CN110620066A - 槽式湿法刻蚀机台及利用其进行湿法刻蚀的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及槽式湿法刻蚀机台及利用其进行湿法刻蚀的方法，涉及半导体集成电路制造设备，在槽式湿法刻蚀作业中，通过承载装置带动晶圆旋转，使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，从而减小处理槽的硬件结构导致的处理槽底部和顶部刻蚀速率差异对晶圆面内均匀性的影响，进而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。

Description

槽式湿法刻蚀机台及利用其进行湿法刻蚀的方法
技术领域
本发明涉及半导体集成电路制造设备，尤其涉及一种槽式湿法刻蚀机台及利用其进行湿法刻蚀的方法。
背景技术
在半导体集成电路制造工艺中，刻蚀工艺是常用工艺之一，其中湿法刻蚀工艺中的槽式湿法刻蚀又是刻蚀工艺中常用的一种刻蚀方式，且占据了很大的比例。
随着半导体器件尺寸的减小，对槽式湿法刻蚀(Wet bench)工艺的要求也越来越高，如晶圆(wafer)面内均匀性。槽式湿法刻蚀机包括处理槽，处理槽中放置湿法刻蚀用药液，将待刻蚀的晶圆放入处理槽的药液中，浸泡(dip)一定的作业时间，然后取出移入紧邻的水槽中清洗即可完成湿法刻蚀工艺，由于槽式喷药液(一般为酸)的管路位于处理槽(tank)底部，喷药液角度为斜向上45度，因此处理槽底部药液浓度高，造成晶圆位于处理槽底部的刻蚀速率快，顶部速率慢。具体的，请参阅图1，图1为现有的湿法刻蚀速率分布示意图，如图1所示，位于处理槽底部的晶圆的刻蚀速率快，顶部速率慢。另也如上所述，槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性和处理槽的硬件结构直接相关，因此改进处理槽的硬件结构及湿法刻蚀工艺成为亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种槽式湿法刻蚀机台，以提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
本发明提供的槽式湿法刻蚀机台，包括：处理槽，处理槽内包括承载装置和喷药液装置，承载装置用于承载多个晶圆，喷药液装置用于向晶圆上喷湿法刻蚀用药液，其中承载装置可旋转，并同时带动晶圆旋转。
更进一步的，承载装置包括：至少两个横杆，并且横杆上沿其长度方向上包括多个卡槽，用于分隔固定晶圆；第一挡板和第二挡板，所述至少两个横杆的一端均连接至第一挡板，所述至少两个横杆的另一端均连接至第二挡板，以使所述至少两个横杆、第一挡板和第二挡板构成一笼子状结构的承载装置。
更进一步的，横杆中的其中至少一横杆为可移动的横杆，当需要将晶圆置于承载装置内时，将可移动的横杆移动以将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆，然后将可移动的横杆固定组装回到承载装置上。
更进一步的，该可移动的横杆的两端均与承载装置的第一挡板和第二挡板可移动的连接，可移动的横杆的两端均包括一固定装置，对应的第一挡板和第二挡板上包括一固定装置，通过将第一挡板上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接，并将第二挡板上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接，以将可移动的横杆固定组装回到第一挡板和第二挡板上。
更进一步的，所述第一挡板和第二挡板上的固定装置为卡扣装置，可移动的横杆的两端上的固定装置为可与第一挡板和第二挡板上的卡扣装置在卡合后固定连接的卡扣装置。
更进一步的，第一挡板和第二挡板上的卡扣装置为一卡槽，可移动的横杆上的卡扣装置为一卡勾。
更进一步的，可移动的横杆的一端与第一挡板和第二挡板中的其中一者活动连接，该可移动的横杆的另一端与第一挡板和第二挡板中的另一者可移动的连接。
更进一步的，当需要将晶圆置于承载装置内时，将可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者可移动的连接的一端打开，使可移动的横杆沿可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者活动连接的一端旋转，将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆，然后将可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者可移动的连接的一端固定组装回到承载装置的第一挡板或第二挡板上。
更进一步的，通过设置一机械部件将第一挡板和第二挡板中的其中一者和可移动的横杆的第一端固定在一起，并使可移动的横杆的第二端以该机械部件为支点可向远离承载装置的方向旋转，以实现可移动的横杆的第一端与第一挡板和第二挡板中的其中一者活动连接；通过在第一挡板和第二挡板中的另一者上设置一固定装置，在可移动的横杆的第二端上设置一固定装置，将可移动的横杆的第二端上的固定装置与第一挡板和第二挡板中的另一者上的固定装置固定连接，以将可移动的横杆固定组装回到承载装置，以实现可移动的横杆的第二端与第一挡板和第二挡板中的另一者可移动的连接。
更进一步的，槽式湿法刻蚀机台还包括一驱动装置，驱动装置驱动承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。
更进一步的，驱动装置通过驱动承载装置的横杆沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
更进一步的，驱动装置为一电机，电机通过轴承连接承载装置中的一横杆，电机驱动轴承旋转，进而轴承带动承载装置中的横杆沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
更进一步的，驱动装置通过驱动承载装置的第一挡板或第二挡板沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
更进一步的，驱动装置为一电机，电机通过轴承连接承载装置中的第一挡板或第二挡板，电机驱动轴承旋转，进而轴承带动第一挡板或第二挡板沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
更进一步的，晶圆在处理槽中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转，以便晶圆不同边缘位置都充分均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
更进一步的，多个横杆的个数大于等于3个。
更进一步的，至少三个横杆在晶圆的圆周方向上间隔相同的间距排布.
更进一步的，横杆的个数为4个，4个横杆在晶圆的圆周方向上相隔90°设置。
本发明还提供利用上述的槽式湿法刻蚀机台进行湿法刻蚀的方法，包括：S1：移动可移动的横杆，将多个晶圆置于处理槽内的承载装置上；以及S2：控制承载装置旋转，使承载装置带动晶圆旋转。
更进一步的，湿法刻蚀的方法还包括S3：在晶圆的旋转过程中，喷药液装置喷出湿法刻蚀用药液。
更进一步的，在S2中控制承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置带动晶圆沿晶圆的圆周方向旋转，使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。
更进一步的，在S1中将可移动的横杆的两端从承载装置的第一挡板和第二挡板上移开而移动可移动的横杆，然后从可移动的横杆在承载装置上的位置处将晶圆置于处理槽内的承载装置上。
更进一步的，在S1中将可移动的横杆的一端以与承载装置的第一挡板和第二挡板的一者活动连接的另一端为支点旋转而将可移动的横杆的一端从承载装置的第一挡板或第二挡板上移开，而移动可移动的横杆，然后从可移动的横杆在承载装置上的位置处将晶圆置于处理槽内的承载装置上。
更进一步的，晶圆在处理槽中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转，以便晶圆不同边缘位置都充分均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
本发明提供的槽式湿法刻蚀机台及利用其进行湿法刻蚀的方法，在槽式湿法刻蚀作业中，通过承载装置带动晶圆旋转，使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，从而减小处理槽的硬件结构导致的处理槽底部和顶部刻蚀速率差异对晶圆面内均匀性的影响，进而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
附图说明
图1为现有的湿法刻蚀速率分布示意图。
图2为本发明一实施例的槽式湿法刻蚀机台的示意图。
图3为图2所示的槽式湿法刻蚀机台内的承载装置的细部示意图。
图中主要元件附图标记说明如下：
110、处理槽；130、承载装置；140、卡槽；151、第一挡板；152、第二挡板；160、驱动装置；170、轴承；132、第二横杆；150、喷药液装置；131、第一横杆。
具体实施方式
下面将结合附图，对本发明中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在不做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
为了提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。本发明一实施例中，在于提供一种槽式湿法刻蚀机台。请参阅图2和图3，图2为本发明一实施例的槽式湿法刻蚀机台的示意图。图3为图2所示的槽式湿法刻蚀机台内的承载装置的细部示意图。具体的，该槽式湿法刻蚀机台，包括：处理槽110，处理槽110内包括承载装置130和喷药液装置150，承载装置130用于承载多个晶圆，喷药液装置150用于向晶圆上喷湿法刻蚀用药液，其中承载装置130可旋转，并同时带动晶圆旋转。
如此，在槽式湿法刻蚀作业中，通过承载装置带动晶圆旋转，使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，从而减小处理槽的硬件结构导致的处理槽底部和顶部刻蚀速率差异对晶圆面内均匀性的影响，进而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
具体的，在本发明一实施例中，如图3所示，承载装置130为一笼子状结构，包括至少两个横杆，如图3所示的第一横杆131和第二横杆132，并且横杆上沿其长度方向上包括多个卡槽140，用于分隔固定晶圆；第一挡板151和第二挡板152，至少两个横杆的一端均连接至第一挡板151，至少两个横杆的另一端均连接至第二挡板152，以使至少两个横杆、第一挡板151和第二挡板152构成一笼子状结构的承载装置130。
具体的，在本发明一实施例中，横杆中的其中至少一横杆为可移动的横杆，当需要将晶圆置于承载装置130内时，将可移动的横杆移动以将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆，然后将可移动的横杆固定组装回到承载装置130上。具体的，在本发明一实施例中，该可移动的横杆的两端均与承载装置130的第一挡板151和第二挡板152可移动的连接，如图3中的第一横杆131。具体的，在本发明一实施例中，可移动的横杆的两端均包括一固定装置，对应的第一挡板151和第二挡板152上包括一固定装置，通过将第一挡板151上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接，并将第二挡板152上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接，以将可移动的横杆固定组装回到第一挡板151和第二挡板152上。具体的，在本发明一实施例中，所述第一挡板151和第二挡板152上的固定装置为卡扣装置，可移动的横杆的两端上的固定装置为可与第一挡板151和第二挡板152上的卡扣装置在卡合后固定连接的卡扣装置，如第一挡板151和第二挡板152上的卡扣装置为一卡槽，可移动的横杆上的卡扣装置为一卡勾。以使可移动的横杆容易的从承载装置130上移开或固定回至承载装置130上，以将晶圆置于承载装置130内并固定在承载装置130内。
具体的，在本发明一实施例中，可移动的横杆的一端与第一挡板151和第二挡板152中的其中一者活动连接，该可移动的横杆的另一端与第一挡板151和第二挡板152中的另一者可移动的连接。当需要将晶圆置于承载装置130内时，将可移动的横杆与第一挡板151和第二挡板152中的一者可移动的连接的一端打开，使可移动的横杆沿可移动的横杆与第一挡板151和第二挡板152中的一者活动连接的一端旋转，将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆，然后将可移动的横杆与第一挡板151和第二挡板152中的一者可移动的连接的一端固定组装回到承载装置130的第一挡板151或第二挡板152上。具体的，在本发明一实施例中，可移动的横杆的第一端与第一挡板151和第二挡板152中的其中一者活动连接，具体的，通过设置一机械部件将第一挡板151和第二挡板152中的其中一者和可移动的横杆的第一端固定在一起，并使可移动的横杆的第二端以该机械部件为支点可向远离承载装置130的方向旋转；可移动的横杆的第二端与第一挡板151和第二挡板152中的另一者可移动的连接，具体的，通过在第一挡板151和第二挡板152中的另一者上设置一固定装置，在可移动的横杆的第二端上设置一固定装置，将可移动的横杆的第二端上的固定装置与第一挡板151和第二挡板152中的另一者上的固定装置固定连接，以将可移动的横杆固定组装回到承载装置130。以使可移动的横杆的一端容易的从承载装置130上移开或固定回至承载装置130上，以将晶圆置于承载装置130内并固定在承载装置130内。
槽式湿法刻蚀机台还包括一驱动装置160，驱动装置160驱动承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转，使晶圆在处理槽110内沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转的同时横杆也会沿晶圆的圆周方向旋转，则置于横杆上的晶圆也沿晶圆的圆周方法旋转。具体的，在本发明一实施例中，驱动装置160通过驱动承载装置130的横杆沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽110内沿晶圆的圆周方向旋转。具体的，在本发明一实施例中，驱动装置160为一电机，电机通过轴承170连接承载装置130中的一横杆，电机驱动轴承170旋转，进而轴承170带动承载装置130中的横杆沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽110内沿晶圆的圆周方向旋转。具体的，在本发明一实施例中，驱动装置160通过驱动承载装置130的第一挡板151或第二挡板152沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽110内沿晶圆的圆周方向旋转。具体的，在本发明一实施例中，驱动装置160为一电机，电机通过轴承170连接承载装置130中的第一挡板151或第二挡板152，电机驱动轴承170旋转，进而轴承170带动第一挡板151或第二挡板152沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽110内沿晶圆的圆周方向旋转。当然，本发明还可使用任何可适用的驱动装置驱动承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转，驱动装置与承载装置130的连接方式和驱动方式也并不限定。
具体的，在本发明一实施例中，晶圆在处理槽110中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转，以便晶圆不同边缘位置都充分均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。具体的，上述的驱动装置160具有驱动承载装置130使晶圆能在处理槽110中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转的功能。
具体的，在本发明一实施例中，喷药液装置150位于处理槽110的底部，喷药液角度为斜向上45度。
更优的，在本发明一实施例中，多个横杆的个数大于等于3个，以使晶圆置于承载装置130内后能使横杆从多个方位固定晶圆，以使晶圆在承载装置130中更加牢固的固定。具体的，在本发明一实施例中，至少三个横杆在晶圆的圆周方向上间隔相同的间距排布。如，在本发明一实施例中，横杆的个数为4个，4个横杆在晶圆的圆周方向上相隔90°设置。
具体的，在本发明一实施例中，还提供采用图2所示的槽式湿法刻蚀机台进行湿法刻蚀的方法，包括：
S1：移动可移动的横杆，将多个晶圆置于处理槽110内的承载装置130上；以及
S2：控制承载装置130旋转，使承载装置130带动晶圆旋转。
更具体的，在本发明一实施例中，湿法刻蚀的方法还包括S3：在晶圆的旋转过程中，喷药液装置150喷出湿法刻蚀用药液。以使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。
更具体的，在本发明一实施例中，在S2中控制承载装置130沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置130带动晶圆沿晶圆的圆周方向旋转，使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。
更具体的，在本发明一实施例中，在S1中将可移动的横杆的两端从承载装置130的第一挡板151和第二挡板152上移开而移动可移动的横杆，然后从可移动的横杆在承载装置130上的位置处将晶圆置于处理槽110内的承载装置130上。
更具体的，在本发明一实施例中，在S1中将可移动的横杆的一端以与承载装置130的第一挡板151和第二挡板152的一者活动连接的另一端为支点旋转而将可移动的横杆的一端从承载装置130的第一挡板151或第二挡板152上移开，而移动可移动的横杆，然后从可移动的横杆在承载装置130上的位置处将晶圆置于处理槽110内的承载装置130上。
具体的，在本发明一实施例中，晶圆在处理槽110中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转，以便晶圆不同边缘位置都充分均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。具体的，上述的驱动装置160具有驱动承载装置130使晶圆能在处理槽110中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转的功能。
综上所述，在槽式湿法刻蚀作业中，通过承载装置带动晶圆旋转，使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，从而减小处理槽的硬件结构导致的处理槽底部和顶部刻蚀速率差异对晶圆面内均匀性的影响，进而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (24)

1.一种槽式湿法刻蚀机台，包括：处理槽，处理槽内包括承载装置和喷药液装置，承载装置用于承载多个晶圆，喷药液装置用于向晶圆上喷湿法刻蚀用药液，其中承载装置可旋转，并同时带动晶圆旋转。
2.根据权利要求1所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，承载装置包括：
至少两个横杆，并且横杆上沿其长度方向上包括多个卡槽，用于分隔固定晶圆；
第一挡板和第二挡板，所述至少两个横杆的一端均连接至第一挡板，所述至少两个横杆的另一端均连接至第二挡板，以使所述至少两个横杆、第一挡板和第二挡板构成一笼子状结构的承载装置。
3.根据权利要求2所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，横杆中的其中至少一横杆为可移动的横杆，当需要将晶圆置于承载装置内时，将可移动的横杆移动以将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆，然后将可移动的横杆固定组装回到承载装置上。
4.根据权利要求3所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，该可移动的横杆的两端均与承载装置的第一挡板和第二挡板可移动的连接，可移动的横杆的两端均包括一固定装置，对应的第一挡板和第二挡板上包括一固定装置，通过将第一挡板上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接，并将第二挡板上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接，以将可移动的横杆固定组装回到第一挡板和第二挡板上。
5.根据权利要求4所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，所述第一挡板和第二挡板上的固定装置为卡扣装置，可移动的横杆的两端上的固定装置为可与第一挡板和第二挡板上的卡扣装置在卡合后固定连接的卡扣装置。
6.根据权利要求5所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，第一挡板和第二挡板上的卡扣装置为一卡槽，可移动的横杆上的卡扣装置为一卡勾。
7.根据权利要求3所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，可移动的横杆的一端与第一挡板和第二挡板中的其中一者活动连接，该可移动的横杆的另一端与第一挡板和第二挡板中的另一者可移动的连接。
8.根据权利要求7所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，当需要将晶圆置于承载装置内时，将可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者可移动的连接的一端打开，使可移动的横杆沿可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者活动连接的一端旋转，将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆，然后将可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者可移动的连接的一端固定组装回到承载装置的第一挡板或第二挡板上。
9.根据权利要求8所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，通过设置一机械部件将第一挡板和第二挡板中的其中一者和可移动的横杆的第一端固定在一起，并使可移动的横杆的第二端以该机械部件为支点可向远离承载装置的方向旋转，以实现可移动的横杆的第一端与第一挡板和第二挡板中的其中一者活动连接；通过在第一挡板和第二挡板中的另一者上设置一固定装置，在可移动的横杆的第二端上设置一固定装置，将可移动的横杆的第二端上的固定装置与第一挡板和第二挡板中的另一者上的固定装置固定连接，以将可移动的横杆固定组装回到承载装置，以实现可移动的横杆的第二端与第一挡板和第二挡板中的另一者可移动的连接。
10.根据权利要求1所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，槽式湿法刻蚀机台还包括一驱动装置，驱动装置驱动承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。
11.根据权利要求10所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，驱动装置通过驱动承载装置的横杆沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
12.根据权利要求11所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，驱动装置为一电机，电机通过轴承连接承载装置中的一横杆，电机驱动轴承旋转，进而轴承带动承载装置中的横杆沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
13.根据权利要求10所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，驱动装置通过驱动承载装置的第一挡板或第二挡板沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
14.根据权利要求13所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，驱动装置为一电机，电机通过轴承连接承载装置中的第一挡板或第二挡板，电机驱动轴承旋转，进而轴承带动第一挡板或第二挡板沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。
15.根据权利要求1所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，晶圆在处理槽中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转，以便晶圆不同边缘位置都充分均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
16.根据权利要求1所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，多个横杆的个数大于等于3个。
17.根据权利要求16所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，至少三个横杆在晶圆的圆周方向上间隔相同的间距排布。
18.根据权利要求16所述的槽式湿法刻蚀机台，其特征在于，横杆的个数为4个，4个横杆在晶圆的圆周方向上相隔90°设置。
19.利用权利要求1所述的槽式湿法刻蚀机台进行湿法刻蚀的方法，其特征在于，包括：
S1：移动可移动的横杆，将多个晶圆置于处理槽内的承载装置上；以及
S2：控制承载装置旋转，使承载装置带动晶圆旋转。
20.根据权利要求19所述的湿法刻蚀的方法，其特征在于，湿法刻蚀的方法还包括S3：在晶圆的旋转过程中，喷药液装置喷出湿法刻蚀用药液。
21.根据权利要求19所述的湿法刻蚀的方法，其特征在于，在S2中控制承载装置沿晶圆的圆周方向旋转，使承载装置带动晶圆沿晶圆的圆周方向旋转，使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。
22.根据权利要求19所述的湿法刻蚀的方法，其特征在于，在S1中将可移动的横杆的两端从承载装置的第一挡板和第二挡板上移开而移动可移动的横杆，然后从可移动的横杆在承载装置上的位置处将晶圆置于处理槽内的承载装置上。
23.根据权利要求19所述的湿法刻蚀的方法，其特征在于，在S1中将可移动的横杆的一端以与承载装置的第一挡板和第二挡板的一者活动连接的另一端为支点旋转而将可移动的横杆的一端从承载装置的第一挡板或第二挡板上移开，而移动可移动的横杆，然后从可移动的横杆在承载装置上的位置处将晶圆置于处理槽内的承载装置上。
24.根据权利要求19所述的湿法刻蚀的方法，其特征在于，晶圆在处理槽中沿晶圆的圆周方向至少360度旋转，以便晶圆不同边缘位置都充分均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置，而提高槽式湿法刻蚀晶圆面内均匀性。
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