CN110479701B - 超声波设备及其控制方法 - Google Patents

超声波设备及其控制方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110479701B
CN110479701B CN201910642550.6A CN201910642550A CN110479701B CN 110479701 B CN110479701 B CN 110479701B CN 201910642550 A CN201910642550 A CN 201910642550A CN 110479701 B CN110479701 B CN 110479701B
Authority
CN
China
Prior art keywords
power
ultrasonic generator
output
preset
fitting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910642550.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110479701A (zh
Inventor
张孟湜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yungu Guan Technology Co Ltd
Original Assignee
Yungu Guan Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yungu Guan Technology Co Ltd filed Critical Yungu Guan Technology Co Ltd
Priority to CN201910642550.6A priority Critical patent/CN110479701B/zh
Publication of CN110479701A publication Critical patent/CN110479701A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110479701B publication Critical patent/CN110479701B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/02—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by distortion, beating, or vibration of the surface to be cleaned
    • B08B7/026—Using sound waves
    • B08B7/028—Using ultrasounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F1/00—Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
    • G05F1/66—Regulating electric power

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)

Abstract

本发明提供一种超声波设备及其控制方法，超声波设备包括：控制器，所述控制器接收输入信号并基于所述输入信号产生具有预设功率的输出信号；超声波发生器，接收所述具有预设功率的输出信号以产生超声波；功率反馈调整模块，基于所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值，对所述控制器的输出信号进行调整，以使所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值。本发明能够提高超声波发生器的输出功率的稳定性，改善超声波设备的性能。

Description

超声波设备及其控制方法
技术领域
本发明实施例涉及超声波设备技术领域，特别涉及一种超声波设备及其控制方法。
背景技术
掩膜版(mask)是显示面板制备过程中重要的工具之一，例如，可以利用掩膜版将像素材料蒸镀至基板上。若掩膜版上具有杂质(particle)，则相应会影响蒸镀的掩膜材料质量。为此，在利用掩膜版进行蒸镀之前，需要对掩膜版进行清洗处理。
目前，通常采用超声波技术对掩膜版进行清洗。超声波清洗的原理为：通过超声波振荡位于掩膜版上的杂质，并使杂质与掩膜版脱离，以达到清洁效果。
然而，超声波清洗的清洗效果仍有待提高。
发明内容
本发明提供一种超声波设备及其控制方法，改善超声波发生器的输出功率的稳定性。
为解决上述问题，本发明实施例提供一种超声波设备，包括：控制器，所述控制器接收输入信号并基于所述输入信号产生具有预设功率的输出信号；超声波发生器，接收所述具有预设功率的输出信号以产生超声波；功率反馈调整模块，基于所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值，对所述控制器的输出信号进行调整，以使所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值。
基于超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值，对控制器的输出信号进行调整，有利于提高超声波发生器的输出功率的稳定性，使得超声波发生器的输出功率与预设功率趋于一致。
另外，所述功率反馈调整模块包括：实际功率获取单元，用于获取所述超声波发生器的实际输出功率；偏差获取单元，用于获取所述实际输出功率与所述预设功率之间的差值；整定单元，用于基于所述偏差获取单元获取的所述差值，调整所述控制器的输出信号的功率。
另外，所述实际功率获取单元包括模拟量输入输出结构；所述模拟量输入输出结构，包括：采样子单元，用于对所述超声波发生器的输出进行采样，获取模拟量采样值；计算单元，用于基于所述模拟量采样值计算所述超声波发生器的实际输出功率。
另外，所述实际功率获取单元还包括：采样设置子单元，用于控制所述采样子单元对所述超声波发生器的输出进行采样的时间点。
另外，所述功率反馈调整模块还包括：拟合单元，基于多个所述模拟量采样值、与所述模拟量采样值对应的实际输出功率以及所述预设功率，获取功率拟合公式，所述功率拟合公式表征不同预设功率对应的所述超声波发生器的拟合输出功率；拟合功率获取单元，基于所述功率拟合公式，获取不同预设功率对应的所述超声波发生器的拟合输出功率；所述偏差获取单元，还用于获取所述拟合输出功率与所述预设功率之间的差值。
另外，所述功率反馈调整模块还包括：处理单元，存储有容许值，当所述拟合输出功率与所述预设功率之间的差值的绝对值大于或等于所述容许值时，所述处理单元清除所述拟合单元获取的所述功率拟合公式，并使所述拟合单元重新获取功率拟合公式。
另外，还包括：功率内部调整模块，基于超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值，对超声波发生器进行调整。
相应的，本发明实施例还提供一种超声波设备的控制方法，包括：控制器接收输入信号并基于所述输入信号产生具有预设功率的输出信号，超声波发生器接收所述具有预设功率的输出信号以产生超声波；获取所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值；基于所述差值，对所述控制器的输出信号进行调整，以使所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值。
另外，所述获取所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值，方法包括：获取所述超声波发生器的输出的模拟量采样值；基于所述模拟量采样值获取所述超声波发生器的实际输出功率；获取所述实际输出功率与所述预设功率之间的差值。
另外，所述获取超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值，方法还包括：基于多个模拟量采样值、与所述模拟量采样值对应的所述实际输出功率以及所述预设功率，获取功率拟合公式，所述功率拟合公式表征不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率；基于所述功率拟合公式，获取不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率；获取所述拟合输出功率与所述预设功率之间的差值。
附图说明
一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。
图1为本发明一实施例提供的超声波设备的功能框图；
图2为本发明另一实施例提供的超声波设备的具体结构示意图；
图3为本发明实施例提供的超声波设备的控制方法的流程示意图；
图4为本发明实施例提供的获取功率拟合公式的流程示意图。
具体实施方式
由背景技术可知，超声波清洗的清洗效果有待提高。
超声波清洗设备包括：控制器和超声波发生器，超声波发生器置于清洗槽内；控制器用于向超声波发生器提供输出功率，以控制超声波发生器产生超声波，具体地，超声波发生器接收该输出功率后产生具有特定频率和特定功率的超声波。分析发现，超声波发生器的输出功率不稳定，与预设功率值之间存在偏差，这是导致清洗效果差的原因之一。
进一步分析发现，在运行过程中，超声波发生器所处的环境发生变化，例如随着超声振动的进行出现的发热问题、清洗槽内的液位发生变化等，进而影响超声波发生器的实际输出功率，导致超声波发生器的实际输出功率与预设功率之间具有偏差，且随着超声波清洗设备运行时间的延长，该偏差越来越大，进而造成超声波发生器输出功率不稳定。
为了弥补上述的偏差，超声波发生器在接收控制器提供的输出功率后，通过自身的逻辑计算对超声波发生器进行内部整定，以控制自身的输出功率。然而，当上述的偏差越来越大时，只对超声波发生器进行内部整定难以调整超声波发生器的输出功率使其接近预设功率。
更进一步发现，不仅超声波清洗设备中存在超声波发生器输出功率不稳定的问题，在超声波焊接设备或者超声波切割设备中，同样也会存在上述的输出功率不稳定的问题。
为解决上述问题，本发明实施例提供一种超声波设备，基于超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值，对控制器的输出信号进行调整，从而有利于提高超声波发生器的输出功率的稳定性，使得超声波发生器的输出功率与预设功率趋于一致。
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的各实施例进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本发明各实施例中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施例的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。
图1为本发明一实施例提供的超声波设备的功能框图。
参考图1，本实施例提供的超声波设备包括：控制器101，控制器101接收输入信号并基于输入信号产生具有预设功率的输出信号；超声波发生器102，接收具有预设功率输出信号并产生超声波；功率反馈调整模块101，基于超声波发生器102的输出功率与预设功率之间的差值，对控制器101的输出信号进行调整，以使超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值。
以下将结合附图对本实施例提供的超声波设备进行详细说明。
本实施例中，超声波设备为超声波清洗设备，可以用于显示面板制造过程中清洗掩膜版。相应的，超声波设备还包括：清洗槽(未图示)以及置于所述清洗槽内的液体，液体可以为去离子水或者化学药剂，且超声波发生器102至少部分位于所述清洗槽内，以使超声波发生器102发出的超声波作用于液体，利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用，使待清洗物如掩膜版上的杂质被分散或者乳化，从而与待清洗物相剥离。
在其他实施例中，超声波设备也可以为超声波焊接设备或者超声波切割设备。
控制器101的作用包括，产生具有预设功率的输出信号，以驱动超声波发生器102产生超声波，该预设功率为超声波发生器102的理论输出功率，通过改变预设功率以改变超声波发生器102的理论输出功率，从而改变超声波发生器102发出的超声波的功率。
由于在超声波设备运行期间，超声波发生器102受到外界环境影响等原因，使得超声波发生器102具有功率损耗，因而超声波发生器102的输出功率小于预设功率。
对控制器101的输出信号进行调整，调整后，超声波发生器102的输出功率与预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值，其中，预设阈值为根据超声波设备的不同稳定性性能需求合理设置的，如预设阈值可以为1W、3W、5W、10W等。可以理解的是，当超声波设备对于稳定性性能的要求越高时，预设阈值越小。
功率反馈调整模块103接收超声波发生器102反馈的输出功率，并获取该输出功率与预设功率之间的差值，基于该差值调整控制器101的输出信号，以使调整后超声波发生器102的输出功率与预设功率之间的差值的绝对值减小，或者说，以使调整后超声波发生器102的输出功率更接近于预设功率。在一实施例中，对控制器的输出信号进行调整后，超声波发生器102的输出功率与预设功率相同。
其中，对控制器101的输出信号进行调整包括：功率反馈控制模块103对控制器101的输入信号进行调整，以改变输入信号的功率，从而实现对控制器101的输出信号的功率的调整；或者，功率反馈控制模块103对控制器101内部电路进行调整，在不改变输入信号的功率的前提下，实现对控制器101的输出信号的调整。
为了便于理解，以下将结合功率反馈调整模块103的具体作用过程进行说明：在进行调整前，超声波发生器102的输出功率为第一功率，第一功率与预设功率之间的差值的绝对值为第一差值；基于第一差值对控制器101的输出信号进行调整，使得输出信号的功率由预设功率调整为整定功率；相应的，超声波发生器102接收具有整定功率的输出信号，输出功率为第二功率，第二功率与预设功率之间的差值的绝对值为第二差值，且第二差值小于第一差值，或者第二差值等于零，即第二功率等于预设功率。
由此，通过功率反馈调整模块103，可以基于超声波发生器102的输出功率对控制器101进行调整，从而使得超声波发生器102的输出功率更精确更稳定，从而有利于提升超声波设备的清洗效果。
在一实施例中，功率反馈调整模块103可以实时的对控制器101的输出信号进行调整，也就是说，基于超声波发生器102的输出功率及时的进行调整，有利于进一步的保证超声波发生器102输出功率的稳定性。在另一实施例中，功率反馈调整模块103可以间隔的对控制器101的输出信号进行调整，例如可以在预设时间间隔对控制器101的输出信号进行调整，或者根据超声波发生器102发出不同频率的超声波期间对控制器101的输出信号进行调整，如此，有利于减小超声波设备内部计算成本，降低功耗。
需要说明的是，功率反馈调整模块103既可以集成在控制器101内部，也可以独立于控制器101，或者，还可以部分集成在控制器101内。
本实施例中，超声波设备还可以包括：功率内部调整模块104，基于超声波发生器103的输出功率与预设功率之间的差值，对超声波发生器103进行调整，以使所述超声波发生器103的输出功率与预设功率之间的差值减小。
据此，超声波设备能够同时实现对控制器101的调整和对超声波发生器102的调整，有利于提高超声波发生器102输出功率的调整效率，且有利于进一步的提升超声波发生器102输出功率的稳定性和精确性，从而进一步的提升超声波设备的性能，如提升清洁效果等。
本发明另一实施例还提供一种超声波设备，本实施例提供的超声波设备与前一实施例大致相同，不同之处在于本实施例将对功率反馈调整模块进行更详细的说明。以下将结合附图对本实施例提供的超声波设备进行详细说明，与前一实施例相同或相应的部分，可参考前述实施例，以下将不做赘述。
图2为本发明另一实施例提供的超声波设备的具体结构示意图。
参考图2，本实施例提供的超声波设备包括：控制器201、超声波发生器202以及功率反馈调整模块203。
功率反馈调整模块203包括：实际功率获取单元211，用于获取超声波发生器202的实际输出功率；偏差获取单元212，与实际功率获取单元211相连，用于获取实际输出功率与预设功率之间的差值；整定单元213，与偏差获取单元212相邻，用于基于偏差获取单元212获取的差值，调整控制器201的输出信号的功率。
本实施例中，实际功率获取单元211包括模拟量输入输出结构(AIO，AnalogyInputand Output)。模拟量输入输出结构包括：采样子单元21，用于对超声波发生器的输出进行采样，获取模拟量采样值；计算单元22，用于基于模拟量采样值计算超声波发生器202的实际输出功率。
采样子单元21采集的模拟量采样值通常为数字化的值。本实施例中，采样子单元21采集的模拟量采样值为输出电压对应的数字量DUQ；计算单元22基于模拟量采样值计算超声波发生器202的实际输出功率。以模拟量输入输出电路的直流输入电压为0-10V且对应的输入功率范围0-500W为例，有关计算方法的理论说明如下：
电压与功率满足以下计算公式：
Figure GDA0003476418720000071
其中，WQ为实际输出功率，UQ为采样子单元21采集的电压值，即超声波发生器202的输出电压。
由于采样子单元21采集的模拟量采样值为数字量，不能直接用于公式计算，因此需要将采样子单元21采集的模拟量采样值转换为可以计算的电压值。以模拟量输入输出电路的直流输入电压0-10V对应的数字量范围为0-2000为例，电压值与数字量DUQ满足以下计算公式：
Figure GDA0003476418720000072
基于公式(2)可以获知与DUQ对应的超声波发生器202的输出电压UQ；然后利用公式(1)计算得到超声波发生器202的实际输出功率WQ。
需要说明的是，在其他实施例中，采样子单元采集的模拟量采样值既可以包括输出电压对应的数字量，还可以包括输出电流对应的数字量。
可以理解的是，偏差获取单元212内存储有多个预设功率，且每一实际输出功率具有相对应的预设功率。
整定单元213可以为PID(比例-积分-微分)控制单元也可以为鲁棒控制单元。有关对控制器201的输出信号进行调整的描述，可参考前一实施例。
实际功率获取单元211还可以包括采样设置子单元23，用于控制采样子单元21对超声波发生器202的输出进行采样的时间点。举例来说，采样设置子单元23能够控制采样子单元21进行实时采样；或者，采样设置子单元23控制采样子单元21在间隔时间点进行间隔采样；或者，超声波发生器202发出的超声波的频率不同，采样设置子单元23控制采样子单元21在超声波不同频率下进行采样。
通过采样子单元23的设置，可以灵活的控制调整采样子单元21进行采样的时间点，以便于更灵活的对超声波设备进行调整。
本实施例中，为了节约成本减小计算量，且充分利用采样得到的模拟量采样值，功率反馈调整模块203还包括：拟合单元214，基于多个模拟量采样值、与模拟量采样值对应的实际输出功率以及预设功率，获取功率拟合公式，该功率拟合公式表征不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率；拟合功率获取单元215，基于功率拟合公式，获取不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率。
具体地，拟合单元214可以采用曲线拟合程序进行迭代自调整，以获取功率拟合公式。举例来说，预设功率为PI，采样子单元21进行第一采样获取第一模拟量采样值PQ1，且超声波发生器203对应输出功率为PI1，基于PI1与PI的差值对控制器201的输出信号进行调整，且第一次拟合得到PI1/PI/PQ拟合曲线；采样子单元21进行第二次采样获取第二模拟量采样值PQ2，且超声波发生器203对应输出功率PI2，基于PI2与PI的差值对控制器201的输出信号进行调整，且第二次拟合得到PI2/PI/PQ拟合曲线；在拟合得到3-100条拟合曲线后，基于该拟合曲线，最终获得拟合输出功率。
在获取该拟合输出功率后，无需对超声波发生器202进行采样，基于不同的预设功率即可得到对应的拟合输出功率。
相应的，偏差获取单元212还用于获取拟合输出功率与预设功率之间的差值，且整定单元213还用于基于获取的拟合输出功率与预设功率之间的差值，调整控制器201的输出信号的功率。
如此，不需要依据采样得到的模拟量采样值进行调整，根据拟合单元和拟合功率获取单元即能够使超声波设备实现功率自调整。
本实施例中，功率反馈调整模块203还包括：处理单元216，存储有容许值，当拟合输出功率与预设功率之间的差值的绝对值大于或等于该容许值时，处理单元216清除拟合单元214获取的功率拟合公式，并使拟合单元214重新获取功率拟合公式。
其中，容许值可以根据需求自行设置，例如可以设置为5W、10W或者50W等。当拟合输出功率与预设功率之间的差值的绝对值大于或等于该容许值时重新进行拟合，得到新的功率拟合公式，因而有利于保证对超声波发生器的输出功率控制的准确性。
本实施例提供一种结构性能优越的超声波设备，不仅能够基于模拟量采样值获取超声波发生器的输出功率，且还能够基于多个模拟量采样值拟合得到功率拟合公式，因而无需对超声波发生器进行采样即可以获取超声波发生器的拟合输出功率，进而对控制器进行调整。
相应的，本发明实施例还提供一种上述超声波设备的控制方法，以下将结合附图对本实施例提供的超声波设备的控制方法的流程示意图进行详细说明。
图3为本发明实施例提供的超声波设备的控制方法的流程示意图。
控制器接收输入信号并基于输入信号产生具有预设功率的输出信号，超声波发生器接收具有预设功率的输出信号以产生超声波；参考图3，包括：
步骤S1、获取超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值。
具体地，获取超声波发生器的输出的模拟量采样值；基于模拟量采样值获取超声波发生器的实际输出功率；获取实际输出功率与预设功率之间的差值，该差值即为超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值。
关于实际输出功率的计算方法，可参考前述实施例的相应说明，在此不再赘述。
步骤S2、基于该差值，对控制器的输出信号进行调整，以使超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值。
具体地，可以通过对控制器的输入信号进行调整以间接的调整控制器的输出信号，或者，在不改变控制器的输入信号的基础上对控制器的内部进行调整，从而调整控制器的输出信号。
基于超声波发生器的输出功率反馈调整控制器的输出信号，以使超声波发生器的输出功率改变，且改变后的输出功率相较于改变前的输出功率而言更接近预设功率，因而有利于提高超声波发生器的输出功率的精确性和稳定性，有效提升超声波设备的性能。
此外，还可以基于该差值对超声波发生器内部进行调整，以进一步的减小超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值，实现对控制器和超声波发生器的双调整，因而能够进一步的提高超声波发生器的输出功率的精确性和稳定性。
本实施例中，超声波设备的控制方法还可以包括，基于不同预设功率对控制器的输出信号进行自调整。具体地，获取超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值，方法还包括：基于多个模拟量采样值、与模拟量采样值对应的实际输出功率以及预设功率，获取功率拟合公式，功率拟合公式表征不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率；基于功率拟合公式，获取不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率；获取拟合输出功率与预设功率之间的差值。
相应的，基于该差值，对控制器的输出信号进行调整。
图4为本发明实施例提供的获取功率拟合公式的流程示意图，控制器输出信号具有预设功率PI。
步骤S11、对超声波发生器的输出进行第一次采样，获取第一模拟量采样值PQ1。
步骤S12、基于第一模拟量采样值PQ1，计算得到第一实际输出功率PI1。
步骤S13、基于第一实际输出功率PI1与预设功率PI之间的差值，对控制器的输出信号进行调整。
步骤S14、将PQ1、PI1以及PI值进行第一次拟合，得到第一拟合曲线。
需要说明的是，步骤S13和步骤S14既可以同时进行，也可以先进行步骤S13或者先进行步骤S14。
步骤S15、对超声波发生器的输出进行第二次采样，获取第二模拟量采样值PQ2。
步骤S16、基于第二模拟量采样值PQ2，计算得到第二实际输出功率PI2。
需要说明的是，第二模拟量采样值PQ2对应的预设功率PI与第一模拟量采样值PQ1对应的预设功率PI可以不同。
步骤S17、基于第二实际输出功率PI2与预设功率PI之间的差值，对控制器的输出信号进行调整。
步骤S18、将PQ2、PI2以及PI值进行第二次拟合，得到第二拟合曲线。
步骤S19、重复进行上述步骤S11-S18，得到3-100条拟合曲线。
步骤S20、基于得到的拟合曲线，获取功率拟合公式y＝φ(x)。
y为超声波发生器的拟合输出功率，x为预设功率。在得到功率拟合公式后，可以直接利用该功率拟合公式计算得到超声波发生器的拟合输出功率，基于该拟合输出功率与预设功率之间的偏差，对控制器的输出信号进行调整。
本实施例中，在对超声波发生器的输出进行采样过程中，实时的获取拟合曲线以便快速的获取功率拟合公式。本实施例中，当拟合输出功率与预设功率之间的偏差超出容许值时，说明该功率拟合公式不再能用于反映超声波发生器的输出功率，因此需要重新进行拟合以获得新的功率拟合公式，以便于利用新的功率拟合公式对控制器的输出信号进行调整。
本实施例提供的超声波设备的控制方法中，基于超声波发生器的输出功率对控制器的输出信号进行调整，进而调整超声波发生器的输出功率，使得超声波发生器能够保持稳定的输出功率。
此外，还可以基于超声波发生器的输出功率对超声波发生器内部进行调整，进一步的调整超声波发生器的输出功率，从而进步的提高超声波发生器的输出功率的稳定性。
也就是说，当超声波发生器内部调整不足以保证超声波发生器的输出功率的稳定性时，通过调整控制器的输出信号能够有效的解决这一问题，保证超声波发生器输出功率的稳定性。
本领域的普通技术人员可以理解，上述各实施方式是实现本发明的具体实施例，而在实际应用中，可以在形式上和细节上对其作各种改变，而不偏离本发明的精神和范围。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各自更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求限定的范围为准。

Claims (5)

1.一种超声波设备，其特征在于，包括：
控制器，所述控制器接收输入信号并基于所述输入信号产生具有预设功率的输出信号；
超声波发生器，所述超声波发生器接收所述具有预设功率的输出信号以产生超声波；
功率反馈调整模块，所述功率反馈调整模块基于所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值，对所述控制器的输出信号进行调整，以使所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值；
所述功率反馈调整模块包括：实际功率获取单元，用于获取所述超声波发生器的实际输出功率；偏差获取单元，用于获取所述实际输出功率与所述预设功率之间的差值；整定单元，用于基于所述偏差获取单元获取的所述差值，调整所述控制器的输出信号的功率；
所述实际功率获取单元包括模拟量输入输出结构；所述模拟量输入输出结构，包括：采样子单元，用于对所述超声波发生器的输出进行采样，获取模拟量采样值；计算单元，用于基于所述模拟量采样值计算所述超声波发生器的实际输出功率；
所述功率反馈调整模块还包括：拟合单元，基于多个所述模拟量采样值、与所述模拟量采样值对应的实际输出功率以及所述预设功率，获取功率拟合公式，所述功率拟合公式表征不同预设功率对应的所述超声波发生器的拟合输出功率；拟合功率获取单元，基于所述功率拟合公式，获取不同预设功率对应的所述超声波发生器的拟合输出功率；所述偏差获取单元，还用于获取所述拟合输出功率与所述预设功率之间的差值。
2.如权利要求1所述的超声波设备，其特征在于，所述实际功率获取单元还包括：采样设置子单元，用于控制所述采样子单元对所述超声波发生器的输出进行采样的时间点。
3.如权利要求1所述的超声波设备，其特征在于，所述功率反馈调整模块还包括：处理单元，存储有容许值，当所述拟合输出功率与所述预设功率之间的差值的绝对值大于或等于所述容许值时，所述处理单元清除所述拟合单元获取的所述功率拟合公式，并使所述拟合单元重新获取功率拟合公式。
4.如权利要求1所述的超声波设备，其特征在于，还包括：功率内部调整模块，基于超声波发生器的输出功率与预设功率之间的差值，对超声波发生器进行调整。
5.一种超声波设备的控制方法，其特征在于，包括：
控制器接收输入信号并基于所述输入信号产生具有预设功率的输出信号，超声波发生器接收所述具有预设功率的输出信号以产生超声波；
获取所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值；
基于所述差值，对所述控制器的输出信号进行调整，以使所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值的绝对值小于或等于预设阈值；
所述获取所述超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值，方法包括：获取所述超声波发生器的输出的模拟量采样值；基于所述模拟量采样值获取所述超声波发生器的实际输出功率；获取所述实际输出功率与所述预设功率之间的差值；
所述获取超声波发生器的输出功率与所述预设功率之间的差值，方法还包括：基于多个模拟量采样值、与所述模拟量采样值对应的所述实际输出功率以及所述预设功率，获取功率拟合公式，所述功率拟合公式表征不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率；基于所述功率拟合公式，获取不同预设功率对应的超声波发生器的拟合输出功率；获取所述拟合输出功率与所述预设功率之间的差值。
CN201910642550.6A 2019-07-16 2019-07-16 超声波设备及其控制方法 Active CN110479701B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910642550.6A CN110479701B (zh) 2019-07-16 2019-07-16 超声波设备及其控制方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910642550.6A CN110479701B (zh) 2019-07-16 2019-07-16 超声波设备及其控制方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110479701A CN110479701A (zh) 2019-11-22
CN110479701B true CN110479701B (zh) 2022-05-20

Family

ID=68547387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910642550.6A Active CN110479701B (zh) 2019-07-16 2019-07-16 超声波设备及其控制方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110479701B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12085848B2 (en) * 2020-07-31 2024-09-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Photomask cleaning tool

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4513207A (en) * 1983-12-27 1985-04-23 General Electric Company Alternating comparator circuitry for improved discrete sampling resistance control
CN202223256U (zh) * 2011-10-09 2012-05-23 北京汇福康医疗技术有限公司 超声换能器的工作状态的监控装置
CN103027708A (zh) * 2011-10-09 2013-04-10 北京汇福康医疗技术有限公司 超声换能器的工作状态的监控方法及装置
CN103480092B (zh) * 2012-06-13 2017-02-08 重庆海扶医疗科技股份有限公司 一种超声能量输出控制装置、方法以及超声治疗设备
CN103199712A (zh) * 2013-03-14 2013-07-10 然斯康波达机电设备(深圳)有限公司 一种超声清洗电源系统
CN104090624B (zh) * 2014-04-03 2016-03-02 湖南华冶微波科技有限公司 控制工业微波设备的功率的方法及装置
CN104679094B (zh) * 2015-01-30 2016-01-13 浙江大学 一种直流微电网中光伏发电功率控制系统及方法
CN205041485U (zh) * 2015-08-18 2016-02-24 汪亚飞 一种运用于医学治疗的超声波碎石控制系统
CN205199870U (zh) * 2015-12-30 2016-05-04 玉环震浪超音波震动子有限公司 一种用于超声清洗装置的超声波发生器
CN109286971B (zh) * 2017-07-21 2021-08-06 普天信息技术有限公司 一种基于dsp处理的功控方法及装置
CN207899723U (zh) * 2018-02-07 2018-09-25 广州市昊志机电股份有限公司 一种超声波发生器
CN109044552A (zh) * 2018-07-27 2018-12-21 深圳博英特科技有限公司 一种超声波洗牙机控制系统和方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110479701A (zh) 2019-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109411322B (zh) 等离子体处理方法和等离子体处理装置
US10431433B2 (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
CN104377106B (zh) 等离子体反应腔室阻抗自动匹配方法
US20190333741A1 (en) Plasma processing method and plasma processing apparatus
CN110479701B (zh) 超声波设备及其控制方法
KR20110100595A (ko) 자동 정합 방법, 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체, 자동 정합 장치 및 플라즈마 처리 장치
TW200307989A (en) Method and apparatus for tuning an RF matching network in a plasma enhanced semiconductor wafer processing system
KR20080111801A (ko) 플라즈마 공정장치 및 그 방법
US10763126B2 (en) Etching apparatus and etching method
EP1914717B1 (en) Macrosonic generator for the air-based industrial defoaming of liquids
JP2022171695A (ja) プラズマ処理装置、及び電源制御方法
WO2018207705A1 (ja) マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置
US6207007B1 (en) Plasma processing system
EP1986225A1 (en) Plasma etching method
US20060054182A1 (en) System and method of powering a sonic energy source and use of the same to process substrates
JP2016027592A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2019186099A (ja) プラズマ処理装置
JP2020077657A5 (zh)
JP5528363B2 (ja) プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
JP2020136338A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
KR20230043073A (ko) 기판에 걸친 플라즈마 프로세스 결과들의 균일도를 제어하기 위해 바이어스 무선 주파수 공급부에서 저 주파수 고조파의 사용을 위한 시스템들 및 방법들
WO2020022430A1 (ja) 制御装置、制御方法及びコンピュータプログラム
CN110502049B (zh) 卡盘温度控制方法、卡盘温度控制系统及半导体设备
TWI805948B (zh) 判定用於介電基板的電漿處理的離子能量的方法及用於介電基板的電漿處理的設備
JP2005011858A (ja) プラズマを用いた半導体製造におけるμ波パワー設定方法並びに当該設定方法を適用した半導体装置の製造装置及び上記設定方法を用いた半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant