CN110600524B - 阵列基板、显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种阵列基板、显示面板及其制备方法。该阵列基板包括支撑板、支撑柱、第一柔性衬底和像素电路层。该阵列基板可以通过溶解支撑柱使支撑板与第一柔性衬底剥离。其中，第一柔性衬底与支撑板之间具有空隙，可以避免剥离支撑板时损伤第一柔性衬底。同时，第一柔性衬底与支撑板之间的空隙还可以用于溶解液的渗透，从而更好的实现支撑柱的溶解。

Description

阵列基板、显示面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及阵列基板、显示面板及其制备方法。

背景技术

柔性显示装置是一种基于柔性显示面板制作形成的显示装置。由于柔性显示装置具有可卷曲、宽视角和便于携带的特点，柔性显示装置得到越来越广泛的应用。

传统技术中，柔性显示面板的制作通常是在支撑板上依次形成柔性衬底和像素电路层、发光层和封装层，再完成柔性衬底与支撑板的剥离，从而得到柔性显示面板。

申请人在实现传统技术的过程中发现：传统技术中，柔性衬底与支撑板剥离时容易损坏柔性衬底，从而影响柔性显示面板的显示效果。

发明内容

基于此，有必要针对传统技术中存在的柔性衬底与支撑板剥离时容易损坏柔性衬底的问题，提供一种阵列基板、显示面板及其制备方法。

一种阵列基板，包括：

支撑板，具有一个支撑面；

多个支撑柱，间隔设置并阵列分布于所述支撑面；

第一柔性衬底，覆盖所述多个支撑柱，所述多个支撑柱嵌入所述第一柔性衬底中，且所述第一柔性衬底与所述支撑面之间具有空隙。

上述阵列基板包括支撑板、支撑柱、第一柔性衬底和像素电路层。该阵列基板可以通过溶解支撑柱使支撑板与第一柔性衬底剥离。其中，第一柔性衬底与支撑板之间具有空隙，可以避免剥离支撑板时损伤第一柔性衬底。同时，第一柔性衬底与支撑板之间的空隙还可以用于溶解液的渗透，从而更好的实现支撑柱的溶解。

一种显示面板的制备方法，包括：

提供如上述实施例所述的阵列基板；

在所述像素电路层远离所述第一柔性衬底的一侧形成发光层；

在所述发光层远离所述像素电路层的一侧形成覆盖所述发光层的封装层；

溶解所述支撑柱，从而使所述支撑板与所述第一柔性衬底分离。

上述显示面板的制备方法，在上述阵列基板上制备发光层和封装层，并通过溶解支撑柱使支撑板与第一柔性衬底剥离，从而得到柔性显示面板。该显示面板的制备方法，其第一柔性衬底与支撑板之间具有空隙，可以避免剥离支撑板时损伤第一柔性衬底。同时，第一柔性衬底与支撑板之间的空隙还可以用于溶解液的渗透，从而更好的实现支撑柱的溶解。

一种显示装置，包括上述实施例的显示面板的制备方法所制备的显示面板。

附图说明

图1为本申请一个实施例阵列基板的剖面结构示意图。

图2为本申请一个实施例中支撑板与支撑柱的剖面结构示意图。

图3为本申请另一个实施例中阵列基板的剖面结构示意图。

图4为本申请另一个实施例中支撑板与支撑柱的剖面结构示意图。

图5为本申请一个实施例中支撑柱的剖面结构示意图。

图6为本申请又一个实施例中支撑板与支撑柱的剖面结构示意图。

图7为本申请另一个实施例中支撑柱的剖面结构示意图。

图8为本申请又一个实施例中支撑板与支撑柱的剖面结构示意图。

图9为本申请又一个实施例中支撑板与支撑柱的剖面结构示意图。

图10为本申请又一个实施例中支撑板与支撑柱的剖面结构示意图。

图11为本申请另一个实施例中阵列基板的剖面结构示意图。

图12为本申请一个实施例中阵列基板的制备方法的流程示意图。

图13为本申请实施例中显示面板的制备方法的流程示意图。

图14本申请一个实施例中显示面板的剖面结构示意图。

图15为本申请一个实施例中显示面板的制备方法的步骤S200的剖面结构示意图。

其中，各附图标号所代表的含义分别为：

10、阵列基板；

102、夹槽；

104、空隙；

110、支撑板；

112、支撑面；

120、支撑柱；

122、不平坦侧壁；

124、第一端；

126、第二端；

128、通孔；

130、第一柔性衬底；

132、凸部；

140、像素电路层；

150、阻挡层；

160、第二柔性衬底；

200、发光层；

210、子像素；

300、封装层。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在进行柔性显示面板的制备时，通常可以先在一刚性的支撑板上形成柔性衬底，再在柔性衬底上制备像素电路层，得到阵列基板。之后，在阵列基板的像素电路层上蒸镀发光层和封装层，再剥离支撑板，即可得到柔性显示面板。

本申请针对传统技术中柔性显示面板的制作过程中，在进行柔性衬底与支撑板的剥离时，与支撑板粘连的柔性衬底容易受到损坏的问题，提供一种阵列基板、显示面板及其制备方法。

如图1所示，一种阵列基板10，包括支撑板110、支撑柱120、第一柔性衬底130。

具体的，支撑板110为刚性基板，用于支撑阵列基板10的其它膜层。支撑板110可以是玻璃材质的刚性基板，也可以是金属或其它材质的刚性基板，在此不做限制。支撑板110具有两个表面，在本实施例中，将支撑板110用于设置支撑柱120的表面命名为支撑面112。

支撑柱120设于支撑板110的支撑面112，且与支撑面112相结合。每个阵列基板10可以包括多个支撑柱120。如图2所示，多个支撑柱120可以阵列分布于支撑面112上。这里的阵列分布指支撑柱120在支撑板110的支撑面112上呈行呈列分布。多个支撑柱120间隔设置是指相邻两行支撑柱120之间可以设有一定间隙，相邻两列支撑柱120之间也可以设有一定间隙。在本申请的各实施例中，为方便描述，将相邻两个支撑柱120之间的间隙命名为夹槽102。由于相邻两行支撑柱120之间设有一定间隙，相邻两列支撑柱120之间也设有一定间隙，由此可知，本实施例中所有夹槽102为相互连通的。

第一柔性衬底130设于支撑柱120上并覆盖支撑柱120，以使支撑板110通过支撑柱120支撑第一柔性衬底130。第一柔性衬底130一般可以是聚酰亚胺薄膜。在本实施例中，支撑柱120嵌入第一柔性衬底130中，且第一柔性衬底130与支撑面112之间具有空隙104。更具体来说，第一柔性衬底130远离支撑柱120的表面为平坦表面；第一柔性衬底130靠近支撑柱120的表面具有凸部132，该凸部132与支撑柱120相互嵌合，即凸部132凸入夹槽102内，支撑柱120嵌入第一柔性衬底130内。凸部132且与支撑板110之间具有空隙104。当所有夹槽102连通时，所有空隙104也互相连通。一般来说，该凸部132可以是在支撑柱120表面涂布第一柔性衬底130时，衬底材料在重力作用下流入夹槽102形成。

进一步的，阵列基板还包括像素电路层140，位于第一柔性衬底130远离支撑柱120的一侧。像素电路层140为驱动电路层，其一般包括若干个驱动电路，用于输出驱动电流。当阵列基板10上蒸镀有发光层后，像素电路层140即可驱动发光层发光。

更具体的，本申请提供一种阵列基板10，该阵列基板10包括支撑板110、多个支撑柱120、第一柔性衬底130和像素电路层140。其中，多个支撑柱120阵列分布于支撑板110的支撑面112上，且相邻两个支撑柱120之间设有夹槽102。第一柔性衬底130靠近支撑柱120的表面具有凸部132，该凸部132凸入夹槽102且与支撑板110之间具有空隙104。该阵列基板10，第一柔性衬底130的凸部132凸入夹槽102内，使多个支撑柱120嵌入第一柔性衬底130内，从而使第一柔性衬底130与支撑柱120相互嵌合，以减小第一柔性衬底130与支撑柱120意外剥离的可能性。同时，第一柔性衬底130的凸部132与支撑板110之间具有空隙104，可以避免支撑板110和第一柔性衬底130剥离时损伤第一柔性衬底130。若使用溶解液溶解支撑柱120以完成支撑板110与第一柔性衬底130的剥离，则第一柔性衬底130的凸部132与支撑板110之间的空隙104还可以用于溶解液的渗透，从而更好的实现支撑柱120的溶解，实现支撑板110与第一柔性衬底130的剥离。

在一个实施例中，如图3和图4所示，支撑柱120还具有连续设置的不平坦侧壁122，相邻两个支撑柱120的不平坦侧壁122相夹形成夹槽102。

具体的，支撑柱120的侧壁指支撑柱120不平行于支撑面112的壁面。在本实施例中，支撑柱120侧壁可以为一不平坦侧壁122。该不平坦侧壁122的摩擦力相对大于平坦侧壁的摩擦力。由上述实施例的描述已知，第一柔性衬底130具有凸部132，且凸部132凸入相邻两个支撑柱120形成的夹槽102内。由此，当支撑柱120还具有一不平坦侧壁122时，可以增加支撑柱120与第一柔性衬底130的凸部132之间的摩擦力，从而进一步避免阵列基板10的制备过程中，第一柔性衬底130和支撑柱120意外剥离。

在一个实施例中，如图5到图8所示，支撑柱120具有远离支撑面112的第一端124和靠近支撑面112的第二端126，相邻两个支撑柱120的第一端124的间距小于相邻两个支撑柱120的最大间距。

具体的，支撑柱120的第一端124指支撑柱120靠近第一柔性衬底130的一端，也即指支撑柱120远离支撑面112的一端；支撑柱120的第二端126指支撑柱120靠近支撑面112的一端，也即指支撑柱120远离第一柔性衬底130的一端。相邻两个支撑柱120的第一端124的间距小于相邻两个支撑柱120的最大间距，指沿阵列基板10的层叠方向，支撑柱120平行于支撑面112的横截面面积至少部分逐渐增大。

例如，在如图5和图6所示的实施例中，沿阵列基板10的层叠方向，支撑柱120的剖面形状为倒梯形。此时，支撑柱120的立体形状可以是倒圆台或倒棱台。相邻两个支撑柱120的第二端126的间距为相邻两个支撑柱120间的最大间距，相邻两个支撑柱120的第一端124的间距为相邻两个支撑柱120间的最小间距。在该实施例中，沿阵列基板10的层叠方向，支撑柱120平行于支撑面112的横截面面积逐渐增大，以此即可使两个支撑柱120之间的夹槽102具有收缩型的开口。当第一柔性衬底130的凸部132凸入该夹槽102时，凸部132即可与夹槽102形成相互咬合且不易分离的结构，从而进一步避免阵列基板10的制备过程中，第一柔性衬底130和支撑柱120意外剥离。

又例如，在图7和图8所示的实施例中，沿阵列基板10的层叠方向，支撑柱120的剖面形状为两个梯形短底重合的形状。此时，支撑柱120的立体形状可以是两个倒圆台或到棱台底面积较小的两底面重合的形状。相邻两个支撑柱120的第一端124的间距小于相邻两个支撑柱120之间的最大间距。在该实施例中，沿阵列基板10的层叠方向，支撑柱120平行于支撑面112的横截面面积先减小再增大，以此即可使两个支撑柱120之间的夹槽102具有收缩型的开口。当第一柔性衬底130的凸部132凸入该夹槽102时，凸部132即可与夹槽102形成相互咬合且不易分离的结构，从而进一步避免阵列基板10的制备过程中，第一柔性衬底130和支撑柱120意外剥离。

在一个实施例中，相邻两个支撑柱120的第二端126的间距为相邻两个支撑柱120的最大间距。

具体的，仍然如图5和图6所示，在该实施例中，沿阵列基板10的层叠方向，支撑柱120的剖面形状为倒梯形。此时，支撑柱120的立体形状可以是倒圆台或倒棱台。相邻两个支撑柱120的第二端126的间距为相邻两个支撑柱120间的最大间距，相邻两个支撑柱120的第一端124的间距为相邻两个支撑柱120间的最小间距。在该实施例中，沿阵列基板10的层叠方向，支撑柱120平行于支撑面112的横截面面积逐渐增大，以此即可使两个支撑柱120之间的夹槽102底部面积最大。当第一柔性衬底130的凸部132凸入该夹槽102时，凸部132位于夹槽102内部上方，空隙104位于夹槽102内部下方，相比于其它形状的支撑柱120空隙104面积更大。当使用溶解液溶解支撑柱120时，面积更大的空隙104更有利于溶解液的渗透，从而更好的实现支撑柱120的溶解，实现支撑板110与第一柔性衬底130的剥离。

在一个实施例中，如图9和图10所示，支撑柱120底部还可以设有贯通支撑柱120的通孔128，通孔128的延伸方向与支撑面112的延伸方向平行。

具体的，该通孔128位于支撑柱120底部，即位于支撑柱120靠近支撑面112的第二端126。该通孔128贯通支撑柱120。当使用溶解液溶解支撑柱120时，溶解液在凸部132与支撑面112之间的空隙104渗透的同时，也可以通过该贯通支撑柱120的通孔128进行渗透，从而增加了支撑柱120与溶解液的接触面积，加快了支撑柱120的溶解速度。

在一个实施例中，如图11所示，本申请的阵列基板10还包括阻挡层150和第二柔性衬底160。

具体的，阻挡层150位于第一柔性衬底130和像素电路层140之间，并覆盖第一柔性衬底130。一般来说，阻挡层150的材料可以是氧化硅。

第二柔性衬底160位于阻挡层150与像素电路层140之间，并覆盖阻挡层150。第二柔性衬底160与第一柔性衬底130的材料可以相同。第二柔性衬底160用于承载像素电路层140。

更具体的，在本实施例中，阵列基板10包括层叠的支撑板110、支撑柱120、第一柔性衬底130、阻挡层150、第二柔性衬底160和像素电路层140。其中，第二柔性衬底160用于承载像素电路层140。阻挡层150位于第一柔性衬底130和第二柔性衬底160之间，以防止第一柔性衬底130受到损伤时连带第二柔性衬底160受到损伤。换句话说，本实施例中的阵列基板10具有第一柔性衬底130、阻挡层150和第二柔性衬底160复合的复合柔性衬底，可以进一步防止进行第一柔性衬底130和支撑板110的剥离时，柔性衬底损坏影响像素电路层140正常工作。

本申请还提供一种显示面板的制备方法，包括：

S100，提供如上述任意一个实施例中的阵列基板10。

具体的，提供一阵列基板10，该阵列基板10可以包括支撑板110、多个支撑柱120、第一柔性衬底130及像素电路层140。其中，支撑板110具有一个支撑面112。多个支撑柱120间隔设置并阵列分布于支撑面112上。第一柔性衬底130覆盖多个支撑柱120，多个支撑柱120嵌入第一柔性衬底130中，且第一柔性衬底130与支撑面112之间具有空隙104。像素电路层140位于第一柔性衬底130远离支撑柱120的表面。

如图12所示，该步骤S100具体可以包括：

S110，在支撑板110的支撑面112形成多个支撑柱120，其中，多个支撑柱120间隔设置且呈阵列分布。

支撑板110为刚性基板，用于支撑阵列基板10的其它膜层，支撑板110可以是玻璃材质的刚性基板，也可以是其它材质的刚性基板，在此不做限制。支撑板110具有两个表面，在本实施例中，将支撑板110用于设置支撑柱120的表面命名为支撑面112。在支撑板110的支撑面112上形成多个支撑柱120，支撑柱120可以与支撑板110相结合。多个支撑柱120在支撑板110的表面上的呈阵列列分布。这里的阵列分布指支撑柱120在支撑板110的表面上的呈行呈列分布。多个支撑柱120间隔设置是指相邻两行支撑柱120之间可以设有一定间隙，相邻两列支撑柱120之间也可以设有一定间隙。

为方便描述，将相邻两个支撑柱120之间的间隙命名为夹槽102。由于相邻两行支撑柱120之间设有一定间隙，相邻两列支撑柱120之间也设有一定间隙，因此可知，本实施例中所有的夹槽102为相互连通的。

S120，在支撑柱120远离支撑面112的一侧形成覆盖多个支撑柱120的第一柔性衬底130，多个支撑柱120嵌入第一柔性衬底130中，且第一柔性衬底130与支撑面112之间具有空隙104。

在支撑柱120上形成第一柔性衬底130。这里可以通过涂布的方式在支撑柱120上涂布一层聚酰亚胺流体，以形成第一柔性衬底130。涂布聚酰亚胺流体后，位于夹槽102上方的聚酰亚胺流体会在重力作用流入夹槽102内部，形成凸部132。在此，可以通过设置相邻两个支撑柱120的间距，使凸部132的表面张力满足凸部132可以凸入夹槽102内部，且不会与支撑板110接触。即通过设置相邻两个支撑柱120的间距，使第一柔性衬底130形成凸部132，且凸部132与支撑板110之间存在空隙104。当所有的夹槽102连通时，所有的空隙104也相互连通。

一般来说，相邻两个支撑柱120之间的间距应与聚酰亚胺流体的密度相关。当聚酰亚胺流体的密度较大时，相邻两个支撑柱120之间的间距可以适当增大，反之，当聚酰亚胺流体的密度较小时，相邻两个支撑柱120之间的间距可以适当减小。

当在多个支撑柱120上形成具有凸部132的第一柔性衬底130后，此时凸部132与支撑柱120相互嵌合。换句话说，第一柔性衬底130的凸部132嵌入相邻两个支撑柱120形成的夹槽102中；支撑柱120嵌入相邻两个凸部132之中。

S130，在第一柔性衬底130远离支撑柱120的表面形成像素电路层140。

在第一柔性衬底130远离支撑柱120的表面制备像素电路层140。像素电路层140的制备可以是通过掩膜版在第一柔性衬底130上蒸镀薄膜晶体管和电容。这是本领域的惯用技术手段，不再赘述。

此时，如图13所示，所述显示面板的制备方法，还包括：

S200，在像素电路层140远离第一柔性衬底130的一侧形成发光层200。

在像素电路层140远离第一柔性衬底130的一侧形成发光层200。发光层200的制备可以是通过掩膜版在像素电路层140上蒸镀相互间隔的发光子像素210。这是本领域的惯用技术手段，不再赘述。

S300，在发光层200远离像素电路层140的一侧形成覆盖发光层200的封装层300。

在发光层200远离像素电路层140的一侧形成覆盖发光层200的封装层300。封装层300的制备可以是在发光层200上依次涂布无机层、有机层和无机层。这是本领域的惯用技术手段，不再赘述。

S400，溶解支撑柱120，从而使支撑板110与第一柔性衬底130分离。

溶解支撑柱120。溶解支撑柱120后，支撑板110即与第一柔性衬底130分离，此时，即可得到包括第一柔性衬底130、像素电路层140、发光层200和封装层300的显示面板。显示面板沿其层叠方向的剖面结构示意图如图14所示。

进一步的，所述步骤S400包括：

从第一柔性衬底130与支撑面112之间的空隙104滴入溶解液，以溶解支撑柱120。

具体的，可以从凸部132与支撑面112之间的空隙104滴入溶解液。溶解液可以通过相连通的空隙104

该显示面板的制备方法，在支撑板110的一个表面形成有多个支撑柱120，且相邻两个支撑柱120之间设有夹槽102。第一柔性衬底130形成于支撑柱120远离支撑板110的一侧，第一柔性衬底130的部分渗入夹槽102形成凸部132，且凸部132与支撑板110之间具有空隙104。最后通过溶解支撑柱120，使第一柔性衬底130和支撑板110剥离。该显示面板的制备方法，其凸部132与支撑板110之间具有空隙104，可以避免剥离支撑板110时损伤第一柔性衬底130。同时，凸部132与支撑板110之间的连通空隙104还可以用于溶解液的渗透，从而更好的实现支撑柱120的溶解。

需要理解的是，一方面，在进行支撑柱120的溶解时，只需将支撑柱120与支撑板110连接的部分溶解，即可使第一柔性衬底130与支撑板110剥离。此时，剥离后形成的显示面板依旧残留有支撑柱120的部分(图中未示出)。而另一方面，在进行支撑柱120的溶解时，也可以将支撑柱120全部溶解。此时，剥离后形成的显示面板即不具有支撑柱120。

进一步的，如图15所示，上述步骤S200，可以包括：

在像素电路层140远离第一柔性衬底130的一侧形成多个相互间隔的子像素210，子像素210在第一柔性衬底130上的投影位于支撑柱120在第一柔性衬底130上的投影的覆盖范围内。

具体的，提供上述阵列基板10后，在阵列基板10的像素电路层140上形成发光层200。其中，像素电路层140为驱动电路层，像素电路层140一般由薄膜晶体管和电容构成。多个薄膜晶体管和电容可构成一个驱动电路，一个驱动电路用于根据输入信号输出电信号，从而驱动一个子像素210发光。发光层200一般包括阵列分布的若干个子像素210。

在本实施例中，沿阵列基板10的层叠方向，即在图15所示的实施例中，沿下到上的方向，子像素210在第一柔性衬底130上的投影位于支撑柱120在第一柔性衬底130上的投影内。换句话说，在本实施例中，子像素210的位置与支撑柱120的位置相对应。当进行支撑板110与第一柔性衬底130的剥离时，可以使用溶解液完全溶解支撑柱120。此时，所得的显示面板即包括第一柔性衬底130、像素电路层140、发光层200和封装层300，且第一柔性衬底130远离子像素210的一侧具有凸部132。设置子像素210的位置与支撑柱120的位置相对应，若该显示面板为底发光面板，即子像素210发光从柔性衬底一侧射出，则子像素210发光可以从相邻两个凸部132之间射出，从而加强显示面板的发光效果。

在一个实施例中，上述支撑柱120可以是IGZO(铟镓锌氧化物)材料制成。上述溶解液可以是草酸。

本申请还提供一种显示面板，由上述任意一个实施例的显示面板的制备方法制备形成。

具体来说，如图14所示，该显示面板包括第一柔性衬底130及位于第一柔性衬底130上的像素电路层140、发光层200和封装层300。

第一柔性衬底130一般可以是聚酰亚胺薄膜，其用于承载像素电路层140。第一柔性衬底130的一个表面具有若干个凸部132，另一个表面为平坦表面。

像素电路层140位于第一柔性衬底130的平坦表面上。像素电路层140为驱动电路层，用于输出驱动电流。

发光层200受像素电路层140驱动，从而电致发光。当像素电路层140有输入信号时，像素电路层140根据输入信号输出电信号，从而驱动发光层200发光。

封装层300用于封装发光层200，从而减少发光层200与空气中的水氧的接触，防止发光层200被水氧破坏。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

支撑板(110)，具有一个支撑面(112)；

多个支撑柱(120)，间隔设置并阵列分布于所述支撑面(112)；

第一柔性衬底(130)，覆盖所述多个支撑柱(120)，所述多个支撑柱(120)嵌入所述第一柔性衬底(130)中，且所述第一柔性衬底(130)与所述支撑面(112)之间具有空隙(104)，所述支撑柱(120)具有远离所述支撑面(112)的第一端(124)，相邻两个所述支撑柱(120)的第一端(124)的间距小于相邻两个所述支撑柱(120)的最大间距。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述支撑柱(120)具有连续设置的不平坦侧壁(122)。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述支撑柱(120)具有靠近所述支撑面(112)的第二端(126)，相邻两个所述支撑柱(120)的第二端(126)的间距为相邻两个所述支撑柱(120)的最大间距。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述支撑柱(120)底部设有贯通所述支撑柱(120)的通孔(128)，所述通孔(128)的延伸方向与所述支撑面(112)的延伸方向平行。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：

阻挡层(150)，位于所述第一柔性衬底(130)与显示单元之间，并覆盖所述第一柔性衬底(130)；

第二柔性衬底(160)，位于所述阻挡层(150)与所述显示单元之间，并覆盖所述阻挡层(150)。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括：

所述阵列基板还包括：像素电路层(140)，位于所述第一柔性衬底(130)远离所述支撑柱(120)的一侧。

7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供如权利要求1至6任意一项所述的阵列基板(10)，

在所述像素电路层(140)远离所述第一柔性衬底(130)的一侧形成发光层(200)；

在所述发光层(200)远离所述像素电路层(140)的一侧形成覆盖所述发光层(200)的封装层(300)；

溶解所述支撑柱(120)，从而使所述支撑板(110)与所述第一柔性衬底(130)分离。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述溶解所述支撑柱(120)，包括：

从所述第一柔性衬底(130)与所述支撑面(112)之间的空隙(104)滴入溶解液，以溶解所述支撑柱(120)。

9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述像素电路层(140)远离所述第一柔性衬底(130)的一侧形成发光层(200)，包括：

在所述像素电路层(140)远离所述第一柔性衬底(130)的一侧形成多个相互间隔的子像素(210)，所述子像素(210)在所述第一柔性衬底(130)上的投影位于所述支撑柱(120)在所述第一柔性衬底(130)上的投影的覆盖范围内。

10.一种显示面板，其特征在于，由权利要求7至9任一项所述的显示面板的制备方法制备形成。

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