CN110490147B - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提出一种显示装置，包括第一基底、第二基底、显示介质、多条第一信号线、多条第二信号线、多条读取线及重复单元。重复单元括颜色像素、白色像素及感光结构。颜色像素设置于第一基底的内表面上，且电性连接至一条第一信号线及一条第二信号线。白色像素设置于第一基底的内表面上，且电性连接至一条第一信号线及所述一条第二信号线。感光结构设置于第一基底的内表面上，且电性连接至一条读取线及所述一条第二信号线。感光结构具有依序堆栈于第一基底的内表面上的第一电极、光电转换层及第二电极。第一电极为透明电极，且第一基底的外表面为显示面。

Description

显示装置
技术领域
本发明涉及一种显示装置。
背景技术
光学式指纹辨识的原理如下：指纹是由多条不规则的波峰与波谷所组成。当手指按压指纹辨识装置时，波峰接触指纹辨识装置，而波谷不接触指纹辨识装置。波峰会直接将光线反射至感光结构，进而形成亮区。同时间，照射至波谷的光线会在波谷内进行多次反射，之后才传递至感光结构，进而形成暗区。这样，对应指纹的波峰与波谷的光线于形成为明暗交错的条纹图案，进而能取得指纹影像。接着，利用算法计算对应指纹影像的信息，便可进行指纹辨识。
光学式指纹辨识装置包括屏下式及整合式。以屏下式为例，由于感光结构设置于显示面板下，因此导致整体厚度过厚的问题。以整合式为例，感光结构整合于显示面板内，而使整体的厚度薄，但来自于指纹的光线需通过显示面板的显示介质才能传递至感光结构，显示介质会散射来自于指纹的光线，影响指纹影像信息的取得。
发明内容
本发明提供一种显示装置，性能佳。
本发明的一种显示装置包括第一基底、第二基底、显示介质、多条第一信号线、多条第二信号线、多条读取线及至少一个重复单元。第一基底具有相对的内表面及外表面。第二基底设置于第一基底的对向。显示介质设置于第一基底与第二基底之间。多条第一信号线设置于第一基底的内表面上。多条第二信号线设置于第一基底的内表面上。第一信号线与第二信号线交错设置。重复单元的每一个包括颜色像素、白色像素及感光结构。颜色像素设置于第一基底的内表面上，且电性连接至一条第一信号线及一条第二信号线。白色像素设置于第一基底的内表面上，且电性连接至一条第一信号线的所述一条第二信号线。感光结构设置于第一基底的内表面上，且电性连接至一条读取线及所述一条第二信号线。感光结构具有朝第二基底的方向依序堆栈于第一基底内表面上的第一电极、光电转换层及第二电极，第一电极为透明电极，且第一基底的外表面为显示装置的显示面。
附图说明
图1为本发明一实施例的显示装置10的俯视示意图。
图2为根据图1的剖线I-I’所绘的显示装置10的剖面示意图。
图3为根据图1的剖线II-ΙΙ’所绘的显示装置10的剖面示意图。
图4示出物体1设置于本发明一实施例的显示装置10的显示面上的情形。
图5示出图4的多个感光结构LS所取得的多个电信号SLS1、SLS2。
图6示出图4的多个白色像素PW的亮度SPW1、SPW2。
图7为本发明一实施例的显示装置10的工作流程示意图。
其中，附图标记为：
1：物体                     2：使用者
10：显示装置                100：像素阵列基板
110：第一基底               112：内表面
114：外表面                 122、126：接触窗
124、222：开口               132：像素电极
134：第一电极               152：遮光图案
154：共享电极线             156：第二电极
170：光电转换层             172：N型半导体层
174：本质半导体层           176：P型半导体层
200：对向基板               210：第二基底
220：遮光层                 230：彩色滤光层
232：彩色滤光图案           238：透光材料部
240：共享电极               250：间隙物
300：显示介质               400、500：偏光片
600：背光源                 700：处理元件
CH：半导体层                E1：第一端
E2：第二端                  GI、120、140、160：绝缘层
G：控制端                   L、L’：光线
LS：感光结构                P1、P2、P3、PW：像素
RL：读取线                  R、R1、R2：重复单元
SL1：第一信号线             SL2：第二信号线
SLS1、SLS2：电信号             SPW1、SPW2：亮度
S1～S7：步骤                T：主动元件
x、y、z：方向                 I-I’、II-ΙΙ’：剖线
具体实施方式
在附图中，为了清楚起见，放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理和/或电性连接。再者，“电性连接”或“耦合”可为二元件间存在其它元件。
本文使用的“约”、“近似”、或“实质上”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差的特定数量(即，测量系统的限制)。例如，“约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。再者，本文使用的“约”、“近似”或“实质上”可依光学性质、蚀刻性质或其它性质，来选择较可接受的偏差范围或标准偏差，而可不用一个标准偏差适用全部性质。
除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本发明的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。
本文参考作为理想化实施方式的示意图的截面图来描述示例性实施方式。因此，可以预期到作为例如制造技术和/或公差的结果的图示的形状变化。因此，本文所述的实施方式不应被解释为限于如本文所示的区域的特定形状，而是包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙和/或非线性特征。此外，所示的锐角可以是圆的。因此，图中所示的区域本质上是示意性的，并且它们的形状不是旨在示出区域的精确形状，并且不是旨在限制权利要求的范围。
现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于所附图式中。只要有可能，相同元件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。
图1为本发明一实施例的显示装置10的俯视示意图。图2为根据图1的剖线I-I’所绘的显示装置10的剖面示意图。图3为根据图1的剖线II-ΙΙ’所绘的显示装置10的剖面示意图。图1省略图2及图3的第一基底110、绝缘层GI、绝缘层120、绝缘层140、绝缘层160、对向基板200、显示介质300、背光源600、偏光片400及偏光片500。
请参照图1至图3，显示装置10除了用以显示外，还用以取得物体1(绘于图3)的影像信息。也就是说，显示装置10将光学式取像元件(例如：光学式指纹取像元件)整合于显示面板内。在本实施例中，物体1可以是生物特征，例如：使用者2(绘于图3)的指纹。然而，本发明不限于此，物体1也可以是其它种类的生物特征，例如：静脉等。
请参照图2及图3，显示装置10包括像素阵列基板100、对向基板200及显示介质300。对向基板200设置于像素阵列基板100的对向。显示介质300设置于像素阵列基板100与对向基板200之间。举例而言，在本实施例中，显示介质300可以是非自发光材料(例如但不限于：液晶)，而显示装置10还可包括背光源600、偏光片400及偏光片500；其中，偏光片400、像素阵列基板100、显示介质300、对向基板200、偏光片500及背光源600沿着使用者2的视线方向z依序排列。需说明的是，本发明并不限制显示介质300必须是非自发光材料且显示装置10必须包括背光源600及偏光片400、500；根据其它实施例，显示介质300也可以是自发光材料，例如但不限于：有机电致发光层、微型发光二极管或其它种类的显示介质，而显示装置不一定要包括背光源和/或偏光片。
像素阵列基板100包括第一基底110，具有相对的内表面112及外表面114。第一基底110的内表面112朝向显示介质300。第一基底110的外表面114背向显示介质300。在本实施例中，像素阵列基板100较对向基板200靠近使用者2的眼睛，而第一基底110的外表面114为显示装置10的显示面。第一基底110为透光基板。举例而言，透光基板的材质可以是玻璃、石英、有机聚合物或其它可适用的材料，但本发明不以此为限。
请参照图1及图2，像素阵列基板100还包括多条第一信号线SL1及多条第二信号线SL2，设置于第一基底110的内表面112。多条第一信号线SL1与多条第二信号线SL2交错设置。第一信号线SL1在第一方向y上延伸，第二信号线SL2在第二方向x上延伸，而第一方向y与第二方向x交错。举例而言，在本实施例中，第一方向y与第二方向x大致上可垂直，但本发明不以此为限。在本实施例中，第一信号线SL1及第二信号线SL2形成于不同膜层；举例而言，第二信号线SL2可选择性地形成于第一导电层(例如但不限于：第一金属层)，第一信号线SL1可选择性地形成于第二导电层(例如但不限于：第二金属层)，但本发明不以此为限。
像素阵列基板100还包括多个像素P1、P2、P3、PW。多个像素P1、P2、P3、PW的每一个与对应的一条第一信号线SL1及对应的一条第二信号线SL2电性连接。具体而言，在本实施例中，多个像素P1、P2、P3、PW的每一个包括主动元件T。主动元件T包括薄膜晶体管，具有控制端G、绝缘层GI、半导体层CH、第一端E1与第二端E2。控制端G与第二信号线SL2电性连接。第二信号线SL2例如是扫描线。绝缘层GI设置于控制端G与半导体层CH之间。半导体层CH的不同两区分别与第一端E1和第二端E2电性连接。第一端E1与第一信号线SL1电性连接。第一信号线SL1例如是资料线。举例而言，在本实施例中，第二信号线SL2与控制端G可选择性地形成于第一导电层，第一信号线SL1及薄膜晶体管的第一端E1与第二端E2可选择性地形成于第二导电层，但本发明不以此为限。
多个像素P1、P2、P3、PW的每一个还包括像素电极132，与主动元件T电性连接。具体而言，在本实施例中，薄膜晶体管的第二端E2与像素电极132电性连接。举例而言，像素阵列基板100还可包括设置于主动元件T上的绝缘层120，而像素电极132的至少一部分可设置于绝缘层120上且通过绝缘层120的接触窗122与第二端E2电性连接。然而，本发明不限于此，根据其它实施例，像素电极132也可利用其它方式与薄膜晶体管的第二端E2电性连接。
像素阵列基板100还包括多条共享电极线154，设置于第一基底110的内表面112上。多个像素P1、P2、P3、PW的每一个的像素电极132的一部分与对应的一条共享电极线154重叠，以形成多个像素P1、P2、P3、PW的每一个的储存电容。举例而言，在本实施例中，像素阵列基板100还包括绝缘层140，设置于绝缘层120及像素电极132上，而共享电极线154可以选择性地设置于绝缘层140上。在本实施例中，共享电极线154可以选择性地形成于第三导电层(例如但不限于：第三金属层)，但本发明不以此为限。
在本实施例中，像素阵列基板100还可包括遮光图案152，设置于绝缘层140上且与半导体层CH重叠。遮光图案152能阻挡背光源600发出的光线L照射半导体层CH，以减少薄膜晶体管的漏电。在本实施例中，遮光图案152可以选择性地设置于绝缘层140上，且形成于第三导电层，但本发明不以此为限。
此外，在本实施例中，像素阵列基板100还可包括绝缘层160，设置于遮光图案152及共享电极线154上，以保护绝缘层160与第一基底110之间的构件。
对向基板200包括第二基底210。在本实施例中，第二基底210为透明基板。显示装置10还可包括遮光层220，例如但不限于：黑色矩阵。举例而言，在本实施例中，遮光层220可重叠于主动元件T、第一信号线SL1、第二信号线SL2及读取线RL，且具有与像素电极132重叠的开口222。在本实施例中，遮光层220可选择性地设置于第二基底210上。然而，本发明不限于此，根据其它实施例，遮光层220也可设置于第一基底110上。
在本实施例中，显示装置10还包括彩色滤光层230，具有第一彩色滤光图案232、第二彩色滤光图案(未绘示)及第三彩色滤光图案(未绘示)。第一彩色滤光图案232、第二彩色滤光图案及第三彩色滤光图案分别具有第一颜色、第二颜色及第三颜色。第一颜色、第二颜色及第三颜色例如但不限于包括：蓝色、绿色及红色。举例而言，在本实施例中，对向基板200可选择性地包括第一彩色滤光图案232、第二彩色滤光图案及第三彩色滤光图案，设置于第二基底210上。然而，本发明不限于此，根据其它实施例，第一彩色滤光图案232、第二彩色滤光图案及第三彩色滤光图案也可设置于第一基底110上。
此外，在本实施例中，彩色滤光层230还具有透光材料部238(绘于图3)，设置于遮光层220的开口222中且与像素PW的像素电极132重叠。然而，本发明不限于此，根据其它实施例，与像素PW的像素电极132重叠的开口222中也可不设置透光材料部238。
在本实施例中，多个像素P1、P2、P3、PW包括第一颜色像素P1、第二颜色像素P2、第三颜色像素P3及白色像素PW，分别用以显示第一颜色、第二颜色、第三颜色及白色。举例而言，在本实施例中，第一颜色像素P1的像素电极132、第二颜色像素P2的像素电极132、第三颜色像素P3的像素电极132及白色像素PW可分别重叠于第一彩色滤光图案232、第二彩色滤光图案(未绘示)、第三彩色滤光图案(未绘示)及透光材料部238，进而使第一颜色像素P1、第二颜色像素P2、第三颜色像素P3及白色像素PW分别显示第一颜色、第二颜色、第三颜色及白色。
请参照图1及图3，像素阵列基板100还包括感光结构LS，设置于第一基底110的内表面112上。举例而言，在本实施例中，白色像素PW与感光结构LS于第一基底110上的垂直投影位于相邻两条第一信号线SL1于第一基底110上的多个垂直投影之间以及相邻两条第二信号线SL2于第一基底110上的多个垂直投影之间，但本发明不以此为限。
在本实施例中，感光结构LS包括主动元件T、第一电极134、光电转换层170及第二电极156。主动元件T与第一电极134电性连接。第一电极134、光电转换层170及第二电极156沿着朝第二基底210的方向z依序堆栈于第一基底110的内表面112上。第一电极134为透光电极，以使被物体1漫射的光线L’能穿过第一电极134而被光电转换层170接收。在本实施例中，第二电极156位于显示介质300与光电转换层170之间，且第二电极156为挡光电极，以避免不必要的光线(例如：直接从背光源600发出的光线L)照射光电转换层170，影响取得的物体1的影像信息。举例而言，在本实施例中，光电转换层170可包括N型半导体层172、P型半导体层176以及位于N型半导体层172之间P型半导体层176的本质半导体层174。在本实施例中，N型半导体层172、本质半导体层174及P型半导体层176可以选择性地沿视线方向z依序堆栈。然而，本发明不以此为限，根据其它实施例，N型半导体层172、本质半导体层174及P型半导体层176也可沿视线方向z的反方向依序堆栈。
值得注意是，像素P1、P2、P3、PW及感光结构LS均设置于第一基底110的内表面112上，且第一基底110的外表面114为显示面。也就是说，物体1适于设置在显示面(即第一基底110的外表面114)上，而被物体1漫射的光线L’不需通过显示介质300即可传递至感光结构LS的光电转换层170；亦即，被物体1漫射的光线L’不会被显示介质300散射，进而能取得良好的物体1的影像信息。
在本实施例中，基于制程简化的考量，感光结构LS的部分构件可与像素P1、P2、P3、PW的部分构件一起制作。举例而言，在本实施例中，感光结构LS的主动元件T与像素P1、P2、P3、PW的主动元件T可以选择性地一起制作而具有相同或相近的叠构。具体而言，感光结构LS的主动元件T也包括薄膜晶体管，薄膜晶体管也具有控制端G、绝缘层GI、半导体层CH、第一端E1与第二端E2，感光结构LS的主动元件T的控制端G可选择性地与像素P1、P2、P3、PW的主动元件T的控制端G一起制作，感光结构LS的主动元件T的绝缘层GI可选择性地与像素P1、P2、P3、PW的主动元件T的绝缘层GI一起制作，感光结构LS的主动元件T的半导体层CH可选择性地与像素P1、P2、P3、PW的主动元件T的半导体层CH一起制作，感光结构LS的主动元件T的第一端E1与第二端E2可选择性地与像素P1、P2、P3、PW的主动元件T的第一端E1与第二端E2可一起制作。
感光结构LS的第一电极134可选择性地与像素P1、P2、P3、PW的像素电极132一起制作。感光结构LS的第二电极156可选择性地与像素P1、P2、P3、PW的共享电极线154一起制作。也就是说，在本实施例中，共享电极线154及感光结构LS的第二电极156可均设置于绝缘层140上，且共享电极线154的材料与感光结构LS的第二电极156的材料相同。此外，感光结构LS的主动元件T上也设有遮光图案152，与感光结构LS的主动元件T的半导体层CH重叠；感光结构LS的主动元件T上的遮光图案152与像素P1、P2、P3、PW的主动元件T上的遮光图案152可一起制作。
在本实施例中，为取得更佳的物体1的影像信息，感光结构LS的第一电极134可直接接触第一基底110的内表面112；也就是说，绝缘层120具有开口124，而感光结构LS的第一电极134可设置于绝缘层120的开口124中；但本发明不以此为限。
在本实施例中，显示装置10还包括共享电极240。共享电极240与像素电极132之间的电位差用以驱动显示介质300。举例而言，在本实施例中，对向基板200可选择性地包括共享电极240，设置于第二基底210上，但本发明不以此为限。
在本实施例中，显示装置10还包括间隙物250，设置于第一基底110与第二基底210之间，以维持像素阵列基板100与对向基板200之间的间隙。举例而言，在本实施例中，对向基板200可包括朝第一基底110凸起的间隙物250，设置于第二基底210上，但本发明不以此为限。
在本实施例中，间隙物250可设置于感光结构LS的第二电极156与第二基底210之间。也就是说，由使用者2看来，间隙物250是被第二电极156所遮蔽。因此，受间隙物250影响而倒向不佳的部分显示介质300(例如：液晶)会被第二电极156遮蔽，而不会过度影响显示质量。
值得注意的是，在本实施例中，间隙物250可以是导电间隙物。间隙物250设置于且电性连接于共享电极240与感光结构LS的第二电极156之间。又，感光结构LS的第二电极156与共享电极线154电性连接。即，间隙物250电性连接于位于第一基底110上的共享电极线154与位于第二基底210上的共享电极240之间。以此，位于第一基底110上的共享电极线154可通过多个导电的间隙物250更均匀地电性连接至对向基板200的共享电极240，而有助于显示装置10的电性提升。
像素阵列基板100还包括读取线RL，设置于第一基底110的内表面112上，且与第二信号线SL2交错。在本实施例中，读取线RL与第一信号线SL1可平行设置，但本发明不以此为限。在本实施例中，读取线RL与第一信号线SL1可选择性地一起制作。在本实施例中，读取线RL与第一信号线SL1可形成于第二导电层，但本发明不以此为限。
感光结构LS电性连接至读取线RL及第二信号线SL2。具体而言，感光结构LS的主动元件T的第一端E1与读取线RL电性连接，而感光结构LS的主动元件T的栅极G与第二信号线SL2电性连接。此外，感光结构LS的主动元件T的第二端E2与第一电极134电性连接。举例而言，绝缘层120具有接触窗126，而感光结构LS的第一电极134可通过绝缘层120的接触窗126与主动元件T的第二端E2电性连接。然而，本发明不以此为限，根据其它实施例，感光结构LS的第一电极134也可利用其它方式与主动元件T的第二端E2电性连接。
举例而言，在本实施例中，一个重复单元R(标示于图1)包括至少一个颜色像素P1、P2、P3、一个白色像素PW及一个感光结构LS。像素阵列基板100可具有阵列排列的多个重复单元R。在一图框时间内，像素阵列基板100的多条第二信号线SL2可于多个时间区间被依序输入栅极开启信号，以使分别位于多行的颜色像素P1、P2、P3及多个白色像素PW的主动元件T于多个时间区间依序被开启，进而显示画面。于上述多个时间区间内，分别位于所述多行的多个感光结构LS的主动元件T也于被依序开启，以使多条读取线RL能在所述多个时间区间读取来自光电转换层170的电信号，进而取得物体1的影像信息。
值得注意的是，如图1所示，在本实施例中，位于同一重复单元R的感光结构LS的主动元件T的栅极G与白色像素PW的主动元件T的栅极G是电性连接至同一条第二信号线SL2。也就是说，感光结构LS的主动元件T开启(即感光结构LS的光电转换层170上的电信号被读取时)，白色像素PW的主动元件T也开启。此时，若使与白色像素PW的主动元件T电性连接的第一信号线SL1具有适当的驱动信号，则邻设于感光结构LS的白色像素PW可具有一定的亮度。具有一定亮度的白色像素PW能照射物体1，被物体1漫射的光线L’的强度变高，进而提升取得的物体1的影像信息的质量。简言之，在本实施例中，显示装置10能利用来自于白色像素PW的光线L补充照射物体1，以提升辨识成功率，以下配合图4至图7举例说明。
图4示出物体1设置于本发明一实施例的显示装置10的显示面上的情形。图4示意性地绘出颜色像素P1、P2、P3、白色像素PW、感光结构LS及处理元件700，而省略显示装置10的其它构件。图5示出图4的多个感光结构LS所取得的多个电信号SLS1、SLS2(或者说，灰阶值)，其中以密度较高的点图样代表较低的灰阶值，以密度较低的点图样代表较高的灰阶值。图6示出图4的多个白色像素PW的亮度SPW1、SPW2(或者说，灰阶值)，其中以点图样代表较低的亮度SPW2，以空白图样代表较高的亮度SPW1。图7为本发明一实施例的显示装置10的工作流程示意图。
请参照图4，显示装置10还包括处理元件700，例如但不限于：芯片。处理元件700电性连接至读取线RL(绘于图1)。处理元件700还电性连接至与白色像素PW电性连接的第一信号线SL1(绘于图1)。请参照图4至图7，首先，显示装置10执行步骤S1：进入等待物体模式。接着，显示装置10执行步骤S2及步骤S3：提取多个感光结构LS的多个电信号SLS1、SLS2(绘于图5)，及判断是否有找到物体1轮廓(例如但不限于：手指轮廓)。具体而言，处理元件700通过读取线RL读取感光结构LS的多个电信号SLS1、SLS2，并根据多个电信号SLS1、SLS2判断是否有找到物体1轮廓。若未找到物体1轮廓，则再次执行步骤S2。若有找到物体1的轮廓，则显示装置10执行步骤S4：判断是否有找到物体1的生物特征(例如但不限于：指纹)。若未找到物体1的生物特征，则显示装置10执行步骤S5：增加被物体1遮蔽的白色像素PW的亮度(如图6所示)，以利用来自于白色像素PW的光线L(标示于图3)补充照射物体1的光量。具体而言，处理元件700根据读取线RL的电信号SLS1、SLS2判断部分的重复单元R(例如：第一重复单元R1，标示于图4)的白色像素PW被物体1遮蔽及另一部分的重复单元R(例如：第二重复单元R2，标示于图4)的白色像素PW未被物体1遮蔽；然后，处理元件700通过第一信号线SL1令未被物体1遮蔽的第一重复单元R1的白色像素PW的亮度SPW1增加，以利用来自于位于物体1下方的白色像素PW的光线L补充照射物体1的光量。举例而言，在本实施例中，处理元件700可根据读取线RL的电信号SLS1、SLS2，令被物体1遮蔽的第一重复单元R1的白色像素PW的亮度SPW1大于未被物体1遮蔽的第二重复单元R2的白色像素PW的亮度SPW2，但本发明不以此为限。进行步骤S5之后，接着，再次执行步骤S2、S3、S4，直到找到物体1的生物特征。若找到物体1的生物特征，则执行步骤S6：判断生物特征是否符合预设值，例如但不限于：判断生物特征是否符合显示装置10的主人的指纹。若生物特征是否符合预设值，则进行步骤S7：解锁，以让使用者2(标示于图3)能使用显示装置10。若于步骤S6判断生物特征不符合预设值，则再次执行步骤S2。
虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种改进与完善，因此本发明的保护范围当视后附的权利要求书所界定者为准。

Claims (8)

1.一种显示装置，包括：
第一基底，具有相对的内表面及外表面；
第二基底，设置于该第一基底的对向；
显示介质，设置于该第一基底与该第二基底之间；
多条第一信号线，设置于该第一基底的该内表面上；
多条第二信号线，设置于该第一基底的该内表面上，其中该第一信号线与该第二信号线交错设置；
多条读取线，设置于该第一基底的该内表面上，其中该读取线与该第二信号线交错设置；以及
至少一个重复单元，每一个该重复单元的包括：颜色像素，设置于该第一基底的该内表面上，且电性连接至该第一信号线中的一条及该第二信号线中的一条；白色像素，设置于该第一基底的该内表面上，且电性连接至该第一信号线中的一条及该第二信号线中的一条；以及感光结构，设置于该第一基底的该内表面上，且电性连接至该读取线中的一条及该第二信号线中的一条；其中，该感光结构具有朝该第二基底的一个方向依序堆栈于该第一基底的该内表面上的第一电极、光电转换层及第二电极，该第一电极为透明电极，该第二电极为挡光电极，该第二电极位于该显示介质与该光电转换层之间，且该第一基底的该外表面为该显示装置的显示面；
间隙物，设置于该感光结构的该第二电极与该第二基底之间。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该间隙物为导电间隙物。
3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，还包括：
共享电极，设置于该第二基底上，其中该导电间隙物设置于该共享电极与该感光结构的该第二电极之间。
4.如权利要求3所述的显示装置，其特征在于，该导电间隙物电性连接于共享电极及该感光结构的该第二电极。
5.如权利要求3所述的显示装置，其特征在于，还包括：
共享电极线，设置于该第一基底的该内表面上，且重叠于该颜色像素的一部分及该白色像素的一部分，其中该间隙物电性连接于该共享电极线及该共享电极。
6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括：
绝缘层，设置于该第一信号线及该第二信号线上；以及
共享电极线，重叠于该颜色像素的一部分及该白色像素的一部分，其中该共享电极线及该感光结构的该第二电极设置于该绝缘层上，且该共享电极线的材料与该感光结构的该第二电极的材料相同。
7.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该重复单元包括第一重复单元，而该显示装置还包括：
处理元件，电性连接至该读取线；
其中，一物体设置于该第一基底的该外表面上且遮蔽该第一重复单元的感光结构，而该处理元件根据该读取线的多个电信号，使该第一重复单元的白色像素的亮度增加。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，该重复单元还包括第二重复单元，该物体未遮蔽该第二重复单元的感光结构，而该处理元件根据该读取线的该电信号，使该第一重复单元的该白色像素的亮度大于该第二重复单元的白色像素的亮度。
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