植砂方式是采用的现有的静电植砂方法：使附着有粘接剂的基材6行走经过电力场，将砂粒7传输至电力场内，在电力场的作用下，砂粒7上升附着于基材6上。可以看出，这两种植砂方式都是砂粒在上、下极板产生的电力场的作用下直接上升并附着到基材上的，植砂的均匀性因下砂的均匀性而受到极大影响，同时在电力场中砂粒之间产生相互碰撞也会造成植砂的局部不均。

发明内容

本发明的发明目的在于：针对上述存在的问题，提供一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上。

本发明采用的技术方案如下：

一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，使附着有粘接剂的基材行走经过电力场，将砂粒传输至电力场内，在电力场的作用下，砂粒上升附着于基材上，在电力场内，使砂粒先上升穿过筛网被均匀化后、再附着于基材上。

采用本发明的静电植砂方法进行基材的植砂作业时，其原理是：使附着有粘接剂的基材行走经过电力场，并将砂粒传输至电力场内时，明显的，砂粒上升起点是位于基材下方的，砂粒在电力场的作用下向上移动，得益于本发明的静电植砂方法的筛网的特别设计，明显的，筛网处于基材下方，处于了砂粒的上升路径上，在砂粒的上升起点与上升终点之间，那么砂粒将被筛网均匀化之后才能附着于基材上，从而提高了植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：

本发明的一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，本发明构思巧妙，采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上，生产的产品质量更佳。

附图说明

本发明将通过例子并参照附图的方式说明，其中：

图1是背景技术的逆向植砂的静电植砂结构原理图；

图2是背景技术的同向植砂的静电植砂结构原理图；

图3是本发明的逆向植砂的提高植砂均匀性的静电植砂结构原理图；

图4是本发明的同向植砂的提高植砂均匀性的静电植砂结构原理图；

图5是本发明的收放卷装置使筛网在输送带与基材行走路径之间行的示意图；

图6是本发明的从俯视方向看，筛网的行走方向与基材的行走方向大体上是垂直的示意图。

图中标记：1-输送带、2-下砂装置、21-下料斗、22-下砂辊、3-上极板、4-下极板、5-导辊、6-基材、6'-基材行走路径、7-砂粒、8-筛网、9-收放卷装置、91-放卷轴、92-放卷导辊、93-收卷导辊、94-收卷轴。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。

本说明书中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。

实施例一

如图3至图6所示，实施例一的一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，使附着有粘接剂的基材6行走经过电力场，将砂粒7传输至电力场内，在电力场的作用下，砂粒7上升附着于基材6上，在电力场内，使砂粒7先上升穿过筛网8被均匀化后、再附着于基材6上。

采用本发明的静电植砂方法进行基材6的植砂作业时，其原理是：使附着有粘接剂的基材6行走经过电力场，并将砂粒7传输至电力场内时，明显的，砂粒7上升起点是位于基材6下方的，砂粒7在电力场的作用下向上移动，得益于本发明的静电植砂方法的筛网8的特别设计，明显的，筛网8处于基材6下方，处于了砂粒的上升路径上，在砂粒的上升起点与上升终点之间，那么砂粒7将被筛网8均匀化之后才能附着于基材6上，从而提高了植砂的均匀性，使得砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。

进一步的，使筛网8处于行走状态，筛网8行走的经过电力场。基材6的植砂作业是持续性的过程，随着时间的推移，如果筛网8处于静止状态，筛网8的个别网孔可能会被砂粒7堵塞的情况，影响植砂的均匀性，因此，本发明特别提出了本设计，使得筛网8缓慢行走的经过电力场，这就使得不断的有新的筛网8进入电力场内，而使用过的筛网8离开电力场，这就提高了均匀植砂的稳定性，进一步的确保砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。

进一步的，从俯视方向看，筛网8的行走方向与基材6的行走方向是相交的。优选的，从俯视方向看，筛网8的行走方向与基材6的行走方向大体上是垂直的，如图6所示。

进一步的，使筛网8处于张紧状态。能够进一步的确保砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。

进一步的，使筛网8处于振动状态。能够避免出现筛网底部砂粒富集而影响均匀植砂效果，进一步的提高了均匀植砂的稳定性，确保砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。

进一步的，筛网8的任意一个网孔都至少能够穿过1粒砂粒。优选的，筛网8的网孔大小大约为砂粒大小的2倍-8倍。

进一步的，筛网8的网孔目数为5目-600目。可根据实际需求选择所需网孔目数的筛网8，适配砂粒的目数。

进一步的，筛网8距砂粒7上升起点的距离小于筛网8距砂粒7上升终点的距离。本领域技术人员十分清楚：静电植砂的砂粒是靠电力场的电场力吸上去的，而砂粒的形状各异，但总体可认为，电场力的作用点作用在砂粒重心，因此砂粒的大头朝里，小头尖头朝外，大头被胶牢牢地粘在带基上，尖头朝外则砂纸砂布磨削锋利，形成具有优良磨削性能的产品，这是静电植砂的优点。采用本设计时，筛网8更贴近于砂粒的上升起点位置，基本不会对静电植砂原本的优点产生影响。如果筛网8距砂粒7上升起点的距离大于筛网8距砂粒7上升终点的距离，即筛网8更贴近于砂粒的上升终点位置(或者说筛网8更贴近于基材6，基材6的底面基本上就是砂粒的上升终点位置)。砂粒穿过碰撞筛网8后，空间位置被改变，穿过筛网8后还来不及恢复呈“大头朝里，小头尖头朝外的状态”就附着于基材6上了，虽然此时砂粒7能够较均匀的分布于基材6上，但是制成产品的锋利性就受到了影响。因此，筛网8距砂粒7上升起点的距离小于筛网8距砂粒7上升终点的距离是最佳选择。

进一步的，筛网8覆盖整个砂粒7的上升路径。能够确保所有的砂粒7都必须先上升穿过筛网8被均匀化后、再附着于基材6上。

进一步的，砂粒7的传输方向与基材6的行走方向相同或相反。如图3所示，基材6的行走方向与砂粒7的运输方向相反时，实现逆向植砂动作；如图4所示，基材6的行走方向与砂粒7的运输方向相同时，实现顺向植砂动作。

进一步的，砂粒7持续的传输至电力场内。确保静电植砂作业的连续性。

为了便于进一步的理解实施本发明，本发明还具体公开了实现实施例一的一种提高植砂均匀性的静电植砂方法的一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备。在下述的具体实施例中，基材行走路径6'指的在进行植砂作业时，基材6行走的路径，借助导辊5的导向作用使得基材6在上极板3与输送带1之间行走。在现有的静电植砂设备中，参照图1、图2所示，能够使得基材6在上极板与输送带(或者下极板)之间行走，现有的静电植砂设备的导辊5主要起到了导向的作用，因此，本发明中，如何使得基材6在上极板3与输送带4之间行走，并不存在技术难题，参考现有技术手段即可，本发明主要解决的技术问题是如何提高植砂均匀性，因此，基材6的行走采用现有技术手段即可，本发明就不再赘述了。

实施例二

如图3至图6所示，实施例二的一种提高植砂均匀性的静电植砂结构，包括输送带1、上极板3、下极板4；其中，上极板3布置于下极板4上方，用于产生使砂粒向上运动的电力场；输送带1布置于上极板3与下极板4之间，用于输送砂粒；基材行走路径6'位于上极板3与输送带1之间，基材行走路径6'是植砂时基材6行走的路径；还包括筛网8，筛网8布置于输送带1与基材行走路径6'之间，用于均匀化砂粒7，以使得砂粒7先上升穿过筛网8被均匀化后、再附着于基材6上。

采用本发明的静电植砂结构进行基材6的植砂作业时，其动作过程原理是：附着有粘接剂的基材6沿基材行走路径6'行走于上极板3与输送带1之间，基材6行走于筛网8的上方，而筛网8位于输送带1上方，上极板3与下极板4之间产生有用于使砂粒向上运动的电力场，通过输送带1将砂粒7输送至上极板3与下极板4之间时，砂粒7在电力场的作用下向上移动，得益于筛网8的设计，筛网8在上极板3与下极板4之间形成的电力场内，处于了砂粒的上升路径上，那么砂粒7将被筛网8均匀化之后才能附着于基材6上，从而提高了植砂的均匀性，使得砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。

如图5所示，还包括收放卷装置，通过收放卷装置9可使筛网8在输送带1与基材行走路径6'之间行走。进行植砂作业时，使得筛网8处于行走状态，筛网8行走的经过电力场。

如图5所示，所述收放卷装置9包括布置于上极板3与下极板5一侧的放卷轴91与放卷导辊92，以及布置于上极板3与下极板5另一侧的收卷导辊93与收卷轴94；呈卷状的筛网8安装到放卷轴91上后，筛网8通过放卷导辊92穿过输送带1与基材行走路径6'之间，再通过收卷导辊93连接到收卷轴94上。能够实现使筛网8在输送带1与基材行走路径6'之间行走的目的。基材6的植砂作业是持续性的过程，随着时间的推移，如果筛网8处于静止状态，筛网8的个别网孔可能会被砂粒7堵塞的情况，影响植砂的均匀性，因此，本发明通过收放卷装置9使得呈卷状的筛网8展开后，8在输送带1与基材行走路径6'之间缓慢行走，放卷轴91放卷新的筛网8，收卷轴94收卷使用过的筛网8，这就使得不断的有新的筛网8进入电力场内，而使用过的筛网8离开电力场，这就提高了均匀植砂的稳定性，进一步的确保砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。放卷轴91上安装的卷状的筛网8用完后，更换新的卷状的筛网8可继续进行植砂作业。需要时，通过收放卷装置9的变频器(未图示)来调节收放卷装置9的收放卷速度，进而控制筛网的行走速度。进行不同需求的产品的植砂作业时，可根据具体砂粒的大小更换适配的网孔大小的筛网8。筛网8可以为采用涤纶、锦纶、玻璃纤维、棉、麻中的一种或多种材料混合制成的筛网，筛网8的网孔可以是正方形、长方形、菱形、圆形、椭圆形等形状。从俯视方向看，筛网8的行走方向与基材6的行走方向相交的。优选的，从俯视方向看，筛网8的行走方向与基材6的行走方向大体上是垂直的，如图6所示。

放卷导辊92或/和收卷导辊93上连接有张紧机构，用于张紧筛网8。进行植砂作业时，能够使得筛网8处于张紧状态，能够进一步的确保砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。张紧机构为装配于放卷导辊92或/和收卷导辊93端部的磁粉制动器(未图示)。优选的，磁粉制动器装配于最下游的放卷导辊92a的端部；或者，磁粉制动器装配于最上游的收卷导辊93a的端部；或者，该放卷导辊92a与收卷导辊93a的端部都装配有磁粉制动器。

放卷导辊92或/和收卷导辊93上连接有振动机构，用于振动筛网8。进行植砂作业时，能够使得筛网8处于振动状态。能够避免出现筛网底部砂粒富集而影响均匀植砂效果，进一步的提高了均匀植砂的稳定性，确保砂粒7能够更加均匀的分布于基材6上。振动机构为装配于放卷导辊92或/和收卷导辊93端部的振动器(未图示，如振动电机)。优选的，振动器装配于最下游的放卷导辊92a的端部；或者，振动器装配于最上游的收卷导辊93a的端部；或者，该放卷导辊92a与收卷导辊93a的端部都装配有振动器。明显的张紧机构与振动机构并非互斥的方案，是能够相互结合的。

筛网的宽度b不小于上极板的宽度b1或/和下极板的宽度b2。即b≥b1，或/和，b≥b2。上极板与下极板产生了用于砂粒向上运动的电力场；例如，下极板的宽度b2小大于上极板的宽度b1，即，b1≥b2，那么电力场的宽度基本上是不大于下极板的宽度b2的，为了确保所有的砂粒7都必须先上升穿过筛网8被均匀化后、再附着于基材6上，那么筛网的宽度b不小于上极板的宽度b1或/和下极板的宽度b2是最佳选择，使得筛网8能够覆盖了整个砂粒7的上升路径(砂粒7的上升路径是由电力场决定的)。具体的，可以是筛网的宽度b不小于上极板的宽度b1；或者，筛网的宽度b不小于下极板的宽度b2；或者，筛网的宽度b不小于上极板的宽度b1和下极板的宽度b2。

如图5所示，筛网距输送带的距离h1小于筛网距基材行走路径的距离h2。即，h1＜h2，那么筛网8距砂粒7上升起点的距离小于筛网8距砂粒7上升终点的距离。不难理解，输送带1的顶面基本上就是砂粒的上升起点位置，而基材6(基材行走路径6')的底面基本上就是砂粒的上升终点位置。本领域技术人员十分清楚：静电植砂的砂粒是靠电力场的电场力吸上去的，而砂粒的形状各异，但总体可认为，电场力的作用点作用在砂粒重心，因此砂粒的大头朝里，小头尖头朝外，大头被胶牢牢地粘在带基上，尖头朝外则砂纸砂布磨削锋利，形成具有优良磨削性能的产品，这是静电植砂的优点。采用本设计时，h1＜h2，即筛网8更贴近于输送带(或者说筛网8更贴近于砂粒的上升起点位置)，那么基本不会对静电植砂原本的优点产生影响。如果h1＞h2，即筛网8更贴近于基材6(或者说筛网8更贴近于砂粒的上升终点位置)，砂粒穿过碰撞筛网8后，空间位置被改变，穿过筛网8后还来不及恢复呈“大头朝里，小头尖头朝外的状态”就附着于基材6上了，虽然此时砂粒7能够较均匀的分布于基材6上，但是制成产品的锋利性就受到了影响。因此，筛网距输送带的距离h1小于筛网距基材行走路径的距离h2是最佳选择。

筛网8的网孔目数为5目-600目。筛网8的任意一个网孔都至少能够穿过1粒砂粒。

如图3至图5所示，输送带1的输送面位于上极板3与下极板4之间。输送带1的输送面是用于输送砂粒的。优选的，所述下极板4贴近输送带1的输送面的背面。

如图3、图4所示，还包括下砂装置2，下砂装置2布置于输送带1上方，用于向输送带1供给砂粒7。能够使得砂粒7持续的传输至电力场内，确保静电植砂作业的持续性。下砂装置2包括用于储存砂粒7的下料斗21，下料斗的底部具有用于释放砂粒7的下砂辊22。

实施例三

实施例三的一种静电植砂设备，包括实施例二的静电植砂结构。

综上所述，采用本发明的一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上，生产的产品质量更佳。

本发明并不局限于前述的具体实施方式。本发明扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。

Claims (10)

1.一种提高植砂均匀性的静电植砂方法，使附着有粘接剂的基材(6)行走经过电力场，将砂粒(7)传输至电力场内，在电力场的作用下，砂粒(7)上升附着于基材(6)上，其特征在于：在电力场内，使砂粒(7)先上升穿过筛网(8)被均匀化后、再附着于基材(6)上。

2.如权利要求1所述的静电植砂方法，其特征在于：使筛网(8)处于行走状态，筛网(8)行走的经过电力场。

3.如权利要求2所述的静电植砂方法，其特征在于：从俯视方向看，筛网(8)的行走方向与基材(6)的行走方向是相交的。

4.如权利要求1所述的静电植砂方法，其特征在于：使筛网(8)处于张紧状态。

5.如权利要求1所述的静电植砂方法，其特征在于：使筛网(8)处于振动状态。

6.如权利要求1所述的静电植砂方法，其特征在于：筛网(8)的任意一个网孔都至少能够穿过1粒砂粒。

7.如权利要求1所述的筛网，其特征在于：筛网(8)的网孔目数为5目-600目。

8.如权利要求1所述的静电植砂方法，其特征在于：筛网(8)距砂粒(7)上升起点的距离小于筛网(8)距砂粒(7)上升终点的距离。

9.如权利要求1所述的静电植砂方法，其特征在于：筛网(8)覆盖整个砂粒(7)的上升路径。

10.如权利要求1所述的静电植砂方法，其特征在于：砂粒(7)的传输方向与基材(6)的行走方向相同或相反。

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