CN110438562B - 一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置 - Google Patents
一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110438562B CN110438562B CN201910859372.2A CN201910859372A CN110438562B CN 110438562 B CN110438562 B CN 110438562B CN 201910859372 A CN201910859372 A CN 201910859372A CN 110438562 B CN110438562 B CN 110438562B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- quartz
- heat dissipation
- quartz ampoule
- ampoule bottle
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/20—Controlling or regulating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/40—AIIIBV compounds wherein A is B, Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
- C30B29/42—Gallium arsenide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
本发明公开了一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置。所述装置包括石英安瓿瓶、支撑底座和支撑平台;所述石英安瓿瓶置于支撑底座上端,支撑底座放置在支撑平台上,并与支撑平台固定连接;所述支撑底座内设有炉芯,炉芯设有散热棒,且散热棒插入炉芯内,并与支撑平台可拆卸连接,装炉时散热棒的上端与石英安瓿瓶的下端瓶口保持距离,散热棒向上运动时与石英安瓿瓶的下端瓶口接触。在等径生长阶段,等径生长至50mm时,利用散热棒向上与石英安瓿瓶的下端瓶口接触,利用散热棒通过热辐射和热传导的方式将结晶潜热多余的热量缓慢放出,晶体生长完成后,无需再进行原位退火来减小晶体的热应力。
Description
技术领域
本发明涉及单晶生长领域,具体涉及一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置。
背景技术
如Si、GaAs和InP等重要的半导体材料通常都是使用熔体生长技术进行制备的,例如:提拉(Cz)、部分液体封装技术(LEC)和垂直梯度凝固技术(VGF)等。晶体中结晶缺陷的属性与所选用的生长技术密切相关,采用不同的生长技术或方法生长的晶体,往往有着特定的结晶缺陷,这就构成了晶体结晶缺陷的多样性。例如:对于坩埚下降法生长的晶体来说,包裹体是主要的结晶缺陷,它包括杂质粒包裹体、被包裹物质在高温下升华而在晶体中留下的空洞等;对于熔体籽晶提拉法生长的晶体来说,包裹体不再是主要的结晶缺陷,取而代之的是螺旋位错、刃型位错、晶界(只有多晶体中存在)等。每一种方法或技术都与晶体生长的热力学和动力学有着各自的关系。
晶体生长中一般可分为三个阶段:动力学阶段、体扩散阶段和潜热释放阶段。对于GaAs单晶生长,第三阶段潜热释放是决定晶体生长速率的关键,也是影响固-液界面角度的重要因素。潜热释放阶段是指在晶体化过程中产生的热量,通过辐射、热传导等途径释放。VGF单晶采用的是炉体加热,熔体边缘离加热器距离近,温度较高,而中间部分离加热器距离远,温度低;但在释放潜热的过程中,熔体中间的热量更难释放,会形成相对热量聚集。因此,晶体生长的固-液界面角度取决于这两种趋势的均衡。坩埚下部温度逐渐降低后,坩埚壁局部过冷区域形成晶核并释放结晶潜热。通常,过冷度较小时晶体正常生长,过冷度较大时结晶潜热易形成,如果不能有效释放的话容易出现枝蔓生长,形成孪晶或星型结构等缺陷。采用垂直布里奇曼法(VB)、坩埚下降法和VGF制备晶体都需要在晶体生长完后进行原位退火来减小热应力。普遍采用的退火方式是当熔体全部结晶完成后,将PBN坩埚移至恒温去区域,在900~1100℃范围内保温几十个小时来消除晶体内部的应力,然后控制降温速率为30~70℃/h,降至室温,周期较长。因此,如何有效释放结晶潜热是砷化镓单晶生长中的一个难点。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足之处而提供一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,该装置结构设计简单,能够方便、有效地释放结晶潜热。
本发明的目的还在于提供一种利用上述装置有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案如下:
一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,包括石英安瓿瓶、支撑底座和支撑平台;所述石英安瓿瓶置于支撑底座上端,支撑底座放置在支撑平台上,并与支撑平台固定连接;所述支撑底座内设有炉芯;所述炉芯设有散热棒,且散热棒插入炉芯内,并与支撑平台可拆卸连接,装炉时散热棒的上端与石英安瓿瓶的下端瓶口保持距离,散热棒向上运动时与石英安瓿瓶的下端瓶口接触。
该装置结构简单,成本较低,晶体等径生长至50mm时,利用散热棒向上与石英安瓿瓶的下端瓶口接触,通过热辐射和热传导的方式将结晶潜热多余的热量缓慢放出,获得的晶棒热应力较小,晶体生长完后无需进行原位退火。
优选地,所述支撑底座为石墨一体底座。
优选地,所述支撑底座由内到外依次套设有炉芯、内石英管、内炉套、外石英管和外炉套,所述内石英管与内炉套之间、内炉套与外石英管之间、外石英管与外炉套之间均设有间隙,更优选地,所述间隙为4-5mm。
本发明的支撑底座采用炉套和石英管双层交替组合形成,石英管质地比较硬,主要作用是用来支撑石英安瓿瓶和坩埚。石英管与炉套之间均设有空隙,一方面能够防止石英管热胀冷缩,在坩埚下降过程中出现卡管,停止坩埚下降的现象,另一方面多余的热量可以通过间隙以对流的形式缓慢传出,确保热场和固液界面的稳定,达到良好的长晶效果。
优选地,装炉时所述散热棒的上端与石英安瓿瓶的下端瓶口距离50-60mm。
优选地,所述支撑底座上端设有石英棉,所述石英安瓿瓶置于石英棉上,散热棒向上运动,穿破石英棉并与石英安瓿瓶的下端瓶口接触。
在石英安瓿瓶的下端瓶口与石英管之间设有石英棉堵住,一是石英棉起到保温作用,防止热量从炉套与石英管的空隙间散失;二是防止石英管磕碰损坏石英安瓿瓶以及生长结束后石英安瓿瓶容易与起支撑作用的石英管分离。
优选地,所述散热棒为石英棒或陶瓷棒。石英或陶瓷的导热系数均较为合适,但陶瓷棒的成本较高。
优选地,所述支撑平台还设有用于调节支撑平台升降的升降液压轴,以及用于固定散热棒的固定件,所述散热棒与固定件通过铁丝进行连接。所述固定件可选用螺钉、螺栓或固定卡件。通过固定件和铁丝对散热棒进行固定,结构简单,易操作。优选地,所述石英安瓿瓶内放置有坩埚,优选为PBN坩埚;
所述石英安瓿瓶包括依次连接的等径部分、放肩部分和籽晶井,所述放肩部分的上端口直径等于等径部分的下端口直径,放肩部分的下端口直径等于籽晶井的上端口直径,且放肩部分的直径从上端口沿下端口方向逐渐缩小。
优选地,所述炉芯设有测温热电偶,包括用于测定籽晶下端温度的测温热电偶Tc1、用于测定籽晶上端温度的测温热电偶Tc2以及用于测定肩部等径位置温度的测温热电偶Tc3。
本发明还提供了利用上述装置有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法,包括以下步骤:
(1)将砷化镓籽晶、氧化硼和砷化镓多晶料装入坩埚后,将坩埚置于底部放有砷的石英安瓿瓶中,在抽真空的条件下密封石英安瓿瓶;
(2)将支撑底座置于炉膛的中心区域,将石英安瓿瓶置于支撑底座上端,将散热棒伸入炉芯内并固定在支撑平台上,散热棒与石英安瓿瓶的下端瓶口保持距离;
(3)依次完成熔料、引晶和放肩工序,等径生长到50mm后,使散热棒向上运动,当散热棒与石英安瓿瓶的下端瓶口接触后,将散热棒再次固定在支撑平台上;
(4)待籽晶下端温度下降5~10℃,籽晶上端温度下降3~5℃,肩部等径位置温度下降0.5~2℃,散热棒一端继续与石英安瓿瓶的下端口保持接触,再按照设定的梯度继续进行等径生长和冷却,待炉温降到300℃以下时关炉,自然冷却。
优选地,所述步骤(2)中,在支撑底座的上端铺设石英棉后,再将石英安瓿瓶置于石英棉上。
优选地,所述支撑底座的制备方法,具体包括以下步骤:
1)选择所需尺寸和厚度的湿毡,在湿毡的表面涂抹耐高温水泥后,形成圆筒,去除水分后,分别得到内炉套和外炉套;
2)由内到外依次套设炉芯、内石英管、内炉套、外石英管和外炉套,形成支撑底座。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:
(1)在等径生长阶段,晶体等径生长至50mm时,利用散热棒向上与石英安瓿瓶的下端瓶口接触,利用散热棒通过热辐射和热传导的方式将结晶潜热多余的热量缓慢放出。
(2)本发明的装置结构简单,易于制作,成本较低,晶体生长完成后,无需再进行原位退火来减小热应力,既减少生长周期又节约了能源,获得的晶棒热应力较小,有利于后续晶棒的加工、晶片的加工及入库。
附图说明
图1为本发明的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置的结构示意图;
图2为本发明的支撑底座的结构示意图;
图中,1-坩埚,2-石英安瓿瓶,3-石英棉,4-散热棒,5-支撑底座,6-支撑平台,7-固定件,8-测温热电偶Tc1,9-测温热电偶Tc2,10-测温热电偶Tc3,11-升降液压轴,51-炉芯,52-内石英管,53-内炉套,54-外石英管,55-外炉套。
具体实施方式
为更好地说明本发明的目的、技术方案和优点,下面将结合具体实施例对本发明进一步说明。本领域技术人员应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
如图1所示,本发明的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,包括石英安瓿瓶2、支撑底座5和支撑平台6;所述石英安瓿瓶2置于支撑底座5上端,支撑底座5放置在支撑平台6上,并与支撑平台6固定连接;所述支撑底座5内设有炉芯51;所述炉芯51设有散热棒4,且散热棒4插入炉芯51内,并与支撑平台6可拆卸连接,装炉时散热棒4的上端与石英安瓿瓶2的下端瓶口保持距离,散热棒4向上运动时与石英安瓿瓶2的下端瓶口接触。晶体等径生长至50mm时,利用散热棒4向上与石英安瓿瓶2的下端瓶口接触,通过热辐射和热传导的方式将结晶潜热多余的热量缓慢放出,获得的晶棒热应力较小,晶体生长完后无需进行原位退火。
在本发明中,所述支撑底座5为石墨一体底座。
在本发明中,所述支撑底座5由内到外依次套设有炉芯51、内石英管52、内炉套53、外石英管54和外炉套55,所述内石英管52与内炉套53之间、内炉套53与外石英管54之间、外石英管54与外炉套55之间均设有间隙,所述间隙的最佳优选值为4-5mm。
本发明的支撑底座5采用炉套和石英管双层交替组合形成,石英管质地比较硬,主要作用是用来支撑石英安瓿瓶2和坩埚1。石英管与炉套之间均设有间隙,一方面能够防止石英管热胀冷缩,在坩埚1下降过程中出现卡管,停止坩埚1下降的现象,另一方面多余的热量可以通过间隙以对流的形式缓慢传出,确保热场和固液界面的稳定,达到良好的长晶效果。
在本发明中,装炉时所述散热棒4的上端与石英安瓿瓶2的下端瓶口的距离优选为50-60mm。
在本发明中,所述支撑底座5上端设有石英棉3,所述石英安瓿瓶2置于石英棉3上,散热棒4向上运动,穿破石英棉3并与石英安瓿瓶2的下端瓶口接触。通过在石英安瓿瓶2的下端瓶口与石英管之间设有石英棉3堵住,一是石英棉3起到保温作用,防止热量从炉套与石英管的空隙间散失;二是防止石英管磕碰损坏石英安瓿瓶2以及生长结束后石英安瓿瓶2容易与起支撑作用的石英管分离。
在本发明中,所述散热棒4为石英棒或陶瓷棒,优选为石英棒。石英或陶瓷的导热系数均较为合适,但陶瓷棒的成本较高。
在本发明中,所述支撑平台6设有用于固定散热棒的固定件7,所述散热棒4与固定件7通过铁丝进行连接。所述固定件7可选用螺钉、螺栓或固定卡件,通过固定件和铁丝对散热棒进行固定,结构简单,易操作。
在本发明中,所述支撑平台6还连接有升降液压轴11,用于调节支撑平台6的升降。
在本发明中,所述石英安瓿瓶2内放置有坩埚1,优选为PBN坩埚。
在本发明中,所述石英安瓿瓶2包括依次连接的等径部分、放肩部分和籽晶井,所述放肩部分的上端口直径等于等径部分的下端口直径,放肩部分的下端口直径等于籽晶井的上端口直径,且放肩部分的直径从上端口沿下端口方向逐渐缩小。所述石英安瓿瓶的形状与PBN坩埚的形状对应。
在本发明中,所述炉芯51设有测温热电偶。测温热电偶包括测温热电偶Tc18、测温热电偶Tc2 9和测温热电偶Tc3 10,其中,TC1用于测定籽晶下端温度,TC2用于测定籽晶上端温度,TC3用于测定肩部等径位置温度。
利用上述装置有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法,包括以下步骤:
(1)将砷化镓籽晶、氧化硼和砷化镓多晶料装入坩埚1后,将坩埚1置于底部放有砷的石英安瓿瓶2中,在抽真空的条件下密封石英安瓿瓶2;
(2)将支撑底座5置于炉膛的中心区域,将石英安瓿瓶2置于支撑底座5上端,将散热棒4伸入炉芯51内并固定在支撑平台6上,散热棒4与石英安瓿瓶2的下端瓶口保持距离;
(3)依次完成熔料、引晶和放肩工序,等径生长到50mm后,使散热棒4向上运动,当散热棒4与石英安瓿瓶2的下端瓶口接触后,将散热棒4再次固定在支撑平台6上;
(4)待籽晶下端温度Tc1下降5~10℃,籽晶上端温度Tc2下降3~5℃,肩部等径位置温度Tc3下降0.5~2℃,散热棒一端继续与石英安瓿瓶的下端口保持接触,再按照设定的梯度继续进行等径生长和冷却,待炉温降到300℃以下时关炉,自然冷却。
在本发明中,所述步骤(2)中,在支撑底座5的上端铺设石英棉3后,再将石英安瓿瓶2置于石英棉3上。
在本发明中,在本发明中,所述内炉套53和外炉套55均为表面涂覆耐高温水泥的湿毡圆筒,外炉套55的外径为5.0英寸、内径为4.5英寸,内炉套53的外径为4.0英寸、内径3.5英寸。内石英管52和外石英管54的厚度4~6mm,长度60~80mm,内石英管52的内径比晶体的最大直径大22±1mm。
所述支撑底座5的制备方法具体包括以下步骤:
1)选择所需尺寸和厚度的湿毡,在湿毡的表面涂抹耐高温水泥后,形成圆筒,去除水分后,分别得到内炉套53和外炉套55;
2)由内到外依次套设炉芯51、内石英管52、内炉套53、外石英管54和外炉套55,形成支撑底座5。
实施例1
一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法,包括以下步骤:
(1)炉套的制备:切取特定形状和厚度的湿毡,在其表面涂抹适量的耐高温水泥,以圆柱形圆筒作为模具,将湿毡卷曲形成湿毡圆筒,并在湿毡圆筒接口处再次涂抹高温水泥,使接口密封严实;然后进行脱膜,在室温下晾干,在1200℃的烤炉中进行烘烤处理,除去多余的水分,分别得到内炉套和外炉套;制备得到的外炉套的外径为5.0英寸、内径为4.5英寸,内炉套的外径为4.0英寸、内径3.5英寸。
(1)将砷化镓籽晶、氧化硼和砷化镓多晶料装入PBN坩埚后,将PBN坩埚置于底部放有砷的石英安瓿瓶中,在抽真空的条件下密封石英安瓿瓶;
(2)由内到外依次套设有炉芯、内石英管、内炉套、外石英管和外炉套组合形成支撑底座,选用的内、外石英管的厚度5mm,长度70mm,内石英管的内径比晶体的最大直径大22±1mm,将支撑底座置于炉膛的中心区域,在支撑底座的上端放置10g石英棉并摊平,再将石英安瓿瓶置于石英棉上,将石英棒伸入炉芯内并通过铁丝固定在支撑平台的螺钉上,石英棒与石英安瓿瓶的下端瓶口保持50mm的距离;
(3)依次完成熔料、引晶和放肩工序,进入等径生长阶段,等径生长到500mm后,坩埚下端聚集的结晶潜热较多,松动铁丝并使石英棒向上运动,当石英棒与石英安瓿瓶的下端瓶口接触后,再次将石英棒通过铁丝固定在支撑平台的螺钉上,通过热辐射和热传导的方式将结晶潜热多余的热量缓慢放出;
(4)待Tc1下降8℃,Tc2下降4℃,Tc3下降1.5℃,石英棒一端继续与石英安瓿瓶的下端口保持接触,再按照设定的梯度继续进行等径生长和冷却,待炉温降到300℃以下时关炉,自然冷却。
实施例2
一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法,包括以下步骤:
(1)炉套的制备:切取特定形状和厚度的湿毡,在其表面涂抹适量的耐高温水泥,以圆柱形圆筒作为模具,将湿毡卷曲形成湿毡圆筒,并在湿毡圆筒接口处再次涂抹高温水泥,使接口密封严实;然后进行脱膜,在室温下晾干,在1200℃的烤炉中进行烘烤处理,除去多余的水分,分别得到内炉套和外炉套;制备得到的外炉套的外径为5.0英寸、内径为4.5英寸,内炉套的外径为4.0英寸、内径3.5英寸。
(1)将砷化镓籽晶、氧化硼和砷化镓多晶料装入PBN坩埚后,将PBN坩埚置于底部放有砷的石英安瓿瓶中,在抽真空的条件下密封石英安瓿瓶;
(2)由内到外依次套设有炉芯、内石英管、内炉套、外石英管和外炉套组合形成支撑底座,选用的内、外石英管的厚度4mm,长度60mm,内石英管的内径比晶体的最大直径大22±1mm,将支撑底座置于炉膛的中心区域,在支撑底座的上端放置10g石英棉并摊平,再将石英安瓿瓶置于石英棉上,将石英棒伸入炉芯内并通过铁丝固定在支撑平台的螺钉上,石英棒与石英安瓿瓶的下端瓶口保持60mm的距离;
(3)依次完成熔料、引晶和放肩工序,进入等径生长阶段,等径生长到50mm后,坩埚下端聚集的结晶潜热较多,松动铁丝并使石英棒向上运动,当石英棒与石英安瓿瓶的下端瓶口接触后,再次将石英棒通过铁丝固定在支撑平台的螺钉上,通过热辐射和热传导的方式将结晶潜热多余的热量缓慢放出;
(4)待Tc1下降5℃,Tc2下降3℃,Tc3下降0.5℃,石英棒一端继续与石英安瓿瓶的下端口保持接触,再按照设定的梯度继续进行等径生长和冷却,待炉温降到300℃以下时关炉,自然冷却。
实施例3
一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法,包括以下步骤:
(1)炉套的制备:切取特定形状和厚度的湿毡,在其表面涂抹适量的耐高温水泥,以圆柱形圆筒作为模具,将湿毡卷曲形成湿毡圆筒,并在湿毡圆筒接口处再次涂抹高温水泥,使接口密封严实;然后进行脱膜,在室温下晾干,在1200℃的烤炉中进行烘烤处理,除去多余的水分,分别得到内炉套和外炉套;制备得到的外炉套的外径为5.0英寸、内径为4.5英寸,内炉套的外径为4.0英寸、内径3.5英寸。
(1)将砷化镓籽晶、氧化硼和砷化镓多晶料装入PBN坩埚后,将PBN坩埚置于底部放有砷的石英安瓿瓶中,在抽真空的条件下密封石英安瓿瓶;
(2)由内到外依次套设有炉芯、内石英管、内炉套、外石英管和外炉套组合形成支撑底座,选用的内、外石英管的厚度6mm,长度80mm,内石英管的内径比晶体的最大直径大22±1mm,将支撑底座置于炉膛的中心区域,在支撑底座的上端放置10g石英棉并摊平,再将石英安瓿瓶置于石英棉上,将石英棒伸入炉芯内并通过铁丝固定在支撑平台的螺钉上,石英棒与石英安瓿瓶的下端瓶口保持55mm的距离;
(3)依次完成熔料、引晶和放肩工序,进入等径生长阶段,等径生长到500mm后,坩埚下端聚集的结晶潜热较多,松动铁丝使石英棒向上运动,当石英棒与石英安瓿瓶的下端瓶口接触后,再次将石英棒通过铁丝固定在支撑平台的螺钉上,通过热辐射和热传导的方式将结晶潜热多余的热量缓慢放出;
(4)待Tc1下降10℃,Tc2下降5℃,Tc3下降2℃,石英棒一端继续与石英安瓿瓶的下端口保持接触,再按照设定的梯度继续进行等径生长和冷却,待炉温降到300℃以下时关炉,自然冷却。
用本发明装置及方法及生产的4条晶棒的单晶成品率约75%,入库率达到了约70%左右,比目前普遍生产的单晶成品率要高出约15%;其生产的4条晶棒的性能参数如表1所示。
表1
可见,采用本发明方法和装置有效地释放结晶潜热,制备的砷化镓单晶成品率高,长晶效果良好,晶棒热应力较小,在冷却阶段无需再进行原位退火来减小热应力,这样既缩短生长周期又节约了能源。
最后所应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。
Claims (8)
1.一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,其特征在于,包括石英安瓿瓶、支撑底座和支撑平台;所述石英安瓿瓶置于支撑底座上端,支撑底座放置在支撑平台上,并与支撑平台固定连接;所述支撑底座内设有炉芯,炉芯设有散热棒,且散热棒插入炉芯内,并与支撑平台可拆卸连接,装炉时散热棒的上端与石英安瓿瓶的下端瓶口保持距离,散热棒向上运动时与石英安瓿瓶的下端瓶口接触;
所述支撑底座由内到外依次套设有炉芯、内石英管、内炉套、外石英管和外炉套,所述内石英管与内炉套之间、内炉套与外石英管之间、外石英管与外炉套之间均设有间隙,所述间隙为4-5mm。
2.根据权利要求1所述的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,其特征在于,所述支撑底座为石墨一体底座。
3.根据权利要求1所述的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,其特征在于,装炉时所述散热棒的上端与石英安瓿瓶的下端瓶口距离50-60mm。
4.根据权利要求3所述的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,其特征在于,所述支撑底座上端设有石英棉,所述石英安瓿瓶置于石英棉上,散热棒向上运动,穿破石英棉并与石英安瓿瓶的下端瓶口接触。
5.根据权利要求4所述的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,其特征在于,所述散热棒为石英棒或陶瓷棒;所述支撑平台还设有升降液压轴以及用于固定散热棒的固定件,所述散热棒与固定件通过铁丝进行连接。
6.根据权利要求5所述的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,其特征在于,所述石英安瓿瓶内放置有坩埚,所述坩埚为PBN坩埚;
所述石英安瓿瓶包括依次连接的等径部分、放肩部分和籽晶井,所述放肩部分的上端口直径等于等径部分的下端口直径,放肩部分的下端口直径等于籽晶井的上端口直径,且放肩部分的直径从上端口沿下端口方向逐渐缩小。
7.根据权利要求6所述的有效释放砷化镓单晶结晶潜热的装置,其特征在于,所述炉芯设有测温热电偶。
8.一种利用权利要求1-7任一项的装置有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将砷化镓籽晶、氧化硼和砷化镓多晶料装入坩埚后,将坩埚置于底部放有砷的石英安瓿瓶中,在抽真空的条件下密封石英安瓿瓶;
(2)将支撑底座置于炉膛的中心区域,将石英安瓿瓶置于支撑底座上端,将散热棒伸入炉芯内并固定在支撑平台上,散热棒与石英安瓿瓶的下端瓶口保持距离;
(3)依次完成熔料、引晶和放肩工序,等径生长到50mm后,使散热棒向上运动,当散热棒与石英安瓿瓶的下端瓶口接触后,将散热棒再次固定在支撑平台上;
(4)待籽晶下端温度下降5~10℃,籽晶上端温度下降3~5℃,肩部等径位置温度下降0.5~2℃,散热棒一端继续与石英安瓿瓶的下端口保持接触,再按照设定的梯度继续进行等径生长和冷却,待炉温降到300℃以下时关炉,自然冷却;
所述支撑底座的制备方法,具体包括以下步骤:
1)选择所需尺寸和厚度的湿毡,在湿毡的表面涂抹耐高温水泥后,形成圆筒,去除水分后,分别得到内炉套和外炉套;
2)由内到外依次套设炉芯、内石英管、内炉套、外石英管和外炉套,形成支撑底座。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910859372.2A CN110438562B (zh) | 2019-09-11 | 2019-09-11 | 一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910859372.2A CN110438562B (zh) | 2019-09-11 | 2019-09-11 | 一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110438562A CN110438562A (zh) | 2019-11-12 |
CN110438562B true CN110438562B (zh) | 2021-08-24 |
Family
ID=68439921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910859372.2A Active CN110438562B (zh) | 2019-09-11 | 2019-09-11 | 一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110438562B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111748846B (zh) * | 2020-07-09 | 2021-11-23 | 苏州燎塬半导体有限公司 | 一种铟砷锑体单晶的生长装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040099205A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-05-27 | Qiao Li | Method of growing oriented calcium fluoride single crystals |
CN104695015B (zh) * | 2013-12-05 | 2018-01-09 | 长春理工大学 | 生长CaF2晶体调节温场结构的方法及装置 |
CN109252220A (zh) * | 2018-12-04 | 2019-01-22 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种vgf/vb砷化镓单晶炉结构及生长方法 |
-
2019
- 2019-09-11 CN CN201910859372.2A patent/CN110438562B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110438562A (zh) | 2019-11-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5344919B2 (ja) | 結晶成長のための装置及び方法 | |
CN105442037A (zh) | 一种高速单晶生长装置 | |
KR100966182B1 (ko) | 반도체결정들을 강성 지지물로 탄소도핑과 저항률제어 및 열경사도제어에 의해 성장시키기 위한 방법 및 장치 | |
CN110983429A (zh) | 单晶炉及单晶硅制备方法 | |
KR101540225B1 (ko) | 단결정 제조장치 및 단결정의 제조방법 | |
CN102758249A (zh) | 一种无色刚玉单晶的制备方法 | |
JP2017149641A (ja) | 液冷式熱交換機 | |
CN107130295B (zh) | 一种消除硅芯棒隐裂的装置及方法 | |
CN110438562B (zh) | 一种有效释放砷化镓单晶结晶潜热的方法及装置 | |
CN100516318C (zh) | 一种自发成核生长溴化铊单晶方法 | |
CN102146580A (zh) | 用于定向凝固法生长硅晶体的引晶模具及晶体生长方法 | |
CN109930200A (zh) | 热屏及单晶硅生长炉结构 | |
CN108149324B (zh) | 一种氮化铝自成核生长方法 | |
CN210856407U (zh) | 一种砷化镓单晶结晶潜热释放装置 | |
CN205295534U (zh) | 一种高速单晶生长装置 | |
CN109930197A (zh) | 热屏及单晶硅生长炉结构 | |
US20150093231A1 (en) | Advanced crucible support and thermal distribution management | |
CN106400102B (zh) | 一种可实现单晶在线退火的生长设备及其方法 | |
KR20130007354A (ko) | 실리콘 결정 성장장치 및 그를 이용한 실리콘 결정 성장방법 | |
CN112575379A (zh) | 砷化铟晶体生长装置及生长方法 | |
CN111235629A (zh) | 一种氧化铝-yag共晶熔体生长复合材料的制备方法 | |
CN110965119A (zh) | 一种用于铸造单晶的坩埚石墨平台结构 | |
JP4498457B1 (ja) | 結晶成長方法 | |
CN114481288B (zh) | 一种用于碲锌镉晶体制备过程中生长坩埚的SiC支撑托 | |
WO2022166098A1 (zh) | 一种低应力晶体的生长装置及方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20211221 Address after: 511517 workshop a, No.16, Chuangxing Third Road, high tech Zone, Qingyuan City, Guangdong Province Patentee after: Guangdong lead Microelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 511517 area B, no.27-9 Baijia Industrial Park, Qingyuan high tech Zone, Guangdong Province Patentee before: FIRST SEMICONDUCTOR MATERIALS Co.,Ltd. |
|
TR01 | Transfer of patent right |