CN110554003A - 一种测量一轴晶矿物双折射率的装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种测量一轴晶矿物双折射率的装置和方法，其中，所述装置包括偏光单元和干涉单元，其中，所述偏光单元包括：偏光显微镜和设置于所述偏光显微镜的放置一轴晶矿物薄片的载物台下方的起偏器，所述干涉单元包括：设置于所述偏光显微镜上方的分束器、设置于所述分束器一侧的激光器、设置于所述分束器另一侧的反射镜、设置于分束器上方的线阵CCD图像传感器、与所述线阵CCD图像传感器相电接的装载有干涉条纹技术软件的计算机以及设置于所述起偏器下方且能在上下方向上移动的平面反射镜。本发明的装置测量精度较高，在偏光显微镜下直接测得岩石薄片中一轴晶矿物的双折射率，可提高疑难矿物和少见矿物的鉴定效率。

Description

一种测量一轴晶矿物双折射率的装置及方法

技术领域

本发明涉及地质学和石油地质研究领域，特别涉及一种测量一轴晶矿物双折射率的装置及方法。

背景技术

自然界中的透明矿物有均质体和非均质体之分，其差别就在于是否产生双折射现象。双折射率是鉴定非均质矿物重要的光学常数，也是矿物各向异性的重要参数表现。在均质矿物中，光在各个方向均以相等的速度进行传播，而在非均质矿物中，光会产生双折射现象，分解成振动方向相互垂直、传播速度不同、折射率不同的两束光。地学研究中通常将岩石或矿物磨制成厚度约0.03mm的薄片，在偏光显微镜下观察其光学性质，若能准确测定非均质矿物的双折射率，便能为正确鉴别矿物及岩石命名提供重要的依据。

矿物的双折射率等于最大折射率与最小折射率之差，根据晶体光学理论，射入一轴晶矿物的光，有一组其振动方向垂直于光轴，传播速度不发生改变，称为常光(O光，也可称为寻常光)，对应的折射率为No，另一组光平行于入射方向和光轴所组成的平面振动，其折射率及速度取决于它们振动或传播的方向，称为非常光(e光)，在主截面内且平行于光轴方向振动的光线折射率，根据晶体是正光性还是负光性，可以是最大或最小折射率，表示为Ne。

多年来，对岩石薄片中非均质矿物双折射率的测量都缺乏有效的装置和设备，主要根据矿物在正交偏光下表现出的干涉色来估算。在正交偏光状态下，由于白光通过矿物时产生双折射，两偏振光波之间产生一定的光程差，因而会相互干涉，使非均质矿物产生干涉色。该方法建立在矿物干涉色与双折射率的相关性基础之上，矿物的干涉色是由白光干涉而成，光程差起主导作用，即一定的光程差对应一种干涉色，而光程差又与薄片厚度、双折射率有关，其公式为：

R＝d·(N1-N2)

式中：R-光程差；d-薄片厚度(标准为0.03mm)(N1-N2)-双折射率；

因此如果厚度相同，双折射率越大，则干涉色的级序越高；对同一种矿物，如果切取不同厚度，则厚度越大干涉色越高。

该方法由法国地质学家Auguste Michel-Lévy于1888年发明，且必须参照其制作的干涉色级序与双折射率关系表(Michel-Levy Birefringence Chart)来执行，这张图表反映了光程差及干涉色级序、薄片厚度和双折射率之间的关系，是双折射率的估算中最重要的依据。具体的操作步骤是：先在显微镜下寻找同一个矿物的若干个切面，利用石英楔或贝氏补偿器测出其最高干涉色(包括级序和颜色)，再利用干涉色级序与双折射率关系表，从纵轴(表示薄片厚度处)画一横线与测出的最高干涉色带相交，然后再在交点处沿着斜线即得出矿物的双折射率。

长期以来，这是对岩石薄片中非均质矿物双折射率进行估算的唯一方法，其不足之处是操作繁琐，效率低下，精度不高，而且人眼对颜色的识别差异会造成结果的较大误差。但双折射率是矿物鉴定中重要的光学参数，尤其现阶段随着油气勘探范围扩大，不再受限于传统的沉积岩，而变质岩、岩浆岩的鉴定中又面临越来越多疑难少见矿物的鉴定，因此，如何快速、准确、定量测量岩石薄片中非均质透明矿物的双折射率显得至关重要。

发明内容

为解决现有技术的缺点，本发明提出了一种测量一轴晶矿物双折射率的装置及方法，具体地，该装置及方法均用于岩石薄片中一轴晶矿物双折射率的测量。本发明该装置测量精度较高，在偏光显微镜下直接测得岩石薄片中一轴晶矿物的双折射率，可提高疑难矿物和少见矿物的鉴定效率。

为实现上述目的，本发明提出了一种测量一轴晶矿物双折射率的装置，其中，所述装置包括偏光单元和干涉单元，其中，

所述偏光单元包括：偏光显微镜和设置于所述偏光显微镜的放置一轴晶矿物薄片的载物台下方的起偏器，

所述干涉单元包括：设置于所述偏光显微镜上方的分束器、设置于所述分束器一侧的激光器、设置于所述分束器另一侧的反射镜、设置于分束器上方的线阵CCD图像传感器、与所述线阵CCD图像传感器相电接的装载有干涉条纹技术软件的计算机以及设置于所述起偏器下方且能在上下方向上移动的平面反射镜。

如上所述的装置，其中，所述偏光显微镜包括：偏光显微镜主体和设置于所述偏光显微镜主体内的检偏器，所述检偏器能够沿水平方向移动且其偏振化方向能够自由调节。

如上所述的装置，其中，所述平面反射镜通过能够伸缩的螺杆推动件与所述起偏器相接。

如上所述的装置，其中，所述分束器设置成安装在所述偏光显微镜的光路的中心轴的正上方且设置成与所述中心轴和所述螺杆推动件的轴线构成的平面以及与水平面均斜交呈45°放置。

如上所述的装置，其中，所述反射镜和所述分束器之间设置有补偿器。

如上所述的装置，其中，所述激光器构造成发射的光的波长为1300nm。

本发明还提出了一种测量一轴晶矿物的双折射率的方法，在该方法中，其使用如上所述的装置对待测量的测量一轴晶矿物的双折射率进行测量，其中，所述方法包括以下步骤：

S1)移除平面反射镜，开启偏光显微镜的投射照明系统，旋转偏光显微镜的载物台直至找出待测的一轴晶矿物的垂直于其光轴的切面；

S2)安装平面反射镜，调节所述平面反射镜与起偏器之间的距离直至计算机上的干涉条纹技术软件显示干涉条纹数为零，并记录此时所述平面反射镜与所述起偏器之间的距离L₁；

S3)恢复偏光显微镜的投射照明系统，旋转所述载物台直至找出待测的一轴晶矿物的平行于其光轴的切面；

S4)恢复干涉单元，调节所述平面反射镜与起偏器之间的距离直至计算机上的干涉条纹技术软件显示干涉条纹数为零，并记录此时所述平面反射镜与所述起偏器之间的距离L₂；

S5)根据记录的L₁、L₂以及待测的一轴晶矿物的薄片样品的厚度d计算得出所述一轴晶矿物的双折射率。

如上所述的方法，其中，通过螺杆推动件来调节所述平面反射镜与所述起偏器之间的距离，其中，在步骤S2)中，通过所述螺杆推动件上下调节所述平面反射镜的相对位置，直至所述干涉条纹计数软件上显示干涉条纹数为零，记录此时螺杆推动件的螺杆读数Lo；以及

其中，在步骤S4)中，通过所述螺杆推动件上下调节所述平面反射镜的相对位置，直至所述干涉条纹计数软件上显示干涉条纹数为零，记录此时螺杆推动件的螺杆读数Le。

如上所述的方法，其中，根据记录的Lo、Le以及待测的一轴晶矿物的薄片样品的厚度d计算得出所述一轴晶矿物的双折射率。

如上所述的方法，其中，根据以下公式计算得出所述双折射率，

其中，△N为所述双折率，|Le-Lo|为所述平面反射镜在两次测量中的相对距离差的绝对值，d为所述一轴晶矿物的薄片样品的厚度。

本发明的上述装置主要由干涉单元和偏振系统组成，干涉单元通过分束器将入射光分为反射光束和透射光束，两束光分别反射回来之后成为相干光并形成等倾干涉条纹，为线阵CCD图像传感器捕捉与采集，同时将光信号转换为电信号，然后经过A/D转换在干涉条纹计数软件显示结果，偏振系统用于观察并选取垂直于待测的一轴晶矿物的光轴的矿物切面与平行于该矿物的光轴的矿物切面(即选取两个特殊的切面)，分别代表常光与非常光，通过干涉条纹的计数及平面镜移动距离的测量，可计算出一轴晶矿物的双折射率值。该装置可作为附件安装在偏光显微镜上，测量方法及数据处理简单可行，测量精度较高，在偏光显微镜下直接测得岩石薄片中一轴晶矿物的双折射率，可提高疑难矿物和少见矿物的鉴定效率。

本发明的装置采用了干涉法和偏振法相结合的方式，利用光通过垂直于光轴(⊥OA)、平行于光轴(//OA)的两个矿物切面产生的干涉现象，分别获得常光与非常光所代表的折射率极值，从而计算出一轴晶矿物的双折射率。

与传统方法相比，本发明的有益效果为：1)快速检测一轴晶矿物的双折射率；2)基于光学干涉原理，精确度高；3)测量方法、数据处理简单；4)适用于所有一轴晶矿物双折射率的测量；5)不直接接触样品，不具破坏性；6)与普通偏光显微镜匹配，便于安装维护。利用该方法，可在偏光显微镜下直接测得岩石薄片中一轴晶矿物的双折射率，从而提高疑难矿物和少见矿物的鉴定效率。

附图说明

在此描述的附图仅用于解释目的，而不意图以任何方式来限制本发明公开的范围。另外，图中的各部件的形状和比例尺寸等仅为示意性的，用于帮助对本发明的理解，并不是具体限定本发明各部件的形状和比例尺寸。本领域的技术人员在本发明的教导下，可以根据具体情况选择各种可能的形状和比例尺寸来实施本发明。

图1为本发明的测量一轴晶矿物双折射率的装置的结构示意图；

图2为本发明的一轴晶矿物(正光性)光率体的垂直于光轴的切面的示意图；

图3为本发明的一轴晶矿物(正光性)光率体的平行于光轴的切面的示意图；

图4为本发明的一轴晶矿物(正光性)光率体的斜角于光轴的切面的示意图。

具体实施方式

结合附图和本发明具体实施方式的描述，能够更加清楚地了解本发明的细节。但是，在此描述的本发明的具体实施方式，仅用于解释本发明的目的，而不能以任何方式理解成是对本发明的限制。在本发明的教导下，技术人员可以构想基于本发明的任意可能的变形，这些都应被视为属于本发明的范围，下面将结合附图对本发明作进一步说明。

本发明的创新在于将干涉法与偏光显微镜的原理相结合，提供一种岩石薄片中一轴晶矿物双折射率测量装置，该装置可作为附件安装在偏光显微镜上，并包含显微镜的偏光单元(也可称为偏光系统)。装置如图1所示，包括偏光单元和干涉单元(也可称为干涉系统)，其中，偏光单元包括：偏光显微镜和设置于所述偏光显微镜的放置一轴晶矿物薄片的载物台103下方的起偏器104，在一具体实施例中，所述偏光单元主要包括偏光显微镜主体101、检偏器102、载物台103、起偏器104，用于观察并选取一轴晶矿物平行于光轴、垂直于光轴的特殊切面。

其中，所述起偏器104的方位及偏振化方向固定，光线经过之后变为单一方向的线偏振光。所述检偏器102的位置不固定，可在偏光显微镜主体101内平移推进或推出，其方位及偏振化方向可自由调节，但在测试之前，需调整检偏器102使其偏振化方向(也可以称为振动方向)与起偏器104的偏振化方向(也可以称为振动方向)相互垂直。

所述载物台103为一圆形台水平放置，可旋转360°，在测试之前，显微镜必须经过校正，使载物台中心、物镜中心处于一条中轴线上。

所述干涉单元主要包括激光器201、平面反射镜202、精密螺杆推动系统203(即螺杆推动件)、分束器204、补偿器205、平面反射镜206、线阵CCD图像传感器207、干涉条纹计数软件208(其装载在计算机上)，如图所示依次安装在偏光显微镜的各个部位，用于将入射光分束为反射光束和透射光束并产生干涉，再采集干涉条纹信号并计数。

激光器201发出的光的波长为1300nm，具有良好的穿透性，通过光纤安装在分束器204的正左侧，使发射出的单色光水平入射。

平面反射镜202安装在显微镜光路中心轴的正下方，并垂直于中心轴。所述精密螺杆推动系统203安装在所述平面反射镜202正右侧上方，并通过卡口与所述平面反射镜202相连，螺杆平行于显微镜中心轴，通过旋转螺杆可实现螺杆推动系统203带动平面反射镜202上下移动，从而保证平面反射镜202在光路中可平稳上下移动，同时可测得高精度的平移距离；在一具体实施例中，精密螺杆推动系统203通过旋转螺杆实现其伸缩，并且螺杆上带有刻度，可以实现通过螺杆的读取的刻度值来得到平面反射镜202上下移动的相对距离。

所述分束器204通过显微镜顶端的光路入口，并安装在显微镜光路中心轴的正上方，分束器204与显微镜中心轴和与螺杆推动件的轴线组成的平面(可简称偏光显微镜的中心轴与螺杆推动系统组成的平面)及水平面均斜交呈45°放置，作用是将入射光分为反射光束和透射光束，且光强基本相等。

补偿器205安装在分束器204的正右侧，并与其平行放置，用于光路补偿。所述平面反射镜206安装在补偿器205的正右侧，垂直于显微镜中心轴和螺杆系统组成的平面。

线阵CCD图像传感器207安装在分束器204的正上方，垂直于偏光显微镜的中心轴，用于干涉信号的捕捉与采集，以及将光信号转换为电信号，以及A/D转换。

所述干涉条纹计数软件208为一套软件，安装在电脑上，用于对干涉条纹进行精确计数。

所述装置的工作原理如下：

(1)激光器201发射波长为1300nm的激光，经过分束器204之后，一部分发生透射(图1中从分束器204向右侧发出的光)，一部分发生反射(图1中从分束器204向下侧发出的光)；

(2)反射光束经过起偏器104变为线偏振光，再经过平面反射镜202反射回来，光的检偏器102的偏振化方向与起偏器104的偏振化方向一致可使反射光的振动方向保持不变；

(3)透射光束经补偿器205射向平面反射镜206，反射回来后再通过补偿器205形成反射；

(4)两束光(上述(1)中的反射光束和透射光束)经过平面反射镜202和平面反射镜206的反射后，又经分束器204反射和折射，成为相干光并形成等倾干涉条纹，通过精密螺杆推动系统203上下垂直调节平面反射镜202的相对位置，设平面反射镜202移动的距离为L，入射光的倾角为θ，波长为λ，空气折射率为1，根据光的干涉原理，光程差通过下式计算得出：

Δ＝2L cosθ (1)

根据上式(1)可知，当L一定时，光程差△只取决于θ，这样，以中心轴为对称轴的同一θ角入射的光线，反射后形成一个圆形干涉环，以各种不同倾角入射的光线，反射后形成一组同心的明暗相间等倾干涉环，形成亮条纹和暗条纹的条件分别是：

(5)根据起偏器104和检偏器102处于正交偏振光下一轴晶矿物的干涉色特征，选取垂直于矿物的光轴(⊥OA)、平行于光轴(//OA)两个矿物切面分别测试。

当偏振光入射垂直于光轴的矿物切面时，获得的是常光O光(寻常光)，对应的折射率为No，设矿物的厚度为d，整个光路的光程差为：

Δ＝2[L+d(No-1)]cosθ＝kλ (3)

干涉条纹总数为：

当L+d(No-1)＝0时，则M＝0，干涉条纹总数为零。

因此，调节平面反射镜202的位置，当条纹计数器显示为零时，则应有

当偏振光入射平行于光轴(即OA轴，也可简称为C轴)的矿物切面时，获得的是非常光e光，其干涉色最高的位置对应的折射率为Ne，则整个光路的光程差为：

Δ＝2[L+d(No-1)]cosθ＝kλ (6)

干涉条纹总数为：

当L+d(Ne-1)＝0时，则M＝0，干涉条纹总数为零。

因此，调节平面反射镜202的位置，当条纹计数器显示为零时，则应有

如所测一轴晶矿物为正光性，则Ne＞No，如为负光性，则Ne＜No，

因此取其绝对值，双折射率

|Le-Lo|为平面反射镜202在两次测量中的相对距离差，矿物的厚度d已知，便可计算出该一轴晶矿物的双折射率。

(6)一轴晶矿物光率体中的主要切面(以正光性为例，如图2-4)：

在一轴晶光率体中，根据任意方向的入射光可以得到无数个不同长、短半径的椭圆切面，但这些切面可以被归纳为下面三种类型：

①垂直光轴的圆切面(⊥OA)：光率体切面为圆，其半径等于No，光波垂直这种切面入射(平行光轴入射)时，不发生双折射，其折射率等于No(图2)，双折射率为0；

②平行光轴的椭圆切面(//OA)：光率体切面为椭圆，光波垂直这种切面入射，发生双折射分解成两种偏光，其振动方向必然平行椭圆切面的长短半径，并分别对应着两个主折射率Ne和No(图3)，即干涉色最高与最低的两个方位，由于Ne和No为旋转椭球体中的两个极值半径，因此，该切面上的双折射率为一轴晶的最大双折射率ΔNmax＝∣Ne-No∣，每种矿物的ΔNmax是固定的，故它是鉴定矿物的一个重要光性参数。

③斜交光轴的椭圆切面(≠OA)：光率体切面为椭圆(Ne′No面)，光波斜交光轴入射，发生双折射分解成两种偏光，对应的折射率分别为No和Ne′(图4)，ΔN＝∣Ne′-No∣，由于Ne′介于No和Ne之间，因此，该切面上的ΔN必然小于该光率体的ΔNmax。

(6)是对(5)中为何选取垂直于光轴(⊥OA)、平行于光轴(//OA)两个矿物切面分别测试的补充说明。

本发明还提供了一种一轴晶矿物双折射率测量装置的使用方法，即通过本发明的装置来测试一轴晶矿物双折射率的步骤。具体操作步骤为：

1)调节偏光显微镜中心轴(即偏光显微镜的中心轴，也可简称为显微镜中心轴)，将本发明装置可以作为光学附件依次安装在偏光显微镜上，检偏器102(即偏光显微镜的检偏器，也可称为显微镜检偏器)的偏振化方向调至与起偏器104的偏振化方向一致；

2)开启激光器201，调节干涉单元，使出射的光分别经过反射与透射光路，成为相干光并形成等倾干涉条纹，为线阵CCD图像传感器捕捉与采集，同时将光信号转换为电信号，然后经过数模转换，通过干涉条纹计数软件显示结果；

3)移除平面反射镜202，开启偏光显微镜透射照明系统，将岩石薄片放置于偏光显微镜载物台中心处，先将显微镜检偏器的偏振化方向调至与起偏器的偏振化方向正交状态，旋转载物台，观察并寻找待测一轴晶矿物垂直于光轴(⊥OA)的切面(载物台可旋转360°，该切面保持黑暗或灰色)，再将检偏器的偏振化反向调至与起偏器的偏振化方向一致；

4)安装平面反射镜202，通过精密螺杆推动系统203上下垂直调节平面反射镜202的相对位置，直至干涉条纹计数软件显示条纹数为零，记录此时的螺杆读数Lo；

5)恢复偏光显微镜透射照明系统，在正交状态下观察并寻找待测一轴晶矿物平行光轴的切面(//OA)(载物台旋转360°，在该切面能观察到最高干涉色)，将载物台旋转至矿物最高干涉色的位置，检偏器的振动方向调至与起偏器一致；

6)恢复干涉单元，通过精密螺杆推动系统上下垂直调节平面反射镜202的相对位置，直至干涉条纹计数软件显示条纹数为零，记录此时的螺杆读数Le；

7)通过平面反射镜202在两次测量中的相对距离差|Le-Lo|和矿物的厚度，便可根据上述公式(9)计算出该一轴晶矿物的最大双折射率。

实施例：

选取粗粒石英砂岩来测量其中一轴晶矿物石英的双折射率，岩石薄片样品编号1710106，取自鄂尔多斯盆地杭锦旗地区下石盒子组，在偏光显微镜下，石英含量90％以上，多呈粒状，粒度在0.5-2mm，颗粒间呈线接触。石英矿物无色透明，低突起，无解理，最高干涉色一级黄白。

利用本发明装置及使用方法对这种矿物进行折射率的测试，具体实验方法如下：

1)调节显微镜中心轴，将本发明装置作为光学附件依次安装在偏光显微镜上，显微镜检偏器的振动方向调至与起偏器一致；

2)开启激光器，调节干涉单元，使出射的光分别经过反射与透射光路，成为相干光并形成等倾干涉条纹，为线阵CCD图像传感器捕捉与采集，同时将光信号转换为电信号，然后经过数模转换，通过干涉条纹计数软件显示结果；

3)移除平面反射镜202，开启偏光显微镜透射照明系统，将岩石薄片放置于偏光显微镜载物台中心处，先将显微镜检偏器的振动方向调至与起偏器正交状态，观察并寻找石英垂直于光轴(⊥OA)的切面(载物台旋转360°，该切面保持黑暗)，再将检偏器振动方向调至与起偏器一致；

4)安装平面反射镜202，通过精密螺杆推动系统上下垂直调节平面反射镜202的相对位置，直至干涉条纹计数软件显示条纹数为零，记录此时的螺杆读数Lo；

5)恢复偏光显微镜透射照明系统，在正交状态下观察并寻找石英平行光轴的切面(//OA)(载物台旋转360°，在该切面能观察到最高干涉色一级黄白)，将载物台旋转至矿物最高干涉色的位置，检偏器的振动方向调至与起偏器一致；

6)恢复干涉单元，通过精密螺杆推动系统上下垂直调节平面反射镜202的相对位置，直至干涉条纹计数软件显示条纹数为零，记录此时的螺杆读数Le；

7)根据平面反射镜202在两次测量中的相对距离差|Le-Lo|和矿物的厚度0.03mm，可计算出石英的最大双折射率ΔN＝0.009。

需要说明的是，对于恢复偏光显微镜透射照明系统可以理解成操作者通过照明系统来找到矿物的相应的切面，即在步骤3)中可以不关闭透射照明系统，由于透射照明系统发出的光与经由平面反射镜202的反射光不相关干扰，即使在步骤3)中透射照明系统处于打开状态也可以进行步骤4)的操作，当然本领域的技术人员也可以在步骤3)之后将透射照明系统关闭，进行步骤5)时，再开启透射照明系统即可，恢复干涉单元与其具有相似的意思，在此不再赘述。

Claims (10)

1.一种测量一轴晶矿物双折射率的装置，其特征在于，所述装置包括偏光单元和干涉单元，其中，

所述偏光单元包括：偏光显微镜和设置于所述偏光显微镜的放置一轴晶矿物薄片的载物台下方的起偏器，

所述干涉单元包括：设置于所述偏光显微镜上方的分束器、设置于所述分束器一侧的激光器、设置于所述分束器另一侧的反射镜、设置于分束器上方的线阵CCD图像传感器、与所述线阵CCD图像传感器相电接的装载有干涉条纹技术软件的计算机以及设置于所述起偏器下方且能在上下方向上移动的平面反射镜。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述偏光显微镜包括：偏光显微镜主体和设置于所述偏光显微镜主体内的检偏器，所述检偏器能够沿水平方向移动且其偏振化方向能够自由调节。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述平面反射镜通过能够伸缩的螺杆推动件与所述起偏器相接。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述分束器设置成安装在所述偏光显微镜的光路的中心轴的正上方且设置成与所述中心轴和所述螺杆推动件的轴线构成的平面以及与水平面均斜交呈45°放置。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的装置，其特征在于，所述反射镜和所述分束器之间设置有补偿器。

6.根据权利要求1至4中任意一项所述的装置，其特征在于，所述激光器构造成发射的光的波长为1300nm。

7.一种使用如权利要求1至6中的任意一项所述的装置测量一轴晶矿物的双折射率的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

S1)移除平面反射镜，开启偏光显微镜的投射照明系统，旋转偏光显微镜的载物台直至找出待测的一轴晶矿物的垂直于其光轴的切面；

S2)安装平面反射镜，调节所述平面反射镜与起偏器之间的距离直至计算机上的干涉条纹技术软件显示干涉条纹数为零，并记录此时所述平面反射镜与所述起偏器之间的距离L₁；

S3)恢复偏光显微镜的投射照明系统，旋转所述载物台直至找出待测的一轴晶矿物的平行于其光轴的切面；

S4)恢复干涉单元，调节所述平面反射镜与起偏器之间的距离直至计算机上的干涉条纹技术软件显示干涉条纹数为零，并记录此时所述平面反射镜与所述起偏器之间的距离L₂；

S5)根据记录的L₁、L₂以及待测的一轴晶矿物的薄片样品的厚度d计算得出所述一轴晶矿物的双折射率。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，通过螺杆推动件来调节所述平面反射镜与所述起偏器之间的距离，其中，在步骤S2)中，通过所述螺杆推动件上下调节所述平面反射镜的相对位置，直至所述干涉条纹计数软件上显示干涉条纹数为零，记录此时螺杆推动件的螺杆读数Lo；以及

其中，在步骤S4)中，通过所述螺杆推动件上下调节所述平面反射镜的相对位置，直至所述干涉条纹计数软件上显示干涉条纹数为零，记录此时螺杆推动件的螺杆读数Le。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，根据记录的Lo、Le以及待测的一轴晶矿物的薄片样品的厚度d计算得出所述一轴晶矿物的双折射率。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，根据以下公式计算得出所述双折射率，

其中，△N为所述双折率，|Le-Lo|为所述平面反射镜在两次测量中的相对距离差的绝对值，d为所述一轴晶矿物的薄片样品的厚度。