CN110515245A - 一种激光扫描液晶器件的制作方法及一种液晶器件 - Google Patents

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Abstract

本发明属于光电器件技术领域，尤其涉及一种激光扫描液晶器件的制作方法及一种液晶器件，其中，一种激光扫描液晶器件的制作方法包括：对设置有尖劈结构的基板表层溅射电极层；在形成有所述电极层的基板上设置定向层；选取第一基板及第二基板分别进行取向，所述第一基板与第二基板上设置有所述定向层；将完成取向的所述第一基板与所述第二基板贴合形成腔体，所述腔体内设置有液晶。本发明能够扩大光束扫描器件的光束扫描角度。

Description

一种激光扫描液晶器件的制作方法及一种液晶器件
技术领域
本发明属于光电器件技术领域，尤其涉及一种激光扫描液晶器件的制作方法及一种液晶器件。
背景技术
激光扫描技术在民用及军事很多领域具有广泛的应用，如：自动驾驶雷达、机器人视觉、激光显示、激光通讯、激光复印，军事领域的激光制导、空间激光通讯等。为实现激光扫描，针对不同应用领域，人们先后开发出了振镜、快速反射镜、微机电系统、声光扫描等技术。然而，这些技术都存在一定程度的问题，如：工作范围有限、失真、机械磨损、体积大、精度不高等问题。
进入21世纪以来，国内外兴起对基于液晶相控阵光束扫描技术研究，实现了电控双折射棱镜、多路全息光栅和液晶相控阵级联等。液晶作为空间光调制器在光电信息处理中得到重视和应用，例如：液晶可调谐滤波器，以液晶可调谐滤波器为基础的活体内萤光影像系统，由于采用了液晶多光谱影像采集及分析技术，一定程度上改善了光标定物的灵敏度和多重色彩的精确性，但是，光束扫描的角度依然受到限制。可见，现有技术中，光束扫描器件存在扫描角度有限的问题。
发明内容
本发明实施例提供一种激光扫描液晶器件的制作方法，旨在解决现有技术中光束扫描器件扫描角度有限的问题。
本发明实施例是这样实现的，提供一种激光扫描液晶器件的制作方法，包括步骤:
对设置有尖劈结构的基板表层溅射电极层；
在形成有所述电极层的基板上设置定向层；
选取第一基板及第二基板分别进行取向，所述第一基板与第二基板上设置有所述定向层；
将完成取向的所述第一基板与所述第二基板贴合形成腔体，所述腔体内设置有液晶。
更进一步地，所述对设置有尖劈结构的基板表层溅射电极层之前，还包括步骤：
在所述基板上设置多个所述尖劈结构，所述尖劈结构与水平方向之间形成有角度，且多个所述尖劈结构呈周期性排列。
更进一步地，所述在所述基板上设置多个尖劈结构的步骤具体包括：
根据预设的大小切取基板，并对所述基板进行清洗并烘干；
对烘干后的基板进行旋涂光刻胶，对所述光刻胶加热固化；
对所述固化后的光刻胶进行光刻，形成所述尖劈结构。
更进一步地，所述对设置有尖劈结构的基板表层溅射电极层的步骤具体包括：
将设置有所述尖劈结构的基板放置在镀膜设备中，对所述尖劈结构的表面溅射电极层；
将溅射有电极层的基板取出进行清洗并烘干。
更进一步地，所述在形成有所述电极层的基板上设置定向层的步骤具体包括：
对基板上形成有电极层的尖劈结构旋涂聚酰亚胺或光取向聚酰亚胺，形成液晶取向层；
对形成有所述液晶取向层的基板进行加热固化，形成所述定向层。
更进一步地，所述选取第一基板及第二基板分别进行取向的步骤具体包括：
选取两块设置有所述定向层的基板作为所述第一基板及第二基板；
将所述第一基板与第二基板镜像对称设置，通过摩擦或光照对所述第一基板及第二基板进行取向。
更进一步地，所述将完成取向的所述第一基板与所述第二基板贴合形成腔体的步骤具体包括：
在所述第一基板上设置液晶框，所述液晶框设置在所述尖劈结构的四周，并在侧面设置有注液晶口；
在所述液晶框上通过封接胶设置出液晶封接框；
将所述第二基板与设置有所述液晶封接框的第一基板贴合形成所述腔体；
对所述液晶封接框进行固化，形成液晶盒。
更进一步地，所述对所述液晶封接框进行固化，形成液晶盒的步骤之后，具体还包括步骤：
将预先设置好的液晶通过真空灌注到所述液晶盒；
对所述注液晶口进行胶封并固化；
在所述第二基板上表面设置起偏器，所述起偏器的设置根据预设好的偏转光角度进行确定。
本发明还提供一种液晶器件，包括：基板，所述基板上设置有周期性排布的尖劈结构。
本发明还提供一种液晶器件，包括上述具体实施例提供的任一激光扫描液晶器件的制作方法。
本发明所达到的有益效果：本发明由于在所述基板上设置所述尖劈结构，并在所述尖劈结构上依次设置所述电极层及取向层，将设置有所述电极层及所述取向层的所述第一基板与第二基板进行贴合，在所述第一基板与所述第二基板中形成腔体，在所述腔体内注入液晶，当光束光线垂直入射到第二基板表面，光线经过起偏器后变成线偏振光，由于界面两侧的折射率不同而产生光束的偏转，当所述线偏振光到达所述第二基板的尖劈结构倾斜界面进入液晶层后，达到第一基板的倾斜界面后会再次进行偏转，并且由于液晶对平行于液晶分子的光偏振方向与垂直于液晶分子光偏振方向的光的折射率不同，因此用电压调节液晶分子的转向，可调节入射的所述线偏振光的折射率值，所以，本发明能够扩大光束扫描的角度。
附图说明
图1是本发明实施例一提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法具体流程图；
图2是本发明实施例二提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法具体流程图；
图3是本发明实施例二中步骤S201的具体流程图；
图4是本发明实施例一中步骤S101的具体流程图；
图5是本发明实施例一中步骤S102的具体流程图；
图6是本发明实施例一中步骤S103的具体流程图；
图7是本发明实施例一中步骤S104的具体流程图；
图8是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体流程图；
图9是本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图；
图10是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图；
图11是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图；
图12是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图；
图13是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图；
图14是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图；
图15是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图；
图16是本发明实施例提供的另一种激光扫描液晶器件的制作方法的具体结构示意图。
其中，1、尖劈结构，2、基板，21、第一基板，22、第二基板，3、电极层，4、定向层，5、腔体，6、液晶，7、液晶封接框，8、注液晶口，9、起偏器，10a、第一倾斜界面，10b、第二倾斜界面，10c、第一基板平面。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明由于在基板上设置尖劈结构，并在尖劈结构上依次设置电极层及取向层，将设置有电极层及取向层的第一基板与第二基板进行贴合，在第一基板与第二基板中形成腔体，在腔体内注入液晶，当光束光线垂直入射到第二基板表面，光线经过起偏器后变成线偏振光，由于界面两侧的折射率不同而产生光束的偏转，当线偏振光到达第二基板的尖劈结构倾斜界面进入液晶层后，达到第一基板的倾斜界面后会再次进行偏转，并且液晶对平行于液晶分子的光偏振方向与垂直于液晶分子光偏振方向的光的折射率不同，因此用电压调节液晶分子的转向，可调节入射的线偏振光的折射率值，所以，本发明能够扩大光束扫描的角度。
实施例一
如图1所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。结合图9对应的结构示意图，本实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法，包括步骤:
S101、对设置有尖劈结构1的基板2表层溅射电极层3；
S102、在形成有电极层3的基板2上设置定向层4；
S103、选取第一基板21及第二基板22分别进行取向，第一基板21与第二基板22上设置有定向层4；
S104、将完成取向的第一基板21与第二基板22贴合形成腔体5，腔体5内设置有液晶6。
在本实施例中，基板2可以是作为衬底，其第一面设置有尖劈结构1，另一面设置为平面。尖劈结构1可以是多个，且可以是统一方向的斜齿状，也可以是弧面状等。每一个尖劈与水平方向形成的角度一致，尖劈的周期长度可以选择在3-20um。尖劈结构1的倾斜界面与基板2的平面具有不同的折射率，当光束垂直入射到基板2上后进入腔体5，在尖劈的倾斜界面会发生折射。上述的电极层3为透明导电层，对应的厚度可以是在20nm-200nm范围内。上述定向层4可以是聚酰亚胺层(PI层)，也可以是光取向聚酰亚胺层，其厚度可以是在10nm-80nm之间。定向层4设置在电极层3上面。第一基板21与第二基板22均是形成有电极层3和定向层4的基板2，第一基板21与第二基板22将平面设置在外侧，将尖劈结构1设置在内侧，且第一基板21与第二基板22之间形成镜像对称设置，其取向的方向可以是根据液晶器件的总体设置进行确定。其基板2的厚度可以是大于尖劈结构1的厚度。基板2的第一端与第二端(图中左右两侧)跟设置在其上的尖劈结构1之间存在一定的距离，该距离可以是用于设置封接胶将第一基板21与第二基板22进行贴合形成腔体5，其腔体5中可以设置液晶6，用于呈现光散射。
本发明通过在基板2上设置尖劈结构1，让尖劈结构1呈现出一个倾斜界面，并将两片设置有定向层4的第一基板21和第二基板22镜像对称设置，使设置有尖劈结构1的一面位于基板2内侧，则会形成第一尖劈面与第二尖劈面，第一尖劈面与第二尖劈面、平面的折射率均不同。当光线垂直入射到器件表面，光线经过偏光片后，光线变成线偏振光，到达第二基板22的外侧平面进入液晶层时，在第一倾斜界面10a上发射折射，穿过液晶层后在第二倾斜界面10b上再次发生折射，当光束穿出第一基板21在第一基板21的第一基板平面10c又一次发生折射，从光束入射开始到出射经过多次折射；且由于液晶6对平行于液晶分子的光偏振方向与垂直于液晶分子光偏振方向的光的折射率不同，因此用电压调节液晶分子的转向，可调节入射的线偏振光的折射率值，所以，本发明可以扩大光束扫描的角度。
实施例二
如图2所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。在实施例一的基础上，结合图10对应的结构示意图，在步骤S101之前，还包括步骤：
S201、在基板2上设置多个尖劈结构1，尖劈结构1与水平方向之间形成有角度，且多个尖劈结构1呈周期性排列。
在本实施例中，设置尖劈结构1可以是通过在基板2上设置光刻胶，通过压印方法或者光刻方法对光刻胶进行操作，使其形成具有一定角度的周期性的尖劈结构1。光刻方法可以是通过光刻机进行光刻，光刻机可以是沉浸式光刻机，对光刻胶具有一定的腐蚀性，可以根据需要多次调整，设置成预先确认的形状，如本实施例中，将尖劈结构1设置为锯齿状。在进行光刻后还可以是通过化学机械对表面进行研磨加工等。对光刻胶进行光刻可以是从顶部到底部之间进行斜角光刻，形成一个具有倾斜面的直角三角结构，平行四边形结构等，光刻后余下的部分即为尖劈，尖劈结构1的高度可以是光刻胶的高度。
这样，通过设置尖劈结构1在基板2上，当光束垂直第二基板22入射到尖劈结构1的第二倾斜界面10b后发生折射形成偏转角，当折射后的光线，入射到第一基板21第一倾斜界面10a后会再次折射形成偏转角，从第一基板21的第一基板平面10c出射后还会发生一次偏转，所以，设置为尖劈结构1有利于扩大光束扫描器件的光束扫描角度。
实施例三
如图3所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。在实施例一至二的基础上，S201的步骤具体包括：
S301、根据预设的大小切取基板2，并进行清洗及烘干；
S302、对烘干后的基板2进行旋涂光刻胶，对光刻胶加热固化；
S303、对固化后的光刻胶进行光刻，形成尖劈结构1。
在本实施例中，基板2的大小尺寸可以是根据需求预先设置，对基板2进行清洗可以避免环境中的灰尘等污染物质对其造成影响，可以是在清洗剂中清洗，用纯水洗净，并将纯水烘干便于后续加工。在烘干后的基板2上设置光刻胶，可以是通过旋涂或者滚涂的方法设置，光刻胶为透明材质的高分子材料，其厚度可以在1-2um的范围内。光刻胶旋涂完成后需要将其进行固化，固化便于将其设置为所需的形状。可以通过压印的方式将固化后的光刻胶设置为一定角度的周期性的尖劈结构1，其角度可以是与水平方向成30°。当然，还可以是通过光刻机对其进行一次或者多次光刻形成所需的图形，例如：先进行一次直角刻蚀，再进过一次斜角刻蚀或者倒斜角刻蚀等。尖劈结构1可以是一个垂直三角形结构，也可以是钝角三角形结构等。因光刻胶形成尖劈结构1，所以，最终形成的尖劈结构1的厚度可以是光刻胶的厚度。
这样，通过将在基板2上设置光刻胶，并将光刻胶进行压印或者光刻，形成具有一定角度及周期性的尖劈结构1，其尖劈结构1具有不同于平面的折射率，有利于改变入射光入射后光线的方向，扩大入射光束的扫描角度。
实施例四
如图4所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。在实施例一的基础上，结合图11对应的结构示意图，步骤S101具体包括：
S401，将设置有尖劈结构1的基板2放置在镀膜设备中，对尖劈结构1的表面溅射电极层3；
S402，将溅射有电极层3的基板2取出进行清洗并烘干。
在本实施例中，镀膜设备可以是铟锡氧化物(IndiumTinOxide，简称ITO)镀膜设备。将设置好尖劈结构1的基板2放置在ITO镀膜设备的腔体5内，对着尖劈结构1的倾斜表面溅射(射频溅射或磁控溅射)一层In2O3或SnO2等材料形成电极层3，电极层3中铟锡低价化合物愈少愈好，溅射可以是在一定的真空状态下进行。除了溅射方式，还可以通过喷涂、蒸发等。电极层3的厚度可以是在20um-200um范围内。对设置有电极层3的基板2取出后，同样适用纯水进行清洗后烘干，避免污染物对其后续工艺造成影响。这样，在尖劈结构1上设置一层电极层3，以一定能量的粒子(离子或中性原子、分子)轰击尖劈的表面，使尖劈表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出尖劈表面。
实施例五
如图5所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。在实施例一的基础上，步骤S102具体包括：
S501、对基板2上形成有电极层3的尖劈结构1旋涂聚酰亚胺或光取向聚酰亚胺，形成液晶取向层；
S502、对形成有液晶取向层的基板2进行加热固化，形成定向层4。
在本实施例中，PI层热稳定性高，且可在耐极低温中也不会脆裂，其抗张强度都在100Mpa以上。当对其进行加热做固化处理时可以承受较高温度，例如：500°-600°都可以保持良好的热稳定性。PI层的厚度可以是在10um-80um之间，取向层设置在电极层3上，厚度均匀。聚酰亚胺在高温的情况下发生聚合反应，形成聚合物聚酰胺，聚合物分子中支链与主链的夹角即为导向层预倾角，这些聚合物的支链基团与液晶分子间的作用力比较强，对液晶分子有锚定的作用，可以使液晶6按预倾角方向排列，例如：垂直设置、与竖直方向成10°设置等。液晶取向层对液晶6在基板2上的排列会有一定程度上的影响，进而会对液晶器件的光电性能造成影响。此外，还可以通过聚氨酯基作为液晶器件的液晶取向层。作为一种可能的实施例方式，还可以选择多畴垂直取向(MVA)显示模式，能够增大视角及响应速度。
这样，对基板2设置尖劈结构1并设置电极层3之后，在电极层3上表面旋涂聚酰亚胺或光取向聚酰亚胺，并进行烘干加固形成定向层4，可以使预设好的液晶6注入腔体之后可以按预倾角方向排列，可以为液晶6中的分子提供初始取向方向。
实施例六
如图6所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。在实施例一的基础上，结合图12对应的结构示意图，步骤S103具体包括：
S601、选取两块设置有定向层4的基板2作为第一基板21及第二基板22；
S602、将第一基板21与第二基板22镜像对称设置，通过摩擦或光照对第一基板21及第二基板22进行取向。
在本实施例中，第一基板21与第二基板22可以是作为上基板和下基板对称设置，也可以是异位设置。可以根据PI层的取向方式，采用摩擦或者光照方式对上下基板分别进行取向，其取向的方向可以是根据器件的具体设置进行确定。其中，摩擦方法取向可以是通过摩擦布产生机械摩擦以在液晶取向层上产生精细的凹槽，形成取向方向。光照方法取向可以是通过在聚合物膜上照射偏振紫外(UV)，这样不会产生尘埃和静电，可以避免尘埃和静电导致的产率降低。另外，通过允许液晶分子在定向层4的整个表面上方均匀地排列，液晶层取向的均匀性可以得到改善，并且相位扭曲或者光散射问题可以消除或者减少。
实施例七
如图7所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。在实施例一的基础上，结合图13对应的结构示意图，步骤S104具体包括：
S701、在第一基板21上设置液晶框，液晶框设置在尖劈结构1的四周，并在侧面设置有注液晶口8；
S702、在液晶框上通过封接胶设置出液晶封接框7；
S703、将第二基板22与设置有液晶封接框7的第一基板21贴合形成腔体5；
S704、对液晶封接框7进行固化，形成液晶盒。
在本实施例中，在第一基板21上设置液晶框，液晶框可以是位于尖劈结构1的四周，并将将劈结构包裹在内。液晶框可以是一个矩形结构、长方形结构等。液晶框可以在基板2的任意一侧开设有注液晶口8，用于注入液晶6。在液晶框位置上用加有玻璃球的封接胶画出液晶封接框7，玻璃球尺寸可选择2-20um之间的一个尺寸，具体尺寸应根据液晶盒的Δnd(折射率差值)设计决定。将第二基板22与画有液晶封接框7的第一基板21贴合，并将封接框胶固化，形成液晶盒。
这样，通过设置液晶封接框7将第一基板21与第二基板22进行贴合，形成腔体5，并在侧面开设注液晶口8，便于提供一个注入液晶6的空间。
实施例八
如图8所示，为本发明实施例提供的一种激光扫描液晶器件的制作方法的流程示意图。在实施例七的基础上，结合图14-16对应的结构示意图，在步骤S703之后，还包括步骤：
S801，将预先设置好的液晶6通过真空灌注到液晶盒；
S802，对注液晶口8进行胶封并固化；
S803，在第二基板22上表面设置起偏器9，起偏器9的设置根据预设好的偏转光角度进行确定。
在本实施例中，将液晶盒放入注液晶机中，可以将预先选择好的液晶6采用真空灌注法将液晶6注入到液晶盒中，对注液晶口用UV(UltravioletRays)胶在紫外线照射的条件下进行封口，然后使UV胶固化，并封好注液晶口8。上述起偏器9可以是偏光片，也可以是尼科耳棱镜等，可以从自然光中获取到与偏振器特定方向同向的光，也即是偏振光。液晶器件的显示可以是通过施加在第一基板21及第二基板22上的电压产生的电场改变液晶层中分子的取向来显示图像，液晶分子的取向随着电场的变化而改变，从而根据施加的电压改变液晶层的光透射率以产生图像。
具体的，光线垂直入射到器件表面，光线经过偏光片后，光线变成线偏振光，先后到达第二倾斜界面10b、第一倾斜界面10a、以及第一基板平面10c，由于各界面两侧的折射率不同便会产生光束的偏转。光束入射到第二倾斜界面10b后，进入液晶层时，由于液晶6对平行于液晶分子的光偏振方向与垂直于液晶分子光偏振方向的光的折射率不同，因此用电压调节液晶分子的转向，可调节入射的线偏振光的折射率值。例如，在电压V时，液晶6的Δn对应的折射率差为Δnv，第二基板22的第二倾斜表面10b的棱角为β，通过计算可得偏转角：
α≈2Δnvβ
折射角θ1对应的偏转角为α1，在第一基板21的第一倾斜界面10a的折射角θ2对应的偏转角为α2，在第一基板平面10c其折射角为θ3对应的偏转角则为α。
这样，在第一基板21与第二基板22之间通过注液晶口向腔体5内灌注液晶6并封存固化，液晶6会在定向层4的作用下，确定取向方向，并且在第二基板22上表面设置起偏器9，有利于获取偏振光入射进入腔体5内，产生对应的偏转角，当光束入射到第二倾斜界面10b时，会产生一个偏转角，通过液晶6作用，光线入射到第一倾斜界面10a时，会再次产生偏转角，当光束出射到第一基板平面10c后，同样会再次产生偏转角，经过多次产生偏转角，从而扩大了液晶器件对光束扫描的偏转角度。
实施例九
本发明还提供一种液晶器件，包括：基板2，基板2上设置有周期性排布的尖劈结构1。
在本实施例中，基板2可以是一种表面平整的浮法生产薄玻璃片，其厚度可以小于等于0.7mm，且可以耐液晶器件制作过程中的高温。基板2可以包括第一基板21以及第二基板22，第一基板21与第二基板22可以通过封接胶进行镜像对称结合设置，且设置有尖劈结构1的一侧均设置在结合后的内侧。尖劈结构1可以是均匀设置在第一基板21以及第二基板22上的斜齿结构，直角三角形结构等，其直角三角形的直角边可以是与基板2固定设置的一边；当然，还可以是斜齿的四边形结构等。第二基板22上尖劈结构1的第二倾斜界面10b、第一基板21上尖劈结构1的第一倾斜界面10a以及第一基板21的第一基板平面10c的折射率均不相同，在光束入射之后，不同的界面可以产生不同的偏转角，通过产生多次折射，产生多个偏转角，从而扩大了液晶器件对光束的扫描偏转角度。
实施例十
本发明还提供一种液晶器件，包括上述任一具体实施例中任一激光扫描液晶器件的制作方法。
在本实施例中，在基板2上设置尖劈结构1，并在尖劈结构1上依次设置电极层3及取向层，将设置有电极层3及取向层的第一基板21与第二基板22通过封接胶进行贴合形成腔体5，并向腔体5内注入液晶6，且在第二基板22上表面设置一个起偏器9，当光束光线垂直入射到第二基板22表面，光线经过起偏器9后变成线偏振光，由于第二倾斜界面10b以及第一倾斜界面10a两侧的折射率不同，便会产生多次光束的偏转，从而扩大光束扫描的角度；同时，当线偏振光到达第二倾斜界面10b进入液晶层时，由于液晶6对平行于液晶分子的光偏振方向与垂直于液晶分子光偏振方向的光的折射率不同，因此，用电压调节液晶分子的转向，可调节入射的线偏振光的折射率值。所以，本发明能够对入射光束产生多次偏转，从而扩大液晶器件对光束扫描的偏转角度。
本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，包括步骤:
对设置有尖劈结构的基板表层溅射电极层；
在形成有所述电极层的基板上设置定向层；
选取第一基板及第二基板分别进行取向，所述第一基板与第二基板上设置有所述定向层；
将完成取向的所述第一基板与所述第二基板贴合形成腔体，所述腔体内设置有液晶。
2.如权利要求1所述的激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，所述对设置有尖劈结构的基板表层溅射电极层之前，还包括步骤：
在所述基板上设置多个所述尖劈结构，所述尖劈结构与水平方向之间形成有角度，且多个所述尖劈结构呈周期性排列。
3.如权利要求2所述的激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上设置多个尖劈结构的步骤具体包括：
根据预设的大小切取基板，并对所述基板进行清洗并烘干；
对烘干后的基板进行旋涂光刻胶，对所述光刻胶加热固化；
对所述固化后的光刻胶进行光刻，形成所述尖劈结构。
4.如权利要求1所述的激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，所述对设置有尖劈结构的基板表层溅射电极层的步骤具体包括：
将设置有所述尖劈结构的基板放置在镀膜设备中，对所述尖劈结构的表面溅射电极层；
将溅射有电极层的基板取出进行清洗并烘干。
5.如权利要求1所述的激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，所述在形成有所述电极层的基板上设置定向层的步骤具体包括：
对基板上形成有电极层的尖劈结构旋涂聚酰亚胺或光取向聚酰亚胺，形成液晶取向层；
对形成有所述液晶取向层的基板进行加热固化，形成所述定向层。
6.如权利要求1所述的激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，所述选取第一基板及第二基板分别进行取向的步骤具体包括：
选取两块设置有所述定向层的基板作为所述第一基板及第二基板；
将所述第一基板与第二基板镜像对称设置，通过摩擦或光照对所述第一基板及第二基板进行取向。
7.如权利要求1所述的激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，所述将完成取向的所述第一基板与所述第二基板贴合形成腔体的步骤具体包括：
在所述第一基板上设置液晶框，所述液晶框设置在所述尖劈结构的四周，并在侧面设置有注液晶口；
在所述液晶框上通过封接胶设置出液晶封接框；
将所述第二基板与设置有所述液晶封接框的第一基板贴合形成所述腔体；
对所述液晶封接框进行固化，形成液晶盒。
8.如权利要求7所述的激光扫描液晶器件的制作方法，其特征在于，所述对所述液晶封接框进行固化，形成液晶盒的步骤之后，具体还包括步骤：
将预先设置好的液晶通过真空灌注到所述液晶盒；
对所述注液晶口进行胶封并固化；
在所述第二基板上表面设置起偏器，所述起偏器的设置根据预设好的偏转光角度进行确定。
9.一种液晶器件，其特征在于，包括：基板，所述基板上设置有周期性排布的尖劈结构。
10.一种液晶器件，其特征在于，包括权利要求1-8任一激光扫描液晶器件的制作方法。
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