CN110471254A - 一种应用于彩膜工艺的对位方法和对位装置 - Google Patents

一种应用于彩膜工艺的对位方法和对位装置 Download PDF

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CN110471254A CN201910803287.4A CN201910803287A CN110471254A CN 110471254 A CN110471254 A CN 110471254A CN 201910803287 A CN201910803287 A CN 201910803287A CN 110471254 A CN110471254 A CN 110471254A
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Abstract

本发明公开了一种应用于彩膜工艺的对位方法和对位装置，其中，应用于彩膜工艺的对位装置包括：超声波发生器、信号接收器和处理器；所述超声波发生器用于发送超声波至所述显示面板的表面；所述超声波用于穿过所述显示面板的黑色色阻层到达所述显示面板的待测试层并进行反射；所述待测试层设置有多个对位标记；所述信号接收器与所述超声波发生器电性连接，用于接收所述待测试层反射的所述超声波；所述处理器与所述信号接收器电性连接，用于对所述信号接收器接收的所述超声波进行处理，以获取所述对位标记的位置。本发明提供了一种应用于彩膜工艺的对位方法和对位装置，以解决现有彩膜制作工艺中曝光过程的曝光精度低的问题。

Description

一种应用于彩膜工艺的对位方法和对位装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种应用于彩膜工艺的对位方法和对位装置。
背景技术
随着科技的发展，对手机、笔记本等移动设备的要求越来越高，移动设备轻薄、可弯折成为未来发展的趋势。并且随着移动设备的显示面板的像素密度(Pixels Per Inch，PPI)的发展，对显示面板的彩膜(Color Filter，CF)制作工艺要求越来越高。
在CF制作工艺中，为了防止个像素混色和漏光的问题，需要在各色色阻块之间制作黑色矩阵(Black Matrix，BM)层，但是由于BM层遮光度较高，材料透光度较低，使得曝光装置无法识别到BM层下掩盖的对位标记，导致曝光机与对位标记对位不准确，影响曝光精度。
发明内容
本发明实施例提供了一种应用于彩膜工艺的对位方法和对位装置，以解决现有彩膜制作工艺中曝光过程的曝光精度低的问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种应用于彩膜工艺的对位装置，包括：超声波发生器、信号接收器和处理器；
所述超声波发生器用于发送超声波至显示面板的表面；所述超声波用于穿过所述显示面板的黑色色阻层到达所述显示面板的待测试层并进行反射；所述待测试层设置有多个对位标记；
所述信号接收器用于接收所述待测试层反射的所述超声波；
所述处理器与所述信号接收器电性连接，用于对所述信号接收器接收的所述超声波进行处理，以获取所述对位标记在所述显示面板上的位置。超声波能够穿过黑色色阻层表面，获取待测试层设置的对位标记，能够有效提高曝光掩膜版与显示面板的对位精度，以提高曝光精度，从而提高彩膜工艺的生产良率。
根据本发明的一个方面，还包括：显示器；
所述显示器与所述处理器电性连接，用于将所述对位标记在所述显示面板上的位置在所述显示器上进行显示。显示器能够将对位标记在显示面板上的具体位置进行显示，便于用户观察，并有利于提高曝光掩膜版与显示面板的对位精度。
根据本发明的一个方面，所述显示面板所处基板母板包括阵列排布的多个所述显示面板；所述基板母板包括相对设置的第一边缘和第二边缘；
所述信号接收器包括条状结构；所述条状结构的长度大于或等于所述基板母板的第一边缘和所述第二边缘的长度；所述信号接收器用于相对于所述基板母板移动，沿所述第一边缘指向所述第二边缘的方向进行扫描，以获取所述显示面板待测试层反射的所述超声波。在显示面板的制作过程中，多个显示面板阵列排布形成基板母板，对基板母板进行曝光等工艺，信号接收器为条状结构，可对整个基板模板从第一边缘至第二边缘进行全面扫描，提高对位标记的位置获取精度，提高曝光工艺的曝光精度。
根据本发明的一个方面，所述显示面板所处基板母板包括阵列排布的多个所述显示面板；所述基板母板包括相对设置的第一边缘和第二边缘；
所述信号接收器包括多个条状结构；所述基板母板包括与所述条状结构一一对应的对位标记设置区域；每个所述条状结构的长度大于或等于对应对位标记设置区域的宽度；
每个所述条状结构均相对于所述基板母板移动，沿所述第一边缘指向所述第二边缘的方向进行扫描；每个所述条状结构的扫描路径在所述基板母板上的垂直投影覆盖对应的对位标记设置区域，以获取所述对位标记设置区域反射的所述超声波。信号接收器可以为多个条状结构，条状结构分别用于对对应的对位标记设置区域进行扫描，从而能够快速锁定对位标记设置的区域，便于快速定位对位标记，并且仅扫描对位标记设置区域能够减少处理器图形处理、分析及筛选的时间。
其中，所述对位标记设置区域的宽度为2～3个对位标记的宽度。对位标记设置区域的宽度为2～3个对位标记的宽度，使得各条状结构的宽度大于2～3个对位标记的宽度，使得各条状结构能够覆盖对应的对位标记，提高对位精度，避免漏检对位标记的情况。
根据本发明的一个方面，在平行于所述显示面板的平面上，所述对位标记设置区域设置于曝光掩膜版的边缘。可仅在曝光掩膜版的边缘设置对位标记，以减少对位标记的设置个数，减少对位标记的定位时间，降低对位标记的定位难度。
根据本发明的一个方面，所述待测试层为玻璃衬底或阳极层。超声波不仅能够获取玻璃衬底上的对位标记，还能获取间隔玻璃衬底设置的阳极层上的对位标记，增大了对位装置的适用范围，增强对位装置的对位功能。
第二方面，本发明提供一种应用于彩膜工艺的对位方法，所述应用于彩膜工艺的对位装置包括超声波发生器、信号接收器和处理器，所述应用于彩膜工艺的对位方法，包括：
通过超声波发生器发送超声波至所述显示面板的表面；所述超声波穿过所述显示面板的黑色色阻层到达所述显示面板的待测试层并进行反射；所述待测试层设置有多个对位标记；
所述信号接收器接收所述待测试层反射的所述超声波；
所述处理器对所述信号接收器接收的所述超声波进行处理，以获取所述对位标记在所述显示面板上的位置。超声波能够穿过黑色色阻层表面，获取待测试层设置的对位标记，能够有效提高曝光掩膜版与显示面板的对位精度，以提高曝光精度，从而提高彩膜工艺的生产良率。
根据本发明的一个方面，所述处理器对所述信号接收器接收的所述超声波进行处理，以获取所述对位标记在所述显示面板上的位置，包括：
所述处理器对所述信号接收器接收到的所述超声波进行处理，获取所述待测试层的图像；
根据所述待测试层的图像获取所述对位标记在所述显示面板上的位置。通过将超声波信号转换为待测试层的图形信号，便于直观地获取待测试层上对位标记的位置，提高曝光掩膜版的对位精度。
根据本发明的一个方面，所述显示面板所处基板母板包括阵列排布的多个所述显示面板；所述基板母板包括相对设置的第一边缘和第二边缘；
所述信号接收器包括条状结构；所述条状结构的长度大于或等于所述基板母板的第一边缘和所述第二边缘的长度；所述信号接收器接收所述待测试层反射的所述超声波，包括：控制所述信号接收器相对于所述基板母板移动，沿所述第一边缘指向所述第二边缘的方向进行扫描，获取整个基板母板反射的超声波。对整个基板母板从第一边缘至第二边缘进行全面扫描，提高对位标记的位置获取精度，提高曝光工艺的曝光精度。
可选的，所述信号接收器包括多个条状结构；所述基板母板包括与所述条状结构一一对应的对位标记设置区域；每个所述条状结构的长度大于或等于对应对位标记设置区域的宽度；
所述信号接收器接收所述待测试层反射的所述超声波，包括：
将每个所述条状结构与对应的所述对位标记设置区域所处第一边缘位置正对设置；
控制所述信号接收器沿所述第一边缘指向所述基板母板的第一边缘的方向进行扫描；每个所述条状结构的扫描路径在所述基板母板上的垂直投影覆盖对应的对位标记设置区域；
每个所述条状结构获取对应所述标记设置区域反射的超声波。条状结构分别用于对对应的对位标记设置区域进行扫描，从而能够快速锁定对位标记设置的区域，便于快速定位对位标记，并且仅扫描对位标记设置区域能够减少处理器图形处理、分析及筛选的时间。
第三方面，本发明提供一种曝光机系统，包括上述权利要求1-7任一项所述的应用于彩膜工艺的对位装置，还包括：曝光机和曝光掩膜版。
本发明中，应用于彩膜工艺的对位装置可包括超声波发生器、信号接收器和处理器，利用超声波发生器将超声波发送至显示面板的表面，超声波能够穿过显示面板的黑色色阻层到达设置对位标记的待测试层，待测试层能够将超声波进行反射，使得信号接收器接收待测试层反射的超声波，信号接收器能够将接收的超声波信号发送至处理器，处理器根据超声波信号获取待测试层的图像信号，从而获取待测试层上的对位标记的位置，有利于后续对位、曝光等工艺的进行，本实施例的方案能够解决无法获取黑色色阻层覆盖的对位标记的位置的问题，有效提高曝光掩模版与显示面板的对位精度，以提高曝光精度，从而提高彩膜工艺的生产良率。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种应用于彩膜工艺的对位装置的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图5是本发明实施例提供的另一种应用于彩膜工艺的对位装置的结构示意图；
图6是本发明实施例提供的一种应用于彩膜工艺的对位方法的流程图；
图7是本发明实施例提供的一种曝光机系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
现有技术中，彩膜工艺应用在大尺寸的产品中，在黑色色阻层覆盖玻璃衬底或其他结构层的对位标记时，无法获取对位标记的位置，从而不通过对位标记进行对位。因为工作台上，包括多个显示面板的基板母板在工作台上的位置是固定的，工作台和曝光掩模版的相对位置是可获取的，则借助工作台获取曝光掩模版和显示面板的相对位置，从而完成显示面板与曝光掩模版之间的对位操作。然而上述对位方案对位精度降低，容易产生较大的对位误差。
为解决上述问题，本发明实施例提供了一种应用于彩膜工艺的对位装置，图1是本发明实施例提供的一种应用于彩膜工艺的对位装置的结构示意图，如图1所示，应用于彩膜工艺的对位装置包括：
超声波发生器11、信号接收器12和处理器13；
超声波发生器11用于发送超声波至显示面板2的表面；超声波用于穿过显示面板2的黑色色阻层到达显示面板2的待测试层并进行反射；待测试层设置有多个对位标记；
信号接收器12用于接收待测试层反射的超声波；
处理器13与信号接收器12电性连接，用于对信号接收器12接收的超声波进行处理，以获取对位标记在显示面板2上的位置。
本发明实施例中的应用于彩膜工艺的对位装置可包括超声波发生器、信号接收器和处理器，利用超声波发生器将超声波发送至显示面板的表面，超声波能够穿过显示面板的黑色色阻层到达设置对位标记的待测试层，待测试层能够将超声波进行反射，使得信号接收器接收待测试层反射的超声波，信号接收器能够将接收的超声波信号发送至处理器，处理器根据超声波信号获取待测试层的图像信号，从而获取待测试层上的对位标记的位置，有利于后续对位、曝光等工艺的进行，本实施例的方案能够解决无法获取黑色色阻层覆盖的对位标记的位置的问题，有效提高曝光机掩模版与显示面板的对位精度，以提高曝光精度，从而提高CF工艺的生产良率。
本实施例的曝光工艺中的曝光机以目前主流曝光机CANON 6SCAN为例，如图2所示，图2是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，值得注意的是，本实施例中的显示面板2不一定为包含完整的阵列基板和彩膜基板的面板结构，还可以为显示面板的部分结构，例如，本实施例中的显示面板2仅包含彩膜基板，也可以仅包含彩膜基板的一部分，参考图2，在彩膜工艺中，首先形成玻璃衬底21，而后在玻璃衬底21上形成各色色阻层25，具体的，曝光机通过曝光掩膜版对显示面板2进行曝光，并进行刻蚀，从而形成各色色阻的图形。为了提高曝光精度，提高显示面板的生产良率，需要对曝光掩膜版和显示面板进行精准的对位。但是在形成发光层中的红色色阻层R、蓝色色阻层B以及绿色色阻层G之前，为防止各色色阻层发生混色和漏光的问题，需要首先形成黑色色阻层22，参考图3，图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，在对黑色色阻层22进行刻蚀之前，需要可形成一整层的黑色色阻层22，并对一整层的黑色色阻层22进行曝光，通过一般的光学检测设备无法获取黑色色阻层22覆盖的对位标记23的，本实施例在曝光工艺前，通过对位装置对对位标记23在显示面板上的位置进行测量，对位装置包括超声波发生器11，超声波发生器11发出的超声波能够穿透不透明的物质对待测试层的图像进行获取，通过声全息对位方式实现曝光掩膜版与待测试层上对位标记的对位。
参考图3，本实施例中的待测试层可以为玻璃衬底21，当然待测试层除了玻璃衬底21还可以为阳极层，如图4所示，图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，对比图2和图4，阳极层24可以不设置在各色色阻层25远离玻璃衬底21的一侧，还可以设置在玻璃衬底21远离各色色阻层25的一侧。当阳极层24设置在玻璃衬底21远离各色色阻层25的一侧，则对位标记可以设置在阳极层24上，待测试层可以为阳极层24。超声波不仅能够获取与黑色色阻层22相邻设置的玻璃衬底21的图形，还能获取间隔玻璃衬底21设置的阳极层24上的对位标记，增大了对位装置的适用范围，增强对位装置的对位功能。
具体的，本实施例通过超声波的干涉获取待测试层的声场全部信息，例如，振幅分布和相位分布等，并利用衍射原理再现待测试层的图像。对位装置还包括信号接收器12，信号接收器12能够接收待测试层反射的超声波，并获取反射回来的超声波所包含的待测试层的声场信息，从而使得处理器13能够根据反射回信号接收器12的超声波，获取待测试层的图形，从而获取对位标记23在待测试层上的位置，从而获取对位标记23在显示面板上的位置，便于实现曝光掩膜版与显示面板2之间的对位。在某一对比例中，获取黑色色阻层22覆盖的对位标记23的方法为涂覆完成整层的黑色色阻层22后，人工在设置有对位标记23的大致位置处理露出对位标记23，以保证后续曝光掩膜版和显示面板2之间的对位，但是人工处理效率较慢，定位准确率低，制约了显示面板的工程化生产进程。本实施例通过对位装置利用声全息对位原理实现对位，对位迅速，简化了制作工艺。
在上述实施例的基础上，继续参考图1，可选的，应用于彩膜工艺的对位装置还包括：显示器14；显示器14与处理器13电性连接，用于将对位标记在显示面板2上的位置在显示器14上进行显示。显示器14能够将对位标记在显示面板2上的具体位置进行显示，便于用户观察，并有利于提高曝光掩膜版与显示面板的对位精度。
可选的，显示面板2所处基板母板3包括阵列排布的多个显示面板2；基板母板3包括相对设置的第一边缘L1和第二边缘L2；信号接收器12包括条状结构121；条状结构121的长度D2大于或等于基板母板3的第一边缘L1和/或第二边缘L2的长度；信号接收器12用于相对于基板母板3移动，沿第一边缘L1指向基板母板3的第一边缘L1的方向进行扫描，以获取显示面板待测试层反射的超声波。
在显示面板的制作过程中，多个显示面板2阵列排布形成基板母板3，在进行彩膜工艺时，是在整个基板母板3上进行的，则在实现曝光掩膜版与显示面板的对位时，实际上是对曝光掩膜版与整个基板母板3进行对位，基板母板3包括相对设置的第一边缘L1和第二边缘L2，可通过信号接收器12由第一边缘L1至第二边缘L2进行扫描，从而获取整个待测试层反射的超声波，获取对位坐标在显示面板上的具体位置。在信号接收器12对基板母板3进行扫描时，可以是信号接收器12移动，基板母板3静止，由信号接收器12跨过基板母板3进行扫描，也可以使信号接收器12静止，基板母板3移动，由基板母板3跨过信号接收器12，也可以是信号接收器12和基板母板3相对运动，从而加快信号接收器12的扫描进程，本实施例对信号接收器12和基板母板3之间的运动不进行限定，信号接收器12和基板母板3之间存在相对运动即可。
参考图1，本实施例中，信号接收器12仅包含一个条状结构121，条状结构121的长度D2大于或等于基板母板3的第一边缘L1，以及第二边缘L2的长度。从而保证信号接收器12可对整个基板母板3从第一边缘L1至第二边缘L2进行全面扫描，提高对位标记的位置获取精度，提高曝光工艺的曝光精度。
参考图5，图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的对位装置的结构示意图，可选的，显示面板2所处基板母板3包括阵列排布的多个显示面板2；基板母板3包括相对设置的第一边缘L1和第二边缘L2；信号接收器12包括多个条状结构121；基板母板3包括与条状结构121一一对应的对位标记设置区域B；每个条状结构121的长度大于或等于对应对位标记设置区域B的宽度d；每个条状结构121均相对于基板母板3移动，沿第一边缘L1指向第二边缘2的方向进行扫描；每个条状结构121的扫描路径在基板母板3上的垂直投影覆盖对应的对位标记设置区域B，以获取对位标记设置区域B反射的超声波；其中，对位标记设置区域D的宽度d为2～3个对位标记的宽度。
参考图5，本实施例中信号接收器12包括多个条状结构121，条状结构121的长度D3小于基板母板2的第一边缘L1和第二边缘L2，条状结构121逐个设置于信号接收器12，用于分别对对应的对位标记设置区域B进行扫描，条状结构121可与对位标记设置区域B一一对应设置。当信号接收器12由第一边缘L1至第二边缘L2进行扫描时，每个条状结构121在基板母板3上的垂直投影覆盖对应的对位标记设置区域B，使得条状结构121对对应对位标记设置区域B进行扫描，获取对位标记设置区域B反射的超声波。信号接收器12可以包括多个条状结构121，条状结构121分别用于对对应的对位标记设置区域B进行扫描，从而能够快速锁定对位标记设置的区域，便于快速定位对位标记，并且仅扫描对位标记设置区域能够减少处理器图形处理、分析及筛选的时间。
可选的，对位标记设置区域的宽度为2～3个对位标记的宽度。对位标记设置区域的宽度为2～3个对位标记的宽度，使得各条状结构121的宽度大于2～3个对位标记的宽度，使得各条状结构121能够覆盖对应的对位标记，提高对位精度，避免漏检对位标记的情况。本实施例中，对位标记的宽度可以为50um左右。本实施例采用分段的条状结构121，仅在对位标记的大概位置设置条状结构121，节省处理器13处理数据的时间，并提高对位速度和对位精度。
可选的，在平行于显示面板2的平面上，对位标记设置区域设置于曝光掩膜版的边缘。可仅在曝光掩膜版的边缘设置对位标记，以减少对位标记的设置个数，减少对位标记的定位时间，降低对位标记的定位难度。
本发明实施例还提供了一种应用于彩膜工艺的对位方法，如图6所示，图6是本发明实施例提供的一种应用于彩膜工艺的对位方法的流程图，适用于本发明任意实施例提供的应用于彩膜工艺的对位装置，应用于彩膜工艺的对位装置包括超声波发生器、信号接收器和处理器，应用于彩膜工艺的对位方法，包括：
S101、通过超声波发生器发送超声波至显示面板的表面；超声波穿过显示面板的黑色色阻层到达显示面板的待测试层并进行反射；待测试层设置有多个对位标记。
S102、信号接收器接收待测试层反射的超声波。
S103、处理器对信号接收器接收的超声波进行处理，以获取对位标记在显示面板上的位置。
本实施例提供的对位方法，应用于彩膜工艺的对位装置可包括超声波发生器、信号接收器和处理器，利用超声波发生器将超声波发送至显示面板的表面，超声波能够穿过显示面板的黑色色阻层到达设置对位标记的待测试层，待测试层能够将超声波进行反射，使得信号接收器接收待测试层反射的超声波，信号接收器能够将接收的超声波信号发送至处理器，处理器根据超声波信号获取待测试层的图像信号，从而获取待测试层上的对位标记的位置，有利于后续对位、曝光等工艺的进行，本实施例的方案能够解决无法获取黑色色阻层覆盖的对位标记的位置的问题，有效提高曝光掩膜版与显示面板的对位精度，以提高曝光精度，从而提高CF工艺的生产良率。
在上述实施例的基础上，处理器对信号接收器接收的超声波进行处理，以获取对位标记在显示面板上的位置，包括：处理器对信号接收器接收到的超声波进行处理，获取待测试层的图像；根据待测试层的图像获取对位标记在显示面板上的位置。通过将超声波信号转换为待测试层的图形信号，便于直观地获取待测试层上对位标记的位置，提高曝光掩膜版的对位精度。
可选的，显示面板所处基板母板包括阵列排布的多个显示面板；基板母板包括相对设置的第一边缘和第二边缘；信号接收器包括条状结构；条状结构的长度大于或等于基板母板的第一边缘和第二边缘的长度；信号接收器接收待测试层反射的超声波，包括：控制信号接收器相对于基板母板移动，沿第一边缘指向第二边缘的方向进行扫描，获取整个基板母板反射的超声波。对整个基板模板从第一边缘至第二边缘进行全面扫描，提高对位标记的位置获取精度，提高曝光工艺的曝光精度。
可选的，信号接收器包括多个条状结构；基板母板包括与条状结构一一对应的对位标记设置区域；每个条状结构的长度大于或等于对应对位标记设置区域的宽度；信号接收器接收待测试层反射的超声波，包括：将每个条状结构与对应的对位标记设置区域所处第一边缘位置正对设置；控制信号接收器沿第一边缘指向基板母板的第一边缘的方向进行扫描；每个条状结构的扫描路径在基板母板上的垂直投影覆盖对应的对位标记设置区域；每个条状结构获取对应标记设置区域反射的超声波。条状结构分别用于对对应的对位标记设置区域进行扫描，从而能够快速锁定对位标记设置的区域，便于快速定位对位标记，并且仅扫描对位标记设置区域能够减少处理器图形处理、分析及筛选的时间。
本发明实施例还提供一种曝光机系统。图7是本发明实施例提供的一种曝光机系统的结构示意图，如图7所示，本发明实施例提供曝光机系统2用于对本发明任意实施例提及的显示面板或基板母板进行曝光工艺，尤其是在显示面板的彩膜工艺中，曝光机系统2包括本发明任意实施例提供的应用于彩膜工艺的对位装置1，还包括对显示面板进行曝光工艺的曝光机3和曝光掩膜版4。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种应用于彩膜工艺的对位装置，其特征在于，包括：超声波发生器、信号接收器和处理器；
所述超声波发生器用于发送超声波至显示面板的表面；所述超声波用于穿过所述显示面板的黑色色阻层到达所述显示面板的待测试层并进行反射；所述待测试层设置有多个对位标记；
所述信号接收器用于接收所述待测试层反射的所述超声波；
所述处理器与所述信号接收器电性连接，用于对所述信号接收器接收的所述超声波进行处理，以获取所述对位标记在所述显示面板上的位置。
2.根据权利要求1所述的应用于彩膜工艺的对位装置，其特征在于，还包括：显示器；
所述显示器与所述处理器电性连接，用于将所述对位标记在所述显示面板上的位置在所述显示器上进行显示。
3.根据权利要求1所述的应用于彩膜工艺的对位装置，其特征在于，所述显示面板所处基板母板包括阵列排布的多个所述显示面板；所述基板母板包括相对设置的第一边缘和第二边缘；
所述信号接收器包括条状结构；所述条状结构的长度大于或等于所述基板母板的第一边缘和所述第二边缘的长度；所述信号接收器用于相对于所述基板母板移动，沿所述第一边缘指向所述第二边缘的方向进行扫描，以获取所述显示面板待测试层反射的所述超声波。
4.根据权利要求1所述的应用于彩膜工艺的对位装置，其特征在于，所述显示面板所处基板母板包括阵列排布的多个所述显示面板；所述基板母板包括相对设置的第一边缘和第二边缘；
所述信号接收器包括多个条状结构；所述基板母板包括与所述条状结构一一对应的对位标记设置区域；每个所述条状结构的长度大于或等于对应对位标记设置区域的宽度；
每个所述条状结构均相对于所述基板母板移动，沿所述第一边缘指向所述第二边缘的方向进行扫描；每个所述条状结构的扫描路径在所述基板母板上的垂直投影覆盖对应的对位标记设置区域，以获取所述对位标记设置区域反射的所述超声波；
其中，所述对位标记设置区域的宽度为2～3个对位标记的宽度。
5.根据权利要求4所述的应用于彩膜工艺的对位装置，其特征在于，
在平行于所述显示面板的平面上，所述对位标记设置区域设置于曝光掩膜版的边缘。
6.根据权利要求1所述的应用于彩膜工艺的对位装置，其特征在于，
所述待测试层为玻璃衬底或阳极层。
7.一种应用于彩膜工艺的对位方法，其特征在于，所述应用于彩膜工艺的对位装置包括超声波发生器、信号接收器和处理器，所述应用于彩膜工艺的对位方法，包括：
通过超声波发生器发送超声波至所述显示面板的表面；所述超声波穿过所述显示面板的黑色色阻层到达所述显示面板的待测试层并进行反射；所述待测试层设置有多个对位标记；
所述信号接收器接收所述待测试层反射的所述超声波；
所述处理器对所述信号接收器接收的所述超声波进行处理，以获取所述对位标记在所述显示面板上的位置。
8.根据权利要求7所述的应用于彩膜工艺的对位方法，其特征在于，所述处理器对所述信号接收器接收的所述超声波进行处理，以获取所述对位标记在所述显示面板上的位置，包括：
所述处理器对所述信号接收器接收到的所述超声波进行处理，获取所述待测试层的图像；
根据所述待测试层的图像获取所述对位标记在所述显示面板上的位置。
9.根据权利要求7所述的应用于彩膜工艺的对位方法，其特征在于，所述显示面板所处基板母板包括阵列排布的多个所述显示面板；所述基板母板包括相对设置的第一边缘和第二边缘；
所述信号接收器包括条状结构；所述条状结构的长度大于或等于所述基板母板的第一边缘和所述第二边缘的长度；所述信号接收器接收所述待测试层反射的所述超声波，包括：控制所述信号接收器相对于所述基板母板移动，沿所述第一边缘指向所述第二边缘的方向进行扫描，获取整个基板母板反射的超声波；或者，
所述信号接收器包括多个条状结构；所述基板母板包括与所述条状结构一一对应的对位标记设置区域；每个所述条状结构的长度大于或等于对应对位标记设置区域的宽度；
所述信号接收器接收所述待测试层反射的所述超声波，包括：
将每个所述条状结构与对应的所述对位标记设置区域所处第一边缘位置正对设置；
控制所述信号接收器沿所述第一边缘指向所述基板母板的第一边缘的方向进行扫描；每个所述条状结构的扫描路径在所述基板母板上的垂直投影覆盖对应的对位标记设置区域；
每个所述条状结构获取对应所述标记设置区域反射的超声波。
10.一种曝光机系统，其特征在于，包括上述权利要求1-6任一项所述的应用于彩膜工艺的对位装置，还包括：曝光机和曝光掩膜版。
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