CN110622276B - 带电粒子源模块 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于产生和发射诸如电子束之类的带电粒子束的带电粒子源模块，包括：框架，其包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件；用于产生诸如电子束的带电粒子束的带电粒子源装置，其中诸如电子源的所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处；以及布置在所述第一框架部分处的电力连接组件，其中所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述连接组件。

Description

带电粒子源模块
技术领域
本发明涉及一种用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块。本发明还涉及一种具有所述带电粒子源模块的曝光系统、带电粒子源装置、用于制造半导体器件的方法以及用于检查目标的方法。
背景技术
带电粒子源被布置用于产生和发射带电粒子束，该带电粒子束可以朝着表面或目标而被引导。已知的带电粒子源包括源阴极和位于所述源阴极下游的多个电极。
从申请人的WO 2015/101538 A1中已知带电粒子源，其中在光刻曝光系统中应用了该源。带电粒子源包括阴极装置，该阴极装置包括：热电子阴极，该热电子阴极包括提供有用于发射电子的发射表面的发射部分和用于容纳材料的贮存器，其中材料在被加热时释放出功函数降低的粒子，其朝发射部分扩散，并以第一蒸发率在发射表面发出；聚焦电极，该聚焦电极包括用于聚焦从阴极的发射表面发射的电子的聚焦表面；以及热源，被配置用于加热储存在贮存器中的材料。
从Proc.Of SPIE Vol.8680,86800O-1至-12中可知另一种带电粒子源，见图6、图7和图8。
已知的带电粒子源除了在诸如带电粒子光刻系统之类的带电粒子曝光系统中使用之外，还被应用于带电粒子检查系统或显微镜中。至少在这些应用中，带电粒子源的各个部件必须相对于彼此被精确对准。另外，将带电粒子源的各个部件连接到对应的电源布置很麻烦，并且必须小心执行以免干扰带电粒子源的各个部件相对于彼此的对准。
本发明的一个目的是改善或消除现有技术的一个或多个缺点，或者至少提供一种替代的带电粒子源。
发明内容
根据第一方面，本发明提供了一种用于产生并发射带电粒子束的带电粒子源模块，包括：
-框架，其包括第一刚性框架部分、第二刚性框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间并与其刚性连接的一个或多个刚性支撑构件；
-用于产生带电粒子束的带电粒子源装置，其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处；和
-布置在所述第一框架部分处的电力连接组件，
其中，所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述电力连接组件。
根据本发明的第一方面，所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处并且经由电线电连接到所述电力连接组件，所述电力连接组件被布置在所述第一框架部分处。
由于所述电力连接组件被布置在所述第一框架部分处，因此例如在将外部电源连接到所述电力连接组件期间施加到所述电力连接组件的力将被引入到第一框架部分中。引入到第一框架部分中的力将经由刚性支撑构件从所述第一框架部分传递到所述第二框架部分，从而防止所述力作用在所述带电粒子源装置或其个体部件上。由此，提供了应变减轻布置。由于应变减轻布置，所述带电粒子源装置的个体部件相对于彼此的对准和相对位置得以维持。
带电粒子源装置可以被布置用于产生电子束。带电粒子源装置可以包括用于发射电子的发射器装置，从该发射器装置形成电子束。
另外，根据本发明的所述带电粒子源模块的使用可以提供一种鲁棒的布置，其减少或在理想情况下消除例如在所述源模块的运输期间、在将所述源模块安装到曝光系统中期间、以及在将外部电源连接到所述带电粒子源模块期间施用在所述带电粒子源装置上的一个或多个外力。
此外，电力连接组件提供适当的基本单个连接端子，带电粒子源模块可以在该端子处连接到所需的电源和控制导线，以用于控制所述带电粒子源装置的功能。
根据第二方面，本发明提供了一种用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块，包括：
-框架，其包括第一框架部分、第二框架部分和布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件；
-带电粒子源装置，用于产生带电粒子束，其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处；和
-布置在所述第一框架部分处的电力连接组件，
其中所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述电力连接组件，
其中所述电线包括具有服务环的一条或多条电线。
在本专利申请的上下文中，服务环必须被理解为电线的额外长度，优选地以弯曲或环的形式提供，其被包括为应变减轻措施。这种弯曲例如可以作为电线的一部分而被包括，该一部分在与一条或多条电线的方向基本垂直的方向上以弯曲延伸。在使用期间，电力流过所述一条或多条电线，从而增加了所述一条或多条电线的温度。所述一条或多条电线的温度升高导致所述一条或多条电线的热膨胀。所述一条或多条电线的热膨胀将被相应电线的服务环吸收。由此，防止了由于所述一条或多条电线的热膨胀而将力施加到所述带电粒子源装置。
另外，在施加到所述电力连接组件的力的一(小)部分经由所述电力连接组件朝着所述带电粒子源装置传递的情况下，所述力被所述电线的所述服务环吸收。从而防止了向所述带电粒子源装置施加力。
在一个实施例中，所述框架包括安装构件，所述安装构件通过挠曲连接件连接到所述第二框架部分，优选地，其中所述第二框架部分包括安装板，并且每个所述挠曲连接件包括被提供在所述安装板的外周处的连接唇，其中每个连接唇在所述安装板和所述连接唇之间限定狭缝。所述安装构件旨在将所述带电粒子源模块安装至曝光系统或安装至曝光系统的带电粒子光学装置。在操作中，所述带电粒子源装置产生并发射朝着所述第二框架部分引导的带电粒子束。可能发生的是，部分带电粒子束或一些带电粒子束直接或间接撞击在所述第二框架部分上，这导致所述第二框架部分的温度升高。由于温度升高，所述第二框架部分可能相对于所述带电粒子源模块的纵向中心轴在大致径向方向上变形。与所述连接唇以及所述狭缝的所述挠曲连接件使得第二框架部分能够相对于所述带电粒子源模块的纵向中心轴在大致径向方向上变形，而所述安装构件保持就位并且所述带电粒子源模块保持与曝光系统对准或与带电粒子光学装置对准，优选地保持在与所述带电粒子源模块的纵轴横向的方向上。
另外，通过挠曲连接件连接到所述第二框架部分的所述安装构件提供了将所述带电粒子源模块安装到非完美平坦表面的可能性。由于在挠曲连接件内的安装构件，建立了所述带电粒子源模块与例如带电粒子光学装置的适当邻接。
在一个实施例中，所述第一框架部分、所述第二框架部分和/或所述一个或多个刚性支撑构件由非铁材料制成。非铁材料具有非磁性质，必须将其理解为非磁性和不可磁化的。该实施例的优点在于，由带电粒子源装置产生的带电粒子束内的带电粒子不受框架或其部件的影响。
在一个实施例中，所述电力连接组件刚性地连接到所述第一框架部分，并且所述带电粒子源装置刚性地连接到所述第二框架部分。当所述电力连接组件刚性地连接到所述第一框架部分时，防止了所述第一框架部分和所述电力连接组件相对于彼此运动，例如当施加到电力连接组件的力被引入到所述第一框架部分中时围绕所述框架的纵向轴线的旋转和/或相对于所述框架的纵向轴线的倾斜。这种移动可能例如有害于所述带电粒子源装置或所述带电粒子源装置与所述电力连接组件之间的所述电线。出于基本上相同的原因，所述带电粒子源装置刚性地连接至所述第二框架部分。
在一个实施例中，所述电力连接组件包括布置在所述框架的所述第一框架部分处的非导电连接板，其中所述电力连接组件包括一个或多个连接器。通过使用与连接器结合的非导电连接板，所述电力连接组件使得能够将外部电源连接到所述电力连接组件，以向所述带电粒子源装置提供电能，同时防止所述电能被施加于所述框架。
在一个实施例中，所述一个或多个连接器在基本平行于所述框架的所述支撑构件的方向上延伸穿过所述非导电连接板。作为连接器基本平行于或平行于所述刚性支撑构件延伸的结果，由于所施加的力在基本上与其被施加的方向相同的方向上持续不断，因此在例如外部电源连接至所述连接器的过程中施加到所述连接器的力将容易被引向所述支撑构件并引入到所述支撑构件中。因此，减小了或者在理想情况下消除了将任何力施加到所述带电粒子源装置上的风险。
在一个实施例中，所述第一框架部分包括两个基本平行的板，其中所述电力连接组件被固定、优选地被夹持在所述两个板之间。所述电力连接组件在平行于所述支撑构件的方向上的移动将对所述带电粒子源装置或所述带电粒子源装置与所述电力连接组件之间的所述电线施加有害的力。这种有害的力使带电粒子源装置和/或其电线不利地变形。通过将电力连接组件夹持在两个板之间，当力被施用到所述电力连接组件上时，防止了电力连接组件沿着基本平行于所述支撑构件的方向移动或在基本垂直于所述支撑构件的方向上绕着延伸穿过所述电力连接组件的旋转轴线旋转。
在一个实施例中，所述带电粒子源装置包括被配置用于发射带电粒子的发射器装置以及用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束的电极，优选地，其中所述带电粒子源装置包括两个或更多电极，用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束，其中所述两个或更多电极中的最下游电极优选地被布置在所述框架的所述第二框架部分处，其中所述最下游电极和所述第二框架部分优选为形成为单个部分。通过使用所述最下游电极来整形由所述发射器装置产生和发射的带电粒子束并且将所述带电粒子源装置固定到所述框架的所述第二框架部分，可以将所述带电粒子源模块的各部分数量保持最小。
在一个实施例中，所述发射器装置和所述电极连接到基本平行于由所述发射器装置和所述电极限定的光轴取向的一个或多个非导电支撑件，其中所述一个或多个支撑件中的每一个与所述发射器装置的外周以及与所述电极的外周连接，并且其中所述一个或多个支撑件维持所述发射器装置和所述电极相对于彼此的取向和/或位置，优选地，其中所述发射器装置和所述电极中的至少一个通过挠曲连接件来与所述一个或多个支撑件连接。提供所述支撑件以用于维持所述电极和所述发射器装置相对于彼此的取向和/或位置。在工作期间，所述发射器装置产生并发射带电粒子束，该带电粒子束通过所述电极而被整形。来自所述发射器装置的所述带电粒子束的一部分或多个个体带电粒子可撞击在所述电极上，这导致所述电极的温度升高。所述电极的温度升高可导致变形，特别是所述电极的膨胀。因为所述电极连接到所述支撑件，所以当没有提供有挠曲连接件时，这种变形导致所述电极的弯曲和/或翘曲，从而使在所述电极和所述发射器装置之间形成的电场变形。所述挠曲连接件使得所述电极能够相对于所述带电粒子源装置的纵向中心轴线在基本径向方向上变形，同时所述支撑件维持其位置并且防止所述电极的翘曲和/或弯曲。此外，所述电极维持其(预期的)带电粒子的光学功能。
在一个实施例中，提供了多个所述电极。通过在每个电极处提供的挠曲连接件，可以维持相互的取向和/或位置。由此，维持了带电粒子光学功能，例如透镜功能。
在一个实施例中，所述发射器装置和所述电极中的至少一个刚性地连接至所述一个或多个支撑件，优选地，其中所述最下游电极刚性地连接至所述一个或多个支撑件。所述最下游电极被布置在所述第二框架部分处，并且在操作期间可以连接至曝光系统或其带电粒子光学装置。由带电粒子撞击在所述最下游电极上并被其吸收而引入的热能被引向所述第二框架部分和/或所述曝光系统或其带电粒子光学装置。可选地，所述带电粒子光学装置被主动冷却。因此，抵消了由于带电粒子撞击在所述最下游电极上而导致的所述最下游电极的温度的升高。
在一个实施例中，所述发射器装置和所述电极包括板状电极主体，其中所述挠曲连接件包括被提供在所述板状电极主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状电极主体之间限定狭缝。如前所解释，由于带电粒子撞击到所述电极上，所述电极的温度升高，这可导致所述电极相对于所述框架的纵向中心轴线径向向外热膨胀。所述电极的这种热膨胀通过与所述连接唇以及由所述连接唇限定的所述狭缝的挠曲连接件来实现。狭缝的内端可以提供有圆形内部形状或具有圆形形状的孔，其半径大于唇和由狭缝形成的电极之间的距离。在一些实施例中，狭缝还包括弯曲部。同样，该弯曲部可以包括圆形内部形状。圆形内部形状可以有助于在径向方向上发生的热膨胀。
在一个实施例中，当所述电力连接组件包括布置在所述框架的所述第一框架部分处的非导电连接板时，其中所述电力连接组件包括一个或多个连接器，所述电线外围地连接至所述电极并且连接至所述一个或多个连接器，并且其中电线在基本平行于所述框架的所述支撑构件的方向上延伸。因此，电线从电极的外围直接、特别是笔直地延伸到相应的连接器。由于连接器在非导电连接板处的位置基本上由下面电极的外围确定，因此可以将连接器彼此远离地放置。该实施例的优点在于，可以以彼此安全的距离来提供连接器，从而防止了所述连接器之间的相互电接触。
在一个实施例中，电线是柔性电线。在本专利申请的上下文中，术语“柔性”必须被理解为是能够弯曲的或被弯曲，但是仍然具有确定的刚性度。在将所述力施加到电力连接组件并且将所述力的一部分传递到所述柔性电线中的情况下，所述传递的力至少部分地由于其柔性而将被电线吸收。由于柔性电线吸收了所述力的至少一部分，所以防止了所述传递的力作用在所述带电粒子源装置的各个部件上。其结果是维持了所述带电粒子源装置的各个部件之间的对准和相对位置。
在一个实施例中，当所述第一框架部分是第一刚性框架部分、所述第二框架部分是第二刚性框架部分、并且所述一个或多个刚性支撑构件刚性地连接到所述第一框架部分和所述第二框架部分时，所述柔性电线包括具有服务环的一条或多条电线。
根据第三方面，本发明提供一种用于朝着表面或目标发射带电粒子束的曝光系统，包括：
-根据本发明的第一方面或根据本发明的第二方面的用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块；和
-带电粒子光学装置，其被配置为接收由带电粒子源模块产生和发射的带电粒子束，并将所述带电粒子束朝着所述表面或所述目标引导，
其中所述框架的所述第二框架部分被布置在所述带电粒子光学装置处。
由于所述电力连接组件被布置在所述第一框架部分处并且所述第二框架部分被布置在所述带电粒子光学装置处，因此例如在将外部电源连接到所述电力连接组件期间施加到所述电力连接组件的力将被引入到第一帧部分中。引入到第一框架部分中的力将经由刚性支撑构件和所述第二框架部分从所述第一框架部分传递到所述带电粒子光学装置，并被所述带电粒子光学装置吸收。从而防止了所述力作用在所述带电粒子源装置上，并因此提供了应变减轻布置。具有所述电力连接组件的所述框架在所述电力连接组件与所述第二框架部分之间、特别是在电力连接组件与所述曝光工具的所述带电粒子光学装置之间提供力路径。
在一个实施例中，所述带电粒子光学装置包括准直器，其中所述带电粒子源模块被布置在所述准直器处。
在曝光工具的操作期间，源自所述带电粒子源装置的带电粒子可能偏离所产生的带电粒子束，并撞击到所述带电粒子源装置或所述框架的一部分上。这种偏离的带电粒子的动能被所述带电粒子源装置或所述框架的所述部分吸收，其最终导致其温度升高。
通过将在其上布置有所述带电粒子源装置的所述第二框架部分布置在所述带电粒子光学装置处，由第二框架部分或所述带电粒子源装置的被布置在所述第二框架部分上的部分所吸收的热能将朝着所述带电粒子光学装置实施并进入到其中。由此防止了所述第二框架部分或所述带电粒子源装置的所述部分的温度升高或显著升高。可选地，可以主动冷却其上布置有所述带电粒子源模块的带电粒子光学装置或其一部分。
在一个实施例中，曝光系统选自包括光刻系统、检查系统或显微镜系统的组中。
根据第四方面，本发明提供了一种用于产生带电粒子束的带电粒子源装置，包括：
-被配置用于发射带电粒子的发射器装置；
-电极，用于从由所述发射器发射的所述带电粒子形成带电粒子束；和
-基本平行于由所述发射器装置和所述电极限定的光轴取向的一个或多个非导电支撑件，其中所述一个或多个支撑件中的每一个与所述发射器装置的外周和所述电极的外周连接，并且其中所述一个或多个支撑件维持所述发射器装置和所述电极相对于彼此的取向和/或位置，
其中所述电极通过挠曲连接件来与所述一个或多个支撑件连接，
其中所述电极和/或所述发射器装置包括用于连接电线的一个或多个电线连接件，
其中，所述一个或多个电线连接件中的至少一个被布置在所述挠曲连接件上。
所述支撑件被布置为将所述发射器装置和所述电极维持在所述支撑件之间，以便维持所述电极和所述发射器装置相对于彼此的取向和/或位置。在操作期间，所述发射器装置产生并发射诸如电子之类的带电粒子，所述带电粒子由所述电极形成为带电粒子束。来自所述发射器装置的所述带电粒子束的一部分或带电粒子可撞击到所述电极上，这导致所述电极的温度升高。所述电极的温度升高可导致变形，特别是所述电极的膨胀。由于所述电极位于所述支撑件之间，因此在没有所述挠曲连接件的情况下，这种变形将导致所述电极的弯曲和/或翘曲，从而改变所述电极相对于所述发射器装置的取向和/或位置。改变了的取向和/或位置使在所述发射器装置和所述电极之间形成的电场变形。所述挠曲连接件使得所述电极能够相对于所述带电粒子源装置的纵向中心轴线在基本径向方向上变形，同时防止所述电极在与所述带电粒子源装置的纵向方向平行的方向上翘曲和/或弯曲。
此外，在实践中，用于将带电粒子源装置连接到外部电源的电线在与例如所述电极的主平面横向的方向上延伸。如果所述电线由于温度升高而膨胀，则(一个或多个)膨胀力作用在电极上，这可导致干扰电极相对于所述发射器装置的对准。通过将所述电线连接到所述挠曲连接件，挠曲连接件将吸收膨胀力并将这些力引到所述支撑件中。
要注意的是，所述带电粒子源装置可以被布置用于产生电子束，其中，所述发射器装置适合于发射电子，从该电子形成电子束。
在一个实施例中，所述一个或多个电线连接件位于所述挠曲连接件的一部分处，其中所述挠曲连接件相对于所述支撑件的位置和/或取向基本上是固定的。在另一个实施例中，所述一个或多个电线连接件中的所述至少一个被布置在所述至少一个挠曲连接件的所述连接唇的远端上，该远端是连接唇的自由端。将所述电线连接件布置在所述支撑件附近/布置在所述支撑件处有助于维持所述电极的对准。此外，通过将所述电线连接件布置在所述远端处，可以进一步减小或者在理想情况下防止作用在所述电极上的由所述电线的膨胀引起的任何膨胀力的风险。
在一个实施例中，所述电极包括具有束孔径的板状电极主体，该束孔径相对于所述光轴居中。在另一个实施例中，所述挠曲连接件包括被提供在所述板状电极主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状电极主体之间限定狭缝。如果所述电极未提供有一个或多个挠曲连接件，则由于带电粒子撞击到所述电极上，所述电极的温度升高会导致所述电极相对于所述带电粒子源装置的纵向中心轴线径向向外热膨胀。所述电极的这种热膨胀是通过与所述连接唇和由所述连接唇限定的所述狭缝的所述一个或多个挠曲连接件而实现的，同时支撑件保持就位并且防止了所述电极翘曲和/或弯曲。由此，维持所述电极的(预期)取向和/或位置及其带电粒子光学功能。狭缝的内端可以提供有圆形内部形状或具有圆形形状的孔，其半径大于唇和由狭缝形成的电极之间的距离。在一些实施例中，狭缝还包括弯曲部。同样，该弯曲部可以包括圆形内部形状。圆形内部形状可以有助于在径向方向上发生的热膨胀。
在一个实施例中，提供了多个所述电极。通过在每个电极处提供的挠曲连接件，可以维持相互的取向和/或位置。由此，维持了带电粒子光学功能，例如透镜功能。
在一个实施例中，所述带电粒子源装置包括两个或更多电极，用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束，其中所述两个或多个电极中的至少一个刚性地连接至所述一个或多个支撑件，优选地所述两个或更多电极中的最下游电极刚性地连接到所述一个或多个支撑件。在所述带电粒子源装置的使用期间，所述最下游电极很可能被布置在曝光系统的带电粒子光学装置上。由于所述布置，由所述最下游电极吸收的热能被朝着所述带电粒子光学装置实施并进入到其中，从而最小化或防止了所述最下游电极的任何温度升高。
在一个实施例中，所述发射器装置包括用于发射所述带电粒子的阴极，其中，所述阴极被接纳在阴极承载元件内，所述阴极承载元件通过挠曲连接件连接至所述一个或多个支撑件。在另一个实施例中，所述阴极承载元件包括板状承载主体，该板状承载主体具有用于接纳所述阴极的至少一部分的阴极孔径，优选地，其中所述挠曲连接件包括被提供在所述板状承载主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状承载主体之间限定狭缝。在所述带电粒子源装置的操作期间，所述带电粒子源装置和/或所述阴极承载元件的温度可能升高，这可导致所述板状承载元件在径向方向上的变形，尤其是膨胀。所述挠曲连接件防止了所述阴极承载元件在所述带电粒子源装置的纵向方向上弯曲和/或翘曲，如以上关于所述电极所解释的那样。
在一个实施例中，所述带电粒子源装置包括：框架，其包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件；以及电力连接组件，其被布置在所述第一框架部分处，其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处并经由电线电连接至所述连接组件。在将外部电源连接到所述电力连接组件期间，将力施用到所述电力连接组件上。由于所述电力连接组件布置在所述第一框架部分上，该力被引入到所述第一框架部分中。引入到第一框架部分中的力将经由刚性支撑构件从所述第一框架部分传递到所述第二框架部分，从而防止所述力作用在所述带电粒子源装置上并提供应变减轻布置。
根据第五方面，本发明提供了根据本发明的第一或第二方面的带电粒子源模块，其中所述带电粒子源装置是根据本发明的第四方面的带电粒子源装置。
根据第六方面，本发明提供了一种通过根据本发明的第一或第二方面的带电粒子源模块或者通过根据本发明的第四方面的带电粒子源装置制造半导体器件的方法，该方法包括以下步骤：
-将晶片放置在所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置的下游；
-处理所述晶片，包括通过由所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置产生和发射的带电粒子束来在所述晶片上投影图像或图案；和
-执行后续步骤，以便通过所述处理过的晶片来产生半导体器件
由所述处理过的晶片制造半导体器件的后续步骤在制造半导体器件的技术领域中是已知的。例如，在申请人的美国专利申请序号US 2014/0176920A1中描述了许多所述后续步骤。
根据第七方面，本发明提供了一种用于通过根据本发明的第一方面或第二方面的带电粒子源模块或者通过根据本发明的第四方面的带电粒子源装置来检查目标的方法，方法包括以下步骤：
-将所述目标置于所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置的下游；
-将由所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置产生和发射的带电粒子束朝着所述目标引导；
-响应于朝着所述目标引导的所述带电粒子束，检测由所述目标透射、发射和/或反射的带电粒子；和
-执行后续步骤，以便通过检测带电粒子的步骤中的数据来检查所述目标。
可以尽可能地个体地应用说明书中所描述和示出的各个方面和特征。这些个体的方面——特别是在所附从属权利要求中描述的各方面和特征可以成为分案专利申请的主题。
附图说明
将基于附图中所示的示例性实施例来阐明本发明，其中：
图1示意性地示出了具有带电粒子源模块的曝光设备的示例。
图2A示出了具有发射器装置和电极的带电粒子源装置的等距视图；
图2B是电极的等距视图；
图3A示出了带电粒子源模块的等距视图；和
图3B示出了图3A的所述带电粒子源模块沿着线IIIB的横截面。
具体实施方式
图1示意性地示出了具有带电粒子源模块102的曝光系统100的示例。曝光设备100包括壳体101，在壳体101中放置带电粒子源模块102，其具有第一刚性框架部分103、第二刚性框架部分104和布置在第一框架部分103和第二框架部分104之间并与之刚性连接的刚性杆105。带电粒子模块102包括在第一框架部分103上的电力连接组件，以及布置在第二框架部分104处并经由柔性电线107电连接到电力连接组件的带电粒子源装置106。带电粒子源装置模块102被布置在带电粒子光学装置108(诸如磁准直器或静电准直器处)。带电粒子光学装置108适合于将从带电粒子源模块接收的带电粒子束沿着光轴OA朝着目标109引导。带电粒子源模块102、带电粒子光学装置108和目标109被放置在曝光系统100的真空部分110内。曝光系统100可以是光刻系统、检查系统或显微镜系统之一。在图1中示意性地示出了曝光系统100，并且在相关技术领域内已知每个已知提到的系统的构造细节。
例如，当所述曝光系统100是光刻系统时，所述光刻系统可以进一步包括：用于准直来自带电粒子源模块102的所述带电粒子束的准直器，用于产生个体子束的孔径阵列，以及具有多个偏转器的偏转器阵列(束消隐器阵列)等，每个偏转器都被布置用于偏转一个个体子束。此外，所述曝光系统100可以包括：具有孔径阵列的束阑阵列，针对每个个体子束有一个孔径；以及具有用于将带电粒子子束聚焦到目标109上的透镜阵列的透镜阵列。所述光刻系统的各部分的布置在相关技术领域内是已知的。例如在申请人的国际专利申请WO2009/127659 A2中示出了光刻系统的示例。
例如，当所述曝光系统100是电子显微镜系统时，该显微镜系统可以进一步包括光学系统，该光学系统被布置为将来自所述带电粒子源模块102的电子束朝着若干电子透镜引导，电子透镜被布置为将电子束聚焦到目标109的表面上。所述曝光系统100可以提供有一个或多个偏转器，用于在目标109的表面上扫描电子束。所述曝光系统100可以提供有传感器，该传感器可以检测来自目标109散射电子、二次电子和/或产生的光。
图2A示出了带电粒子源装置1的示例，其可以对应于图1的带电粒子源装置106。带电粒子源装置1包括发射器装置2，该发射器装置2被提供用于在朝着表面或目标(诸如晶片)的发射方向上发射带电粒子。带电粒子源装置1包括在所述发射器装置2下游的也被称为整形电极的多个电极10-14，该电极11-14被配置用于提取由所述发射器装置2发射的所述带电粒子并将带电粒子形成为带电粒子束。发射器装置2和电极11-14连接到例如玻璃棒4的支撑件并被保持在支撑件之间，该玻璃棒4被配置用于将发射器装置2和电极11-14相对于彼此维持在彼此期望的位置和取向上。每个支撑件连接到发射器装置2和电极11-14中的每一个。发射器装置2和电极11-14可以经由具有服务环6(service loop)的电线5而被连接到未示出的外部电源。这些服务环可以被提供为U形弯头，基本上垂直于电线的延伸方向延伸，如图2A中所图示。在图2A中，未示出所有电线。然而，应理解，每个电极与至少一条电线连接。
可替代地，服务环可以被提供为完整环，其由电线旋转完整的360°来形成。注意，与形成为完整环的服务环相比，形成为U形弯头的服务环变形所需的能量更少。
如图2A中所图示，发射器装置2包括发射器主体15。第一细丝连接件16和第二细丝连接件17连接到发射器本体15，其中第一和第二细丝连接件16和17二者都连接到电线5以便将发射器装置2连接到外部电源。如图2A中所图示，发射器装置2包括附接到板状承载主体10的承载元件18，该板状承载主体10包括允许从发射器装置2发射的至少带电粒子束(诸如电子束)通过的发射器孔径。板状承载主体10提供有用于将板状承载主体10连接到未示出的外部电源的电线21。因此，板状承载主体10也可以被认为是电极。
发射器装置2可以包括用于发射带电粒子束的单个阴极，例如由细丝加热的热电子阴极，或由另一个阴极加热的热电子阴极的串联布置。对于具有串联布置的发射器装置2的构造和工作的详细描述，参考本申请人的国际专利申请WO 2015/101538A1，其通过引用整体并入本文。注意，其他种类的发射器装置也是可能的。
如图2A和图2B中所示，电极11-14和板状承载主体10中的每一个包括板状电极主体60，由此每个板状电极主体60包括允许带电粒子束B通过的束孔径61。每个电极11-14的每个后续束孔径61的直径随着每个后续束孔径61在平行于带电粒子源装置1的纵向L的下游方向(也被称为光轴)上增加，因此，可以通过带电粒子源装置1产生和发射发散的带电粒子束。
位于最下游电极14的上游和发射器装置2的下游的电极11-13包括一个或两个电连接元件62，用于将每个电极11-13电连接至未示出的外部电源。图2B仅示出了一个电极11，其余的电极12-13在电连接元件62的位置上与所示出的电极10不同。每个电极11-13的一个或两个连接元件62被配置成使得两条电线分别连接到电极11-13的每一个。
如图2B中所图示，在电极主体60的周界处提供挠曲连接件65，该挠曲连接件65被提供以用于将电极11-13和承载主体10连接到玻璃棒4。每个挠曲连接件65包括提供在电极主体60的外周处的连接唇66，该连接唇在其径向上有点突出并在其周界方向上延伸。连接唇66均匀地分布在电极主体60的外周上。每个连接唇66具有第一唇部67和第二唇部68，其中第一唇部67在一端连接至电极主体60并在另一端连接到第二唇部68。每个连接唇66在连接唇66和电极主体60的外周之间限定了一个狭缝69。从图2B中可以看出，狭缝69的内端69a具有圆形内部形状。在狭缝69包括弯曲部69b的情况下，如在所图示的实施例中，该弯曲部也包括圆形内部形状。圆形内部形状可以有助于吸收在径向方向上发生的热膨胀。每个连接唇66的第二唇部68包括连接元件70，连接元件70被占据在玻璃棒4之一中以将挠曲连接件65刚性连接到玻璃棒4，从而使得电极11-13和承载主体10能够由于温度的增加而在径向上膨胀，同时热膨胀被狭缝69吸收。在所示实施例中，最下游电极14没有这种挠曲连接件65。如图2A中所示，电连接元件62可以被提供在电极11-13中的一个或多个电极的挠曲连接件65之一上。
最下游电极14还包括与电极11-13的连接元件70类似的未示出的连接元件。所述连接元件从最下游电极14的电极主体60径向向外延伸，以将最下游电极14刚性连接至玻璃棒4。如图2A中所示，最下游电极14的电极主体60包括径向向外延伸的板状连接突起63，在其中设置有开口64。板状连接突起63可以被用于通过形封闭将带电粒子源装置1连接到和/或对准未示出的曝光系统或其带电粒子光学装置。
如图2A中所示，玻璃棒4在平行于纵向的方向上延伸超过最下游电极14，使得玻璃棒4的下端可以有助于使带电粒子源装置1相对于曝光系统或其带电粒子光学装置对准，可以在带电粒子光学装置上布置带电粒子源装置1。
图3A示出了带电粒子源模块200的示例，其可以对应于图1的带电粒子源模块102。带电粒子源模块200包括框架，该框架具有第一框架部分201、第二框架部分202和刚性杆203形式的刚性支撑构件，刚性支撑构件被布置在第一框架部分201和第二框架部分202之间。所述框架的不同部分可以由非磁性材料或非铁材料制成，诸如包括钛的材料。带电粒子源模块200还包括具有电线206的带电粒子源装置204，电线206被布置在第二框架部分202处。为了描述带电粒子源模块200，规定带电粒子源装置204对应于如上所述的带电粒子源装置1。带电粒子源模块200还包括电力连接组件207，其中，带电粒子源装置204经由电线206电连接至电力连接组件207。
如图3A和图3B中所图示，电力连接组件207包括布置在第一框架部分201上的非导电的圆形支撑板208。支撑板208可以由例如
Figure GDA0002269370610000181
的可加工玻璃陶瓷制造。支撑板208具有固定凹部209，该固定凹部209被提供在支撑板208的上表面和下表面中并且旨在用于将支撑板208布置在第一框架部分201上。固定凹部209被提供在支撑板208的外周处并沿其周向均匀分布。电力连接组件207还包括用于将电线206电连接至未示出的外部电源的电连接器210，该电连接器210在基本平行于刚性杆203的方向上延伸穿过支撑板208。如图3B中最佳所示，电连接器210被接纳在支撑板208的连接器开口211内，从而在每个连接器开口211的内边缘与接纳在相应的连接器开口211内的电连接器210之间提供密封件，尤其是玻璃密封件212。
如图3B中示意性示出的，当将力F1施用到电力连接组件207的一个或多个电连接器210上，从而将力施用到平面V上时，力F2通过第一框架部分201被施加到刚性杆203。如力路径F3示意性指示的，将所述力F1、F2引向刚性杆203并进入到刚性杆203中。经由刚性杆203，力被引向第二框架部分202并进入到第二框架部分202中，力可以经由该第二框架部分202而被传递到例如曝光系统或其带电粒子光学装置，在曝光系统上可以布置带电粒子源模块200。
由此实现了应力减轻布置。
如图3A和图3B中所示，第一框架部分201包括两个基本平行的环形板220、221，环形板220、221例如由非铁材料制成，诸如包括钛的材料。在内周上，每个环形板220、221具有径向向内延伸的固定突起223，该固定突起223均匀地分布在环形板220、221的内周上。固定突起223被提供用于将支撑板208夹紧在其间。在夹紧的配置中，下环形板220的固定突起223被接纳在支撑板208的下表面处的固定凹部209内，并且上环形板220的固定突起223被接纳在支撑板208的上表面处的固定凹部209内。
环形板220、221包括附接孔径，该附接孔径适合于接纳附接螺钉或螺栓227和/或提供在刚性杆203的上端处的再生部(rejuvenation)，使得环形板220、221彼此连接。如图3B中所图示的，在上环形板220和下环形板221之间提供间隔件229，该间隔件229适合于接纳附接螺钉或螺栓227和/或提供在刚性杆203的上端处的再生部。间隔件229的厚度略小于支撑板208的厚度。
如图3A中所图示，第二框架部分202包括环形安装板240，其例如由非铁材料制成，诸如包括钛的材料。在内周上，环形安装板240包括径向向内延伸的板状连接突起242。板状连接突起242提供有孔径243，孔径243可以被配置用于接纳例如销或其他固定装置。如图3B中所图示，电极14的板状连接突起63的上侧连接到第二框架部分202的板状连接突起242的下侧，从而将电极14布置在第二框架部分202与曝光工具或其带电粒子光学装置之间。带电粒子源装置204的纵轴优选地与框架的纵轴重合。因此，在将带电粒子源模块200布置到曝光系统或其带电粒子光学装置时，执行将所述带电粒子源装置204定位在基本垂直于其纵轴的平面上。
注意，在另一个实施例中，所述最下游电极14和所述环形安装板240可以形成为单个部分。
环形安装板240包括安装构件，该安装构件包括固定孔径245，该固定孔径245被配置用于接纳用于将带电粒子源模块200固定至曝光系统或其带电粒子光学系统的固定螺钉或螺栓246。每个固定孔径245被布置在挠曲连接件的连接唇244内。每个连接唇244被提供在环形安装板240的外周附近并且在其周界方向上延伸。连接唇244在环形安装板240的外周上均匀分布。每个连接唇244在连接唇244和环形安装板240的其余部分之间限定了狭缝247。由此，在将带电粒子源模块200布置到曝光系统或其带电粒子光学装置时避免带电粒子源模块200的倾斜。
应当注意，第一框架部分201中的附接孔径224与固定孔径245和被接纳在其中的固定螺栓或螺钉246被提供成一直线，使得固定螺栓或螺钉246可经由附接孔径224被工具访问。
注意，刚性杆203例如通过焊接刚性连接到第二框架部分202，特别是第二框架部分的环形安装板240。
应当理解，上面的描述被包括以说明优选实施例的操作，并且不意味着限制本发明的范围。从以上讨论中，许多变化对本领域技术人员将是显而易见的，但仍将被本发明的范围所涵盖。
以下提供本公开的一些示例性实施例。
1.一种用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块，包括：
-框架，所述框架包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件；
-用于产生带电粒子束的带电粒子源装置，其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处；和
-布置在所述第一框架部分处的电力连接组件，
其中所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述电力连接组件。
2.根据短句1所述的带电粒子源模块，其中所述第一框架部分包括第一刚性框架部分，所述第二框架部分包括第二刚性框架部分，并且所述一个或多个刚性支撑构件被刚性连接到所述第一刚性框架部分和所述第二刚性框架部分。
3.根据短句1或2所述的带电粒子源模块，其中所述框架包括安装构件，所述安装构件通过挠曲连接件而连接到所述第二框架部分，优选地，其中所述第二框架部分包括安装板，并且每个所述挠曲连接件包括：设置在所述安装板的外周处的连接唇，其中每个连接唇在所述安装板和所述连接唇之间限定狭缝。
4.根据前述短句中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述第一框架部分、所述第二框架部分和/或所述一个或多个刚性支撑构件由非铁材料制成。
5.根据前述短句中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述电力连接组件刚性地连接到所述第一框架部分，并且所述带电粒子源装置刚性地连接到所述第二框架部分。
6.根据前述短句中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述电力连接组件包括布置在所述框架的所述第一框架部分处的非导电连接板，其中所述电力连接组件包括一个或多个连接器。
7.根据短句6所述的带电粒子源模块，其中所述一个或多个连接器在基本平行于所述框架的所述支撑构件的方向上延伸通过所述非导电连接板。
8.根据短句6或7所述的带电粒子源模块，其中所述第一框架部分包括两个基本平行的板，其中所述电力连接组件被固定在所述两个板之间，优选地被夹持在所述两个板之间。
9.根据前述短句中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述带电粒子源装置包括：发射器装置，所述发射器装置被配置用于发射带电粒子；以及电极，所述电极用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束，优选地，其中所述带电粒子源装置包括两个或更多电极，用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束，其中所述两个或更多电极中的最下游电极优选地被布置在所述框架的所述第二框架部分处，其中所述最下游电极和所述第二框架部分优选地形成为单个部分。
10.根据短句9所述的带电粒子源模块，其中所述发射器装置和所述电极连接到基本平行于由所述发射器装置和所述电极限定的光轴取向的一个或多个非导电支撑件，其中所述一个或多个支撑件中的每一个与所述发射器装置的外周以及与所述电极的外周连接，并且其中所述一个或多个支撑件维持所述发射器装置与所述电极相对于彼此的取向和/或位置，优选地，其中所述发射器装置和所述电极中的至少一个通过挠曲连接件来与所述一个或多个支撑件连接。
11.根据短句10所述的带电粒子源模块，其中所述发射器装置和所述电极中的至少一个刚性地连接到所述一个或多个支撑件，优选地，其中所述最下游电极刚性地连接到所述一个或多个支撑件。
12.根据短句10或11所述的带电粒子源模块，其中所述发射器装置和所述电极包括板状电极主体，其中所述挠曲连接件包括设置在所述板状电极主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状电极主体之间限定狭缝。
13.根据从属于短句6时的短句9至13中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述电线连接至所述电极的外周并且连接至所述一个或多个连接器，并且其中所述电线在基本平行于所述框架的所述支撑构件的方向上延伸。
14.根据前述短句中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述电线是柔性电线。
15.根据前述短句中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述电线包括具有服务环的一条或多条电线。
16.一种用于朝着表面或目标发射带电粒子束的曝光系统，包括：
-根据前述短句中任一项所述的用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块；和
-带电粒子光学装置，所述带电粒子光学装置被配置为接收由该带电粒子源模块产生和发射的带电粒子束，并将所述带电粒子束朝着所述表面或所述目标引导，
其中所述框架的所述第二框架部分被布置在所述带电粒子光学装置处。
17.根据短句16所述的曝光系统，其中所述带电粒子光学装置包括准直器，其中所述带电粒子源模块被布置在所述准直器处。
18.根据短句16或17所述的曝光系统，其中所述曝光系统选自包括光刻系统、检查系统或显微镜系统的组中。
19.一种用于产生带电粒子束的带电粒子源装置，包括：
-发射器装置，所述发射器装置被配置用于发射带电粒子；
-电极，所述电极用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束；和
-基本平行于由所述发射器装置和所述电极限定的光轴取向的一个或多个非导电支撑件，其中所述一个或多个支撑件中的每一个与所述发射器装置的外周以及与所述电极的外周连接，并且其中所述一个或多个支撑件维持所述发射器装置和所述电极相对于彼此的取向和/或位置，
其中所述电极通过挠曲连接件来与所述一个或多个支撑件连接。
20.根据短句19所述的带电粒子源装置，
其中所述电极和/或所述发射器装置包括用于连接电线的一个或多个电线连接件，其中所述一个或多个电线连接件中的至少一个被布置在所述挠曲连接件上。
21.根据短句20所述的带电粒子源装置，其中所述一个或多个电线连接件位于所述挠曲连接件的一部分处，在所述挠曲连接件的所述一部分处所述挠曲连接件相对于所述支撑件的位置和/或取向基本固定。
22.根据短句20或21所述的带电粒子源装置，其中所述一个或多个电线连接件中的所述至少一个被布置在所述挠曲连接件的所述连接唇的远端上。
23.根据短句19至22中任一项所述的带电粒子源装置，其中所述电极包括具有束孔径的板状电极主体，所述束孔径相对于所述光轴居中。
24.根据短句23所述的带电粒子源装置，其中所述挠曲连接件包括设置在所述板状电极主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状电极主体之间限定狭缝。
25.根据前述短句19至24中任一项所述的带电粒子源装置，其中所述带电粒子源装置包括两个或更多电极，用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束，其中所述两个或更多电极中的至少一个刚性地连接到所述一个或多个支撑件，优选地，其中所述两个或更多电极中的最下游电极刚性地连接到所述一个或多个支撑件。
26.根据短句19至25中任一项所述的带电粒子源装置，其中所述发射器装置包括用于发射所述带电粒子的阴极，其中所述阴极被接纳在阴极承载元件内，所述阴极承载元件通过挠曲连接件而连接至所述一个或多个支撑件。
27.根据短句26所述的带电粒子源装置，其中所述阴极承载元件包括具有阴极孔径的板状承载主体，所述阴极孔径用于接纳所述阴极的至少一部分，优选地，其中所述挠曲连接件包括设置在所述板状承载主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状承载主体之间限定狭缝。
28.根据前述短句19-27中任一项所述的带电粒子源装置，还包括框架，所述框架包括第一框架部分、第二框架部分和布置在所述第一框架部分和所述第一框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件、以及布置在所述第一框架部分上的电力连接组件，其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分上，并经由电线电连接至所述电力连接组件。
29.根据短句1至15中任一项所述的带电粒子源模块，其中所述带电粒子源装置是根据短句19-28中任一项所述的带电粒子源装置。
30.一种通过根据短句1-15中任一项所述的带电粒子源模块或根据短句19-28中任一项所述的带电粒子源装置制造半导体器件的方法，所述方法包括以下步骤：
-将晶片放置在所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置的下游；
-处理所述晶片，包括通过由所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置产生和发射的带电粒子束来在所述晶片上投影图像或图案；和
-执行后续步骤，以便通过经处理过的晶片来产生半导体器件。
31.一种用于通过根据短句1-15中任一项所述的带电粒子源模块或根据短句19-28中任一项所述的带电粒子源装置检查目标的方法，所述方法包括以下步骤：
-将所述目标置于所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置的下游；
-将由所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置产生和发射的带电粒子束朝着所述目标引导；
-响应于朝着所述目标引导的所述带电粒子束，检测由所述目标透射、发射和/或反射的带电粒子；和
-执行后续步骤，以便通过来自检测带电粒子的步骤中的数据来检查所述目标。

Claims (36)

1.一种用于产生带电粒子束的带电粒子源装置，包括：
-发射器装置，所述发射器装置被配置用于发射带电粒子；
-电极，所述电极用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束；和
-平行于由所述发射器装置和所述电极限定的光轴取向的一个或多个非导电支撑件，其中所述一个或多个支撑件中的每一个与所述发射器装置的外周以及与所述电极的外周连接，并且其中所述一个或多个支撑件维持所述发射器装置和所述电极相对于彼此的取向和/或位置，
其中所述电极通过挠曲连接件来与所述一个或多个支撑件连接，
其中所述电极和/或所述发射器装置包括用于连接电线的一个或多个电线连接件，其中所述一个或多个电线连接件中的至少一个被布置在所述挠曲连接件上。
2.根据权利要求1所述的带电粒子源装置，其中所述一个或多个电线连接件位于所述挠曲连接件的一部分处，在所述挠曲连接件的所述一部分处所述挠曲连接件相对于所述支撑件的位置和/或取向固定。
3.根据权利要求1或2所述的带电粒子源装置，其中所述电极包括具有束孔径的板状电极主体，所述束孔径相对于所述光轴居中。
4.根据权利要求3所述的带电粒子源装置，其中所述挠曲连接件包括设置在所述板状电极主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状电极主体之间限定狭缝。
5.根据权利要求4所述的带电粒子源装置，其中所述一个或多个电线连接件中的所述至少一个被布置在所述挠曲连接件的所述连接唇的远端上。
6.根据权利要求1或2所述的带电粒子源装置，其中所述带电粒子源装置包括两个或更多电极，用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束，其中所述两个或更多电极中的至少一个刚性地连接到所述一个或多个支撑件。
7.根据权利要求6所述的带电粒子源装置，其中所述两个或更多电极中的最下游电极刚性地连接到所述一个或多个支撑件。
8.根据权利要求1或2所述的带电粒子源装置，其中所述发射器装置包括用于发射所述带电粒子的阴极，其中所述阴极被接纳在阴极承载元件内，所述阴极承载元件通过挠曲连接件而连接至所述一个或多个支撑件。
9.根据权利要求8所述的带电粒子源装置，其中所述阴极承载元件包括具有阴极孔径的板状承载主体，所述阴极孔径用于接纳所述阴极的至少一部分。
10.根据权利要求9所述的带电粒子源装置，其中所述挠曲连接件包括设置在所述板状承载主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状承载主体之间限定狭缝。
11.根据权利要求1或2所述的带电粒子源装置，还包括框架，所述框架包括第一框架部分、第二框架部分和布置在所述第一框架部分和所述第一框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件、以及布置在所述第一框架部分上的电力连接组件，其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分上，并经由电线电连接至所述电力连接组件。
12.一种用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块，包括：
-框架，所述框架包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件；
-根据权利要求1-11中任一项所述的带电粒子源装置，其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处；和
-布置在所述第一框架部分处的电力连接组件，
其中所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述电力连接组件。
13.根据权利要求12所述的带电粒子源模块，其中所述第一框架部分包括第一刚性框架部分，所述第二框架部分包括第二刚性框架部分，并且所述一个或多个刚性支撑构件被刚性连接到所述第一刚性框架部分和所述第二刚性框架部分。
14.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述框架包括安装构件，所述安装构件通过挠曲连接件而连接到所述第二框架部分。
15.根据权利要求14所述的带电粒子源模块，其中所述第二框架部分包括安装板，并且每个所述挠曲连接件包括：设置在所述安装板的外周处的连接唇，其中每个连接唇在所述安装板和所述连接唇之间限定狭缝。
16.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述第一框架部分、所述第二框架部分和/或所述一个或多个刚性支撑构件由非铁材料制成。
17.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述电力连接组件刚性地连接到所述第一框架部分，并且所述带电粒子源装置刚性地连接到所述第二框架部分。
18.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述电力连接组件包括布置在所述框架的所述第一框架部分处的非导电连接板，其中所述电力连接组件包括一个或多个连接器。
19.根据权利要求18所述的带电粒子源模块，其中所述一个或多个连接器在平行于所述框架的所述支撑构件的方向上延伸通过所述非导电连接板。
20.根据权利要求18所述的带电粒子源模块，其中所述第一框架部分包括两个平行的板，其中所述电力连接组件被固定在所述两个板之间。
21.根据权利要求20所述的带电粒子源模块，其中所述电力连接组件被夹持在所述两个板之间。
22.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述带电粒子源装置包括两个或更多电极，用于从由所述发射器装置发射的所述带电粒子形成带电粒子束。
23.根据权利要求22所述的带电粒子源模块，其中所述两个或更多电极中的最下游电极被布置在所述框架的所述第二框架部分处。
24.根据权利要求22所述的带电粒子源模块，其中所述两个或更多电极中的最下游电极和所述第二框架部分形成为单个部分。
25.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述发射器装置通过挠曲连接件来与所述一个或多个支撑件连接。
26.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述发射器装置和所述电极中的至少一个刚性地连接到所述一个或多个支撑件。
27.根据权利要求22所述的带电粒子源模块，其中所述两个或更多电极中的最下游电极刚性地连接到所述一个或多个支撑件。
28.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述发射器装置和所述电极包括板状电极主体，其中所述挠曲连接件包括设置在所述板状电极主体的外周处的连接唇，其中所述连接唇在所述连接唇与所述板状电极主体之间限定狭缝。
29.根据权利要求18所述的带电粒子源模块，其中所述电线连接至所述电极的外周并且连接至所述一个或多个连接器，并且其中所述电线在平行于所述框架的所述支撑构件的方向上延伸。
30.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述电线是柔性电线。
31.根据权利要求12或13所述的带电粒子源模块，其中所述电线包括具有服务环的一条或多条电线。
32.一种用于朝着表面或目标发射带电粒子束的曝光系统，包括：
-根据权利要求12-31中任一项所述的用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块；和
-带电粒子光学装置，所述带电粒子光学装置被配置为接收由该带电粒子源模块产生和发射的带电粒子束，并将所述带电粒子束朝着所述表面或所述目标引导，
其中所述框架的所述第二框架部分被布置在所述带电粒子光学装置处。
33.根据权利要求32所述的曝光系统，其中所述带电粒子光学装置包括准直器，其中所述带电粒子源模块被布置在所述准直器处。
34.根据权利要求32或33所述的曝光系统，其中所述曝光系统选自包括光刻系统、检查系统或显微镜系统的组中。
35.一种通过根据权利要求12-31中任一项所述的带电粒子源模块或根据权利要求1-11中任一项所述的带电粒子源装置制造半导体器件的方法，所述方法包括以下步骤：
-将晶片放置在所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置的下游；
-处理所述晶片，包括通过由所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置产生和发射的带电粒子束来在所述晶片上投影图像或图案；和
-执行后续步骤，以便通过经处理过的晶片来产生半导体器件。
36.一种用于通过根据权利要求12-31中任一项所述的带电粒子源模块或根据权利要求1-11中任一项所述的带电粒子源装置检查目标的方法，所述方法包括以下步骤：
-将所述目标置于所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置的下游；
-将由所述带电粒子源模块或所述带电粒子源装置产生和发射的带电粒子束朝着所述目标引导；
-响应于朝着所述目标引导的所述带电粒子束，检测由所述目标透射、发射和/或反射的带电粒子；和
-执行后续步骤，以便通过来自检测带电粒子的步骤中的数据来检查所述目标。
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