CN110585759A - 一种液体分布装置与金属离子过滤器 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种金属离子过滤器，包括：过滤器本体；所述过滤器本体的上部设置有液相进口；所述过滤器本体的下部设置有液相出口；所述过滤器本体内设置有液体分布装置；所述液体分布装置位于液相进口的下方；所述液体分布装置包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管；所述进液管位于液体分布装置与液相进口之间；所述过滤器本体内设置有金属离子吸附材料；所述金属离子吸附材料位于液相分布装置与液相出口之间。与现有技术相比，本发明在金属离子吸附材料与液相进口之间设置有液体分布装置，液体进入后在液体分布装置的液体收集板上不断累积，再进液管中流出，从而可使液体均匀地通过金属离子吸附材料。
Description
技术领域
本发明涉及超高纯正硅酸乙酯技术领域，特别涉及一种液体分布装置与金属离子过滤器。
背景技术
半导体集成电路产业是目前发展最为迅速的高新技术产业，越来越受到各国的重视，发展速度之快超出了人们的预料，与之相配套的超高纯电子化学品的世界年均增长率保持在8％以上，是化工行业中发展最快的领域。
近年来，我国超高纯电子化学品工业发展与世界同步，发展迅猛，近几年超高纯电子化学品制造业的年均增长率超过了20％，必将成为化工行业中发展速度最快、最具活力的行业之一，也是当今兴起的高技术含量、高投入、高附加值的高新技术产业。并且，超高纯电子化学品是半导体集成电路产业重要的支撑材料之一，其质量的好坏，将直接影响半导体集成电芯片的质量。
正硅酸乙酯(TEOS)作为超高纯电子化学品中重要的一种，主要用于半导体集成电路芯片制造过程中的LPCVD工艺，首先把TEOS从液态蒸发成气态，然后在700℃～750℃，50Pa压力下分解在硅片表面淀积生成二氧化硅薄膜。
二氧化硅薄膜中微量金属掺杂就会改变其半导体性能，进而影响最终芯片的性能，因此在半导体集成电路芯片生产过程中，要对原料TEOS中的金属离子严格控制。除去金属离子的方法有很多，最简单的可以通过金属离子吸附器除去正硅酸乙酯中的金属离子，但是常用的吸附器中没有液体均匀分布的设置，所以液体物料通过吸附器时，一般只会从吸附器中间通过，不会从靠近吸附器壁处通过，这样吸附材料的利用率会大大降低。
发明内容
本发明要解决的技术问题为提供一种液体分布装置与金属离子过滤器，该液体分布装置可以使液体物料均地通过吸附器及吸附材料，有效地增大吸附效率。
本发明提供了一种金属离子过滤器，包括：
过滤器本体；
所述过滤器本体的上部设置有液相进口；
所述过滤器本体的下部设置有液相出口；
所述过滤器本体内设置有液体分布装置；所述液体分布装置位于液相进口的下方；所述液体分布装置包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管；所述进液管位于液体分布装置与液相进口之间；
所述过滤器本体内设置有金属离子吸附材料；所述金属离子吸附材料位于液体分布装置与液相出口之间。
优选的，还包括液相接收装置；所述液相接收装置的边沿设置有小孔；所述液相接收装置位于液相进口与液体分布装置之间，且液体分布装置相对于液相接收装置设置于小孔的位置没有开孔。
优选的，所述液体分布装置上开孔呈同圆心形排列。
优选的，还包括支撑装置；所述支撑装置位于液相出口的上方，用于支撑金属离子吸附材料。
优选的，还包括测温装置；所述测温装置位于金属离子过滤器设置有金属离子吸附材料的位置。
优选的，所述进液管的上部设置有进液孔。
本发明还提供了一种液体分布装置，包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管。
优选的，所述液体收集板上平均设置有多个开孔；所述多个开孔呈同心圆形排布。
本发明提供了一种金属离子过滤器，包括：过滤器本体；所述过滤器本体的上部设置有液相进口；所述过滤器本体的下部设置有液相出口；所述过滤器本体内设置有液体分布装置；所述液体分布装置位于液相进口的下方；所述液体分布装置包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管；所述进液管位于液体分布装置与液相进口之间；所述过滤器本体内设置有金属离子吸附材料；所述金属离子吸附材料位于液相分布装置与液相出口之间。与现有技术相比，本发明在金属离子吸附材料与液相进口之间设置有液体分布装置，液体进入后在液体分布装置的液体收集板上不断累积，累积到一定高度后，从连接开孔的进液管中流出，从而可使液体均匀地通过金属离子吸附材料，可以有效的增大吸附效率。
附图说明
图1为本发明提供的液体分布装置的结构示意图；
图2为本发明提供的金属离子过滤器的结构示意图；
图3为本发明提供的液相接收装置的结构示意图；
图4为本发明提供的支撑装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供了一种液体分布装置，包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管。
参见图1，图1为本发明提供的液体分布装置的结构示意图。
本发明提供的液体分布装置，包括液体收集板，所述液体收集板上分布有开孔，优选分布有多个开孔；所述开孔优选呈同心圆形排布；所述开孔上连接有进液管，即所述进液管的管道与开孔相连通；所述进液管的高度优选为15～40mm，更优选为20～30mm，再优选为20mm；所述进液管不与开孔相连的一端设置有进液孔；在本发明中，所述液体分布装置优选为正硅酸乙酯液体分布装置，所述液体收集板优选为正硅酸乙酯液体收集板。
本发明还提供了一种金属离子过滤器，包括：过滤器本体；所述过滤器本体的上部设置有液相进口；所述过滤器本体的下部设置有液相出口；所述过滤器本体内设置有液体分布装置；所述液体分布装置位于液相进口的下方；所述液体分布装置包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管；所述进液管位于液体分布装置与液相进口之间；所述过滤器本体内设置有金属离子吸附材料；所述金属离子吸附材料位于液相分布装置与液相出口之间。
参见图2，图2为本发明提供的金属离子过滤器的结构示意图，其中a为液相进口，b为液相出口，c为测温装置，d为金属离子吸附材料装填口，e为液相接收装置，f为液体分部装置，g为支撑装置。
本发明提供的金属离子过滤器包括过滤器本体；所述过滤器的上部设置有液相进口；所述液相进口优选为正硅酸乙酯进口；所述过滤器本体内、液相进口的下方设置有液体分布装置；所述液体分布装置同上所述，在此不再赘述。
避免液相进口进入的液体从进液管的进液孔直接流入，所述液体分布装置与液相进口相对的位置优选没有开孔；或者所述进液管的进液孔不分布在进液管的顶端，而是分布在进液管不与开孔相连接的一端的管壁；或者所述金属离子过滤器优选还包括液相接收装置；所述液相接收装置的边沿设置有小孔；参见图3，图3为本发明提供的液相接收装置的结构示意图；所述液相接收装置位于液相进口与液体分布装置之间，且液体分布装置相对于液相结构装置设置有小孔的位置没有开孔。液体从金属离子过滤器的液相进口进入后，会被液相接收装置收集，收集的液体过多后，会从液相接收装置边沿的小孔溢出，溢出的液体会漏到液体分布装置上，液体分布装置相对于液相接收装置小孔的位置没有开孔，因此液体在液体分布装置上不断累积，累积到一定量，液面达到液体分布装置进液管的进液孔高度，则液体会从各个进液孔流下。
所述液体分布装置的下方设置有金属离子吸附材料，从液相分布装置流下的液体均匀地流到金属离子吸附材料中；为了便于金属离子吸附材料的装填，所述过滤器本体优选设置有金属离子吸附材料装填口；为监控液体的温度，优选包括测温装置，所述测温装置位于金属离子过滤器设置有金属离子吸附材料的位置。
所述金属离子吸附材料下方的过滤器本体上设置有液相出口，经金属离子吸附材料吸附后的液体会从液相出口流出；所述液相出口优选为正硅酸乙酯出口。
为防止金属离子吸附材料由于重力的原因落到液相出口从而堵塞出口，本发明提供的金属离子过滤器优选还包括支撑装置，所述支撑装置位于液相出口的上方，用于支撑金属离子吸附材料；所述支撑装置优选为网状结构；参见图4，图4为本发明提供的支撑装置的结构示意图。
为了进一步说明本发明，以下结合实施例对本发明提供的一种液体分布装置与金属离子过滤器进行详细描述。
以下实施例中所用的试剂均为市售。
实施例1
金属离子过滤器，包括：过滤器本体；所述过滤器本体的上部设置有液相进口即为正硅酸乙酯进口；液相进口的下方设置有液相接收装置，其边沿设置有小孔；液相接收装置的下方设置有液体分布装置；液体分布装置包括液体收集板，液体收集板上设置有分布有多个开孔，所述开孔上连接有进液管，进液管的高度为15mm；所述进液管不与开孔相连的一端设置有进液孔；液体分布装置相对于液相接收装置小孔的位置没有开孔；液体分布装置的下方设置有金属离子吸附材料；金属离子吸附材料分布在网状支撑装置上，支撑装置下方设置有液相出口即吸附后的正硅酸乙酯出口。
TEOS液相物料从TEOS液相进口进入金属离子过滤器中，TEOS液相物料会被液相物料接收装置收集，收集的物料过多后，会从液相物料接收装置边沿的小孔溢出，溢出的TEOS液相物料会漏到TEOS液相物料分布装置上，TEOS液相物料接收装置边沿的小孔正好对着TEOS液相物料分布装置靠近边沿处没有开孔的位置，这样TEOS液相物料会在TEOS液相物料分布装置上不断累积，累积到一定量，页面达到TEOS液相物料分布装置上的开孔高度，则TEOS液相物料会从各个开孔留下来。这样TEOS液相物料会均匀的留到金属离子吸附材料中。经过金属离子吸附材料吸附后的TEOS液相物料会从TEOS液相出口流出。
本实施例中金属离子吸附材料为改性树脂材料，材料为圆球形，直径大约为3～6mm；填料高度为1.8m；直径为40cm；流速1200吨/8000h；TESO液相物料处理前及处理后金属离子的检测结果见表1。
表1处理前后TESO液相物料中金属离子检测结果
Claims (8)
1.一种金属离子过滤器，其特征在于，包括：
过滤器本体；
所述过滤器本体的上部设置有液相进口；
所述过滤器本体的下部设置有液相出口；
所述过滤器本体内设置有液体分布装置；所述液体分布装置位于液相进口的下方；所述液体分布装置包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管；所述进液管位于液体分布装置与液相进口之间；
所述过滤器本体内设置有金属离子吸附材料；所述金属离子吸附材料位于液体分布装置与液相出口之间。
2.根据权利要求1所述的金属离子过滤器，其特征在于，还包括液相接收装置；所述液相接收装置的边沿设置有小孔；所述液相接收装置位于液相进口与液体分布装置之间，且液体分布装置相对于液相接收装置设置于小孔的位置没有开孔。
3.根据权利要求1所述的金属离子过滤器，其特征在于，所述液体分布装置上开孔呈同圆心形排列。
4.根据权利要求1所述的金属离子过滤器，其特征在于，还包括支撑装置；所述支撑装置位于液相出口的上方，用于支撑金属离子吸附材料。
5.根据权利要求1所述的金属离子过滤器，其特征在于，还包括测温装置；所述测温装置位于金属离子过滤器设置有金属离子吸附材料的位置。
6.根据权利要求1所述的金属离子过滤器，其特征在于，所述进液管的上部设置有进液孔。
7.一种液体分布装置，其特征在于，包括液体收集板；所述液体收集板上分布有开孔；所述开孔上连接有进液管。
8.根据权利要求7所述的液体分布装置，其特征在于，所述液体收集板上平均设置有多个开孔；所述多个开孔呈同心圆形排布。
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