CN110426921A - 一种曝光机 - Google Patents

一种曝光机 Download PDF

Info

Publication number
CN110426921A
CN110426921A CN201910645184.XA CN201910645184A CN110426921A CN 110426921 A CN110426921 A CN 110426921A CN 201910645184 A CN201910645184 A CN 201910645184A CN 110426921 A CN110426921 A CN 110426921A
Authority
CN
China
Prior art keywords
protective cover
exposure machine
shell
fixing piece
pipeline
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910645184.XA
Other languages
English (en)
Inventor
韩宗范
许俊安
王维
丁仁义
冯超
王抗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN201910645184.XA priority Critical patent/CN110426921A/zh
Publication of CN110426921A publication Critical patent/CN110426921A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning

Abstract

本申请公开了一种曝光机,该曝光机用于将电路绘制于玻璃基板上,该曝光机包括:壳体、机械手、保护罩和导流组件,壳体用于为玻璃基板提供密闭的工作环境,机械手固定在壳体内,机械手用于将玻璃基板传递至壳体中的曝光区域处,保护罩罩设在机械手上,导流组件,导流组件的一端与保护罩连接,导流组件的相对一端穿设于壳体,且用于与排风系统连接,其中,在排风系统运行时,排风系统在导流组件中形成负压气流,以将保护罩内的空气抽出。本申请的曝光机能够降低壳体内部中微尘出现的可能性。

Description

一种曝光机
技术领域
本申请涉及曝光机领域,特别是涉及一种曝光机。
背景技术
曝光机是指通过开启灯光,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。为了保证被曝光产品的质量,曝光机内部需要将微尘的密度控制在一定范围内。但是目前曝光机中的微尘监控系统常常被触发,从而导致生产任务停止,以对曝光机的内部进行清理。
发明内容
本申请提供了一种曝光机,以解决现有技术中曝光机的微尘监控系统常常被触发的问题。
为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种曝光机,该曝光机用于将电路绘制于玻璃基板上,该曝光机包括:壳体、机械手、保护罩和导流组件,壳体用于为玻璃基板提供密闭的工作环境,机械手固定在壳体内,机械手用于将玻璃基板传递至壳体中的曝光区域处,保护罩罩设在机械手上,导流组件,导流组件的一端与保护罩连接,导流组件的相对一端穿设于壳体,且用于与排风系统连接,其中,在排风系统运行时,排风系统在导流组件中形成负压气流,以将保护罩内的空气抽出。
本申请的有益效果为:在曝光机中设置了导流组件,导流组件的一端与保护罩连接,导流组件的相对一端穿设于壳体,且与排风系统连接,从而将保护罩与壳体外部的排风系统连通在一起。在排风系统运行时,排风系统在导流组件中形成负压气流,以将保护罩内的空气抽出,从而将保护罩内的微尘吸出,避免微尘在壳体的内部飞溅而触发微尘监控系统。
附图说明
图1是本申请提供的曝光机的一实施例的截面示意图;
图2是本申请提供的曝光机的另一实施例的截面示意图;
图3是本申请提供的曝光机的另一实施例的截面示意图。
具体实施方式
下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
请参阅图1,图1是本申请提供的曝光机100的一实施例的截面示意图。
本申请提供了一种曝光机100,曝光机100是指通过开启灯光,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。本申请的曝光机100可以通过灯罩将电路绘制于玻璃基板300上。
本申请的曝光机100可以包括壳体110、机械手120、保护罩130和导流组件140。
壳体110用于为玻璃基板300提供密闭的工作环境,工作环境被划分成曝光区域112和非曝光区域114,曝光区域112聚集了灯光所发射的大部分光线,曝光区域112的光线用于照射玻璃基板300,以在玻璃基板300绘制电路。壳体110可以是长方体或者正方体,壳体110由顶板、底板和四块侧板组成,四块侧板依次首尾连接以形成两端开口的盒体,顶板和底板分别盖封盒体的两端开口,以形成密闭的工作环境。壳体110也可以是圆柱体,壳体110由顶板、底板和圆弧形侧板组成,圆弧形侧板为两端开口的柱状结构,顶板和底板分别盖封圆弧形侧板的两端开口,以形成密闭的工作环境。
壳体110上可以设置有快门116,快门116可以设置在顶板、底板和侧板中的任一个上,在此不做限定。快门116可以快速地开启和关闭,在玻璃基板300被送入至壳体110内的过程中,快门116快速地开启和关闭,从而避免外界灰尘进入壳体110内部。
机械手120固定在壳体110内,机械手120用于将玻璃基板300传递至壳体110中曝光区域112的工作台上。
保护罩130罩设在机械手120上,具体地,保护罩130可以罩设在机械手120上的拖链、传动轴等传动部件处,从而对机械手120中的传动部件进行保护。
导流组件140用于起到导引的作用,使气体气流沿导流组件140所指定的轨迹运动。导流组件140的一端与保护罩130连接,导流组件140的相对一端穿设于壳体110,且用于与排风系统200连接。在排风系统200运行时,排风系统200在导流组件140中形成负压气流,以将保护罩130内的空气抽出。排风系统200中设置有风扇,风扇在转动的过程中会带动气体向远离导流组件140的方向移动,以形成负压气流,从而将保护罩130内的空气抽出。
本申请的发明人在前期的研究中发现,曝光机100的微尘监控系统会频繁被触发,提示曝光机100的内部存在微尘,因此不得不停止正常生产任务,对微尘的异常情况进行处理。但是将曝光机100的内部彻底清理后,微尘监控系统仍然会在一段时间后被再次触发,因此本申请的发明人对曝光机100的内部进行详尽地分析后发现,因为保护罩130所罩设的传动部件在运动的过程中存在零件之间的相互摩擦现象,所以传动部件会产生微尘,微尘飞溅至微尘监控系统处时,就会触发微尘监控系统。
本申请的发明人针对上述这一问题在曝光机100中设置了导流组件140,导流组件140的一端与保护罩130连接,导流组件140的相对一端穿设于壳体110,且与排风系统200连接,从而将保护罩130与壳体110外部的排风系统200连通在一起。在排风系统200运行时,排风系统200在导流组件140中形成负压气流,以将保护罩130内的空气抽出,从而将保护罩130内的微尘吸出,避免微尘在壳体110的内部飞溅而触发微尘监控系统。
导流组件140包括固定件142和管道144,固定件142的一端与保护罩130连通,固定件142的相对一端与管道144连通,管道144的远离固定件142的一端穿设于壳体110以用于与排风系统200连接。
具体地,导流组件140包括固定件142和管道144,固定件142与保护罩130连通,固定件142与管道144连通,管道144的远离固定件142的一端穿设于壳体110以用于与排风系统200连接。
管道144可以是铝、锡等不产生粉尘的材质制成,具体地,通过铝箔或者锡箔制成具有折弯性能的管道144。固定件142可以是铝、不锈钢等不产生粉尘的材质制成。
在一实施例中,如图1所示,固定件142的数量为多个,管道144依次将多个固定件142串联导通在一起,且进一步穿设于壳体110以用于与排风系统200连接。具体地,管道144包括第一管道1442和第二管道1444,第一管道1442的数量为多个,第一管道1442将多个固定件142依次串联导通在一起,第二管道1444与多个固定件142中的任一个连通,且进一步穿设于壳体110与排风系统200连接。
在本实施例中,多个第一管道1442与多个固定件142串联导通在一起以形成一个整体组件,第二管道1444与整体组件中的任一固定件142连通,且进一步与排风系统200连接,从而使排风系统200和整体组件之间相互导通,进而简化了导流组件140,避免管道144多而冗杂。
请参阅图2,图2是本申请提供的曝光机100的另一实施例的截面示意图。
在另一实施例中,固定件142的数量为多个,管道144包括第一管道1442和第二管道1444,第一管道1442的数量为多个,且分别与多个固定件142单独连通,多个第一管道1442分别与第二管道1444连通,第二管道1444用于与排风系统200连接。
在上述两个实施例中,作为一种可选的情况,多个固定件142等间隔地排列在保护罩130上,以使排风系统200能够均匀地对保护罩130的气体进行抽取。
请参阅图3,图3是本申请提供的图1中A区域的放大截面示意图。
固定件142包括安装部1422和连通部1424。安装部1422与连通部1424的端部连接,安装部1422固定于保护罩130上,管道144穿设连通部1424与保护罩130连通,管道144的端部压设固定于安装部1422和保护罩130之间。
连通部1424可以大致垂直于安装部1422,具体地,连通部1424与安装部1422之间的夹角为85度至90度,例如,85度、86度、88度、90度等。
安装部1422可以通过螺钉固定于保护罩130上,安装部1422也可以通过焊接的方式固定于保护罩130上,安装部1422还可以通过粘接的方式固定于保护罩130上。
安装部1422的朝向保护罩130的一侧可以开设有限位槽1428,管道144的端部限位且安装于限位槽1428中。
固定件142还包括转换部1426,转换部1426与连通部1424的远离安装部1422的一端连接,且转换部1426与连通部1424不平行,管道144依次穿设转换部1426和连通部1424与保护罩130连通。转换部1426与连通部1424不平行,具体指,转换部1426与连通部1424成夹角连接,转换部1426为管道144在转弯的时候提供导向过渡的作用,在本实施例中,转换部1426与连通部1424相互垂直。
管道144可以包括导流部1442和扩展部1444,扩展部1444与导流部1442的端部连接,扩展部1444压设固定于安装部1422和保护罩130之间,导流部1442穿设连通部1424与保护罩130连通。扩展部1444可以限位且安装于限位槽1428中。
本申请中的术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。此外,术语“包括”和“具有”以及它们任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或部件的过程、方法、系统、产品或设备,没有限定于已列出的步骤或部件,而是可选地还包括没有列出的步骤或部件,或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或部件。
以上所述仅为本申请的实施方式,并非因此限制本申请的专利范围,凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种曝光机,所述曝光机用于将电路绘制于玻璃基板上,其特征在于,所述曝光机包括:
壳体,用于为所述玻璃基板提供密闭的工作环境;
机械手,固定在所述壳体内,所述机械手用于将所述玻璃基板传递至所述壳体中的曝光区域处;
保护罩,罩设在所述机械手上;及
导流组件,所述导流组件的一端与所述保护罩连接,所述导流组件的相对一端穿设于所述壳体,且用于与排风系统连接;
其中,在所述排风系统运行时,所述排风系统在所述导流组件中形成负压气流,以将所述保护罩内的空气抽出。
2.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述导流组件包括固定件和管道,所述固定件与所述保护罩连通,且所述固定件与所述管道连通,所述管道的远离所述固定件的一端穿设于所述壳体以用于与排风系统连接。
3.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述固定件的数量为多个,所述管道依次将所述多个固定件串联导通在一起,且进一步穿设于所述壳体以用于与排风系统连接。
4.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述固定件的数量为多个,所述管道包括第一管道和第二管道,所述第一管道的数量为多个,且分别与所述多个固定件单独连通,所述多个第一管道分别与所述第二管道连通,所述第二管道用于与排风系统连接。
5.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述管道的材质包括铝,和/或者所述固定件的材质包括铝或者不锈钢。
6.根据权利要求3或者4所述的曝光机,其特征在于,所述多个固定件等间隔地排列在所述保护罩上。
7.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述固定件包括安装部和连通部,所述安装部与所述连通部的端部连接,所述安装部固定于所述保护罩上,所述管道穿设所述连通部与所述保护罩连通,所述管道的端部压设固定于所述安装部和所述保护罩之间。
8.根据权利要求7所述的曝光机,其特征在于,所述固定件还包括转换部,所述转换部与所述连通部的远离所述安装部的一端连接,且所述转换部与所述连通部不平行,所述管道依次穿设所述转换部和所述连通部与所述保护罩连通。
9.根据权利要求7所述的曝光机,其特征在于,所述管道包括导流部和扩展部,所述扩展部与所述导流部的端部连接,所述扩展部压设固定于所述安装部和所述保护罩之间,所述导流部穿设所述连通部与所述保护罩连通。
10.根据权利要求9所述的曝光机,其特征在于,所述安装部的朝向所述保护罩的一侧开设有限位槽,所述扩展部限位且安装于所述限位槽中。
CN201910645184.XA 2019-07-17 2019-07-17 一种曝光机 Pending CN110426921A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910645184.XA CN110426921A (zh) 2019-07-17 2019-07-17 一种曝光机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910645184.XA CN110426921A (zh) 2019-07-17 2019-07-17 一种曝光机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110426921A true CN110426921A (zh) 2019-11-08

Family

ID=68410726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910645184.XA Pending CN110426921A (zh) 2019-07-17 2019-07-17 一种曝光机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110426921A (zh)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102756379A (zh) * 2011-04-25 2012-10-31 雅马哈发动机株式会社 关节型机器人
US20130251493A1 (en) * 2012-03-26 2013-09-26 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Stacking device and air purification system thereof
WO2016009785A1 (en) * 2014-07-16 2016-01-21 Canon Kabushiki Kaisha Rotary drive device and articulated robot equipped with the same
CN106104787A (zh) * 2013-12-26 2016-11-09 川崎重工业株式会社 末端执行器装置
CN206057794U (zh) * 2016-08-22 2017-03-29 天津芯硕精密机械有限公司 一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机
CN206292527U (zh) * 2016-11-25 2017-06-30 天津津芯微电子科技有限公司 Ldi光机系统及其遮光罩
CN109358474A (zh) * 2018-11-26 2019-02-19 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种用于激光直写曝光机气动门的控制装置及控制方法
CN109799686A (zh) * 2019-03-18 2019-05-24 安徽地势坤光电科技有限公司 一种玻璃曝光设备及方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102756379A (zh) * 2011-04-25 2012-10-31 雅马哈发动机株式会社 关节型机器人
US20130251493A1 (en) * 2012-03-26 2013-09-26 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Stacking device and air purification system thereof
CN106104787A (zh) * 2013-12-26 2016-11-09 川崎重工业株式会社 末端执行器装置
WO2016009785A1 (en) * 2014-07-16 2016-01-21 Canon Kabushiki Kaisha Rotary drive device and articulated robot equipped with the same
CN206057794U (zh) * 2016-08-22 2017-03-29 天津芯硕精密机械有限公司 一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机
CN206292527U (zh) * 2016-11-25 2017-06-30 天津津芯微电子科技有限公司 Ldi光机系统及其遮光罩
CN109358474A (zh) * 2018-11-26 2019-02-19 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种用于激光直写曝光机气动门的控制装置及控制方法
CN109799686A (zh) * 2019-03-18 2019-05-24 安徽地势坤光电科技有限公司 一种玻璃曝光设备及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN201321288Y (zh) 一种用于一个下料口对多个接料口的无尘受料装置
CN104914113B (zh) 印刷电路板自动光学检测方法
CN110426921A (zh) 一种曝光机
CN111751384B (zh) 一种圆钢表面缺陷在线检测系统及检测方法
CN205271141U (zh) 抽风除尘机构
JP2023103214A (ja) 建設機械
CN100500526C (zh) 卡匣仓储系统
CN109414786B (zh) 机房
CN203417902U (zh) 一种带多个吸气机构的除尘工装
JP2007055443A (ja) 建設機械の冷却装置
CN210776144U (zh) 一种密封式投影仪
CN112077435B (zh) 一种陶瓷基板激光加工治具和激光加工设备
CN210142057U (zh) 一种激光粒度分布仪
CN210324675U (zh) 一种焊接考评系统
CN207217110U (zh) 隔音降噪护套
CN218993642U (zh) 一种空调外壳及空调设备
CN220479605U (zh) 一种自循环托盘洁净系统
CN216883729U (zh) 装配装置及装配设备
CN211593207U (zh) 一种二封机的自动废液盘接电解液装置
CN216482079U (zh) 水帘块纸带烘干系统
CN218513274U (zh) 一种低负载损耗比的变压器
CN210772699U (zh) 一种导风门结构及空调器
CN211387958U (zh) 一种双护罩的工作台密封机构
CN211517307U (zh) 单体马达吹尘机用夹紧装置
CN210347398U (zh) 一种具有视频功能的室内感烟探测器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20191108

RJ01 Rejection of invention patent application after publication