CN110584814A - 一种氧化锆全瓷冠及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种氧化锆全瓷冠,涉及义齿制造领域,包括氧化锆层,氧化锆层外表面依次涂覆有结合层、牙本质瓷层、牙釉质瓷层、透明瓷层和釉层,结合层远离氧化锆层的表面设置有微槽。针对现有技术存在釉面易从氧化锆材质上剥落的问题,本发明通过在结合层远离氧化锆层的表面设置有微槽,改善结合层与牙本质瓷层之间的结合强度,防止义齿表层剥落。
Description
技术领域
本发明涉及义齿制造领域,更具体地说,它涉及一种氧化锆全瓷冠及其制造方法。
背景技术
当今社会,人们对口腔健康越来越重视,但现代社会因饮食习惯或因细菌感染等原因,常常导致现代人出现烂牙、蛀牙等牙问题,为了解决上述问题,患者一般都是选择镶嵌义齿。
目前的全氧化锆高仿真义齿结构,如专利公开号为CN106073920A的中国专利,包括有氧化锆层和釉面,氧化锆层的透光率从牙根往切面逐渐增大,釉面热固在氧化锆层表面,釉面带有仿天然牙齿颜料。
上述义齿的不同材料层结构复杂,患者镶嵌后,在日常咀嚼食物的过程中,因不同材料之间粘合力不高,渐渐地义齿的不同材料之间就会慢慢脱料剥落,导致经常需要对义齿进行修复,但修复后的义齿也不能保证长久耐用,增加患者护齿成本和工作量,而且严重影响患者牙齿的整体美观度。
发明内容
针对现有技术存在釉面易从氧化锆材质上剥落的问题,本发明的目的是提供一种氧化锆全瓷冠及其制造方法,其具有防止义齿表层剥落的优点。
为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:
一种氧化锆全瓷冠,包括氧化锆层,所述氧化锆层外表面依次涂覆有结合层、牙本质瓷层、牙釉质瓷层、透明瓷层和釉层,所述结合层远离所述氧化锆层的表面设置有微槽。
通过上述技术方案,在结合层表面开设微槽,增加结合层与牙本质瓷层之间的接触面,从而提高牙本质瓷层固定在氧化锆层上的强度,确保义齿表层不易剥落。
进一步的,所述氧化锆层外表面开设有凹槽。
通过上述技术方案,设置凹槽增加结合层与氧化锆层之间的接触面,提高结合层与氧化锆层之间的连接强度。
进一步的,多个所述凹槽形成纵横交错的网状槽。
通过上述技术方案,将凹槽设置为网状槽,通用性强,适用于多种类型材质的结合层。
进一步的,所述凹槽设置为点状槽。
通过上述技术方案,点状槽加工方便,但由于点状槽的孔径小,只适用于材质颗粒细的结合层。
一种氧化锆全瓷冠的制造方法,包括如下步骤:
S1、扫描患者牙齿数据并录入计算机;
S2、通过CAD技术绘制义齿设计图;
S3、根据设计图利用CAM技术加工出氧化锆内冠,并烧结;
S4、在氧化锆内冠表面涂上氧化锆结合层;
S5、烧结氧化锆结合层,对氧化锆结合层表面进行喷砂;
S6、在氧化锆结合层表面涂上牙本质瓷,并烧结;
S7、在牙本质瓷表面涂上牙釉质瓷,并烧结;
S8、在牙釉质瓷表面涂上透明瓷,并烧结;
S9、上釉烧结。
通过上述技术方案,氧化锆结合层表面进行喷砂,形成微槽,增加结合层与牙本质瓷层之间的接触面,从而提高牙本质瓷层固定在氧化锆层上的强度,确保义齿表层不易剥落。
进一步的,步骤S3中,氧化锆内冠烧结后,对氧化锆内冠外表面做喷砂处理,形成点状槽。
通过上述技术方案,点状槽加工方便,但由于点状槽的孔径小,只适用于材质颗粒细的结合层。
进一步的,步骤S3中,氧化锆内冠烧结后,采用刀具切割氧化锆内冠外表面,形成纵横交错的网状槽。
通过上述技术方案,开设网状槽,槽径较大,通用性强,适用于多用材质的结合层。
进一步的,步骤S4中,涂覆氧化锆结合层后,对氧化锆内冠做负压抽真空处理。
通过上述技术方案,抽真空处理用于排出点状槽或网状槽内的空气,便于氧化锆结合层充分填充至点状槽或网状槽内,从而提高氧化锆结合层与氧化锆内冠之间的连接强度。
进一步的,步骤S5中,氧化锆结合层表面经喷砂后,采用高压高温蒸汽喷射处理。
通过上述技术方案,采用高压高温蒸汽喷射处理,清除附着在氧化锆结合层上的沙粒。
进一步的,步骤S6中,在氧化锆结合层表面涂上牙本质瓷后,做负压抽真空处理,再进行烧结。
通过上述技术方案,确保牙本质瓷充分与氧化锆结合层接触,改善牙本质瓷与氧化锆结合层之间的连接强度。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
(1)通过在结合层表面开设微槽,增加结合层与牙本质瓷层之间的接触面,从而提高牙本质瓷层固定在氧化锆层上的强度,确保义齿表层不易剥落;
(2)进一步地,通过抽真空处理用于排出点状槽或网状槽内的空气,便于氧化锆结合层充分填充至点状槽或网状槽内,从而提高氧化锆结合层与氧化锆内冠之间的连接强度;
(3)进一步地,通过采用高压高温蒸汽喷射处理氧化锆结合层外表面,清除附着在氧化锆结合层上的沙粒,确保氧化锆结合层外表面形成微槽。
附图说明
图1是实施例一的结构示意图;
图2是图1中A部局部放大图。
附图标记:1、氧化锆层;2、结合层;3、牙本质瓷层;4、牙釉质瓷层;5、透明瓷层;6、釉层;7、微槽;8、凹槽。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和有益效果更加清楚,下面结合实施例及附图对本发明作进一步的详细说明,但本发明的实施方式不仅限于此。
实施例一
一种氧化锆全瓷冠,如图1和图2所示,包括氧化锆层1,氧化锆层1外表面依次涂覆有结合层2、牙本质瓷层3、牙釉质瓷层4、透明瓷层5和釉层6,结合层2远离氧化锆层1的表面开设有微槽7,多个凹槽8形成纵横交错的网状槽,提高氧化锆层1与牙本质瓷层3之间的附着力,氧化锆层1外表面开设有凹槽8,从而增加结合层2与氧化锆层1之间的附着力,而牙本质瓷层3、牙釉质瓷层4、透明瓷层5和釉层6之间,由于材质分子结构相近,它们之间的连接强度足够,从而实现涂覆的多个层不易从氧化锆层1上剥落。
实施例二
一种氧化锆全瓷冠,与实施例一的不同之处在于,凹槽8由结合层2受颗粒冲击形成,凹槽8呈点状槽,多个凹槽8错落设置在结合层2外表面,用于增加结合层2与氧化锆层1之间的附着力,使结合层2不易从氧化锆层1上剥落。
一种氧化锆全瓷冠的制造方法,包括如下步骤:
S1、扫描患者牙齿数据并录入计算机;
S2、通过CAD技术绘制义齿设计图;
S3、根据设计图利用CAM技术加工出氧化锆内冠,并烧结;
氧化锆内冠烧结后,采用喷砂机对氧化锆内冠外表面做喷砂处理;喷砂处理完后,采用高压高温蒸汽喷射处理氧化锆内冠外表面,杀菌消毒的同时,去除附着在氧化锆内冠外表面的沙粒,使氧化锆内冠外表面形成完整的点状槽,采用喷砂处理,加工方便,但由于点状槽的孔径小,只适用于材质颗粒细的结合层2;
或
氧化锆内冠烧结后,采用刀具切割氧化锆内冠外表面,形成纵横交错的网状槽,采用这种方式通用性强,适用于多用材质的结合层2;
S4、在氧化锆内冠表面涂上氧化锆结合层2,立即对氧化锆内冠做负压抽真空处理,抽取氧化锆结合层2内的气泡,便于氧化锆结合层2完全填充至点状槽或网状槽内。
S5、烧结氧化锆结合层2,接着采用喷砂机对氧化锆结合层2表面进行喷砂处理;
喷砂处理后,采用高压高温蒸汽喷射处理氧化锆结合层2表面,杀菌消毒的同时,去除附着在氧化锆结合层2表面的沙粒,使氧化锆结合层2外表面形成完整的微槽7。
S6、在氧化锆结合层2表面涂上牙本质瓷,做负压抽真空处理,便于牙本质瓷完全填充至微槽7内,再进行烧结;
S7、在牙本质瓷表面涂上牙釉质瓷,并烧结;
S8、在牙釉质瓷表面涂上透明瓷,并烧结;
S9、上釉烧结。
综上所述:
本发明使用时,通过在结合层2表面开设微槽7,增加结合层2与牙本质瓷层3之间的接触面,从而提高牙本质瓷层3固定在氧化锆层1上的强度,确保义齿表层不易剥落;通过抽真空处理用于排出点状槽或网状槽内的空气,便于氧化锆结合层2充分填充至点状槽或网状槽内,从而提高氧化锆结合层2与氧化锆内冠之间的连接强度;通过采用高压高温蒸汽喷射处理氧化锆结合层2外表面,清除附着在氧化锆结合层2上的沙粒,确保氧化锆结合层2外表面形成微槽7。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种氧化锆全瓷冠,包括氧化锆层(1),所述氧化锆层(1)外表面依次涂覆有结合层(2)、牙本质瓷层(3)、牙釉质瓷层(4)、透明瓷层(5)和釉层(6),其特征在于,所述结合层(2)远离所述氧化锆层(1)的表面设置有微槽(7)。
2.根据权利要求1所述的一种氧化锆全瓷冠及其制造方法,其特征在于,所述氧化锆层(1)外表面开设有凹槽(8)。
3.根据权利要求2所述的一种氧化锆全瓷冠及其制造方法,其特征在于,多个所述凹槽(8)形成纵横交错的网状槽。
4.根据权利要求2所述的一种氧化锆全瓷冠及其制造方法,其特征在于,所述凹槽(8)设置为点状槽。
5.一种氧化锆全瓷冠的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、扫描患者牙齿数据并录入计算机;
S2、通过CAD技术绘制义齿设计图;
S3、根据设计图利用CAM技术加工出氧化锆内冠,并烧结;
S4、在氧化锆内冠表面涂上氧化锆结合层(2);
S5、烧结氧化锆结合层(2),对氧化锆结合层(2)表面进行喷砂;
S6、在氧化锆结合层(2)表面涂上牙本质瓷,并烧结;
S7、在牙本质瓷表面涂上牙釉质瓷,并烧结;
S8、在牙釉质瓷表面涂上透明瓷,并烧结;
S9、上釉烧结。
6.根据权利要求5所述的一种氧化锆全瓷冠的制造方法,其特征在于,步骤S3中,氧化锆内冠烧结后,对氧化锆内冠外表面做喷砂处理,形成点状槽。
7.根据权利要求5所述的一种氧化锆全瓷冠的制造方法,其特征在于,步骤S3中,氧化锆内冠烧结后,采用刀具切割氧化锆内冠外表面,形成纵横交错的网状槽。
8.根据权利要求6或7所述的一种氧化锆全瓷冠的制造方法,其特征在于,步骤S4中,涂覆氧化锆结合层(2)后,对氧化锆内冠做负压抽真空处理。
9.根据权利要求5所述的一种氧化锆全瓷冠的制造方法,其特征在于,步骤S5中,氧化锆结合层(2)表面经喷砂后,采用高压高温蒸汽喷射处理。
10.根据权利要求5或9所述的一种氧化锆全瓷冠的制造方法,其特征在于,步骤S6中,在氧化锆结合层(2)表面涂上牙本质瓷后,做负压抽真空处理,再进行烧结。
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