CN110424501A - 一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆 - Google Patents
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Abstract
一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,在盥洗台盆后侧壁下端部的排水口后侧设有水箱,水箱前部的进水口与该排水口密封贯通连接,位于水箱下底部的去水口底部与螺纹套管上顶部密封连接,置于螺纹套管内的弹跳式开关上部与螺纹套管上顶部匹配密封开关连接,位于水箱的上顶部的上连接管上顶部活动连接有螺纹接头,按钮和推杆与螺纹接头的两级内孔作上下滑动及限位连接,上连接管中部的上溢水口通过溢水管与去水器的下溢水口螺纹密封连接,上溢水口下底部与盥洗台盆本体所设的水满溢出面等高。本发明隐藏了去水口和取消了溢水口和溢水夹层,大大提高产品完整性和美感,基本消除了污渍对盆体表面的污染。
Description
技术领域
本发明涉及卫生洁具技术领域,特别涉及一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆。
背景技术
现有的盥洗台盆一般都是在盥洗台盆的底面中央设置去水口和去水盖,这种结构的缺点在于:在盥洗台盆盛水进行盥洗时较容易因为触碰到去水盖而产生误操作排水,而且在盥洗完毕需要排水时操作者需要将手伸入污水中操作去水盖才能完成。
而且,现在流行的浴室装修设计风格,多是在盥洗台盆下设置柜子,以遮挡盥洗台盆的去水管道并且增加储物空间,但是上述的在底面中央设置去水口的盥洗台盆的去水管必然处于盥洗台盆下方的中央,也就是处在盥洗台盆下方的储物柜的中央,因而造成盥洗台盆下方的储物柜徒有其表而无法真正实现其储物的作用。
另外,现有的盥洗台盆设有的溢水夹层都是与盥洗台盆体一体成型,结构与工艺复杂,生产成本高,溢水口也是直接与去水管相连通,这会导致在使用一段时间之后,溢水夹层和去水管内积聚的污渍和细菌无法清除,并且还通过溢水口向盥洗台盆体表面蔓延,严重地影响卫生和健康。现有的处置办法只有整个盥洗台盆更换,造成浪费且工程麻烦。
另有一些现有的盥洗台盆是用非陶瓷材质制成,例如脆而易碎的工艺玻璃,或者硬度很高的大理石、或者是用多块不锈钢长板拼合焊接而成的长形盥洗槽,由于制造工艺结构复杂,故较难在盥洗台盆里加设溢水口和溢水夹层,或者添加溢水夹层的成本巨大。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于提供一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,它能够在盥洗台盆本体表面隐藏了去水口、取消了溢水夹层和溢水口,减少了去水管和溢水腔的污渍对盥洗台盆表面的污染;而且使用者在盛水盥洗完毕之后无需再将手伸入污水中就可方便按下去水按钮实现去水,在盥洗过程中也不会发生误触碰去水盖就去水的不便;当外置隐藏式去水和自溢水装置、以及去水器和溢水管脏污时可以非常容易、方便地拆卸下来清洗干净、或者整个更换外置隐藏式去水和自溢水装置,这就可免去整个更换盥洗台盆的浪费和麻烦;也能为因材质特殊、制造工艺结构复杂而不具有防溢水功能的盥洗台盆本体增加防溢水功能;同时还能使现今流行的浴室装修中设置在盥洗台盆下方的储物柜不再被去水管道所占用,而真正实现储物的功能,也减少了盥洗台盆下方的储物柜的生产难度和成本。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,包括盥洗台盆本体20,所述盥洗台盆本体20后侧壁下端部设有排水口20-2,在所述盥洗台盆本体的排水口20-2后侧设有水箱4,所述水箱4前部设有进水口,通过垫板8和胶垫圈9与盥洗台盆本体的排水口20-2匹配密封贯通连接,所述水箱4的下底部设有去水口12,所述去水口12底部与螺纹套管6上顶部密封连接,置于螺纹套管6内的弹跳式开关7上部与螺纹套管6上顶部匹配密封开关连接,螺纹套管6穿过位于去水口12下方的去水器5并与带螺纹套环的去水管7螺纹密封连接,所述水箱4的上顶部设有与水箱4内腔贯通的上连接管10,所述上连接管10上顶部活动连接有螺纹接头2,设有推杆11,该推杆11上顶部固装有按钮1,推杆1下端部与弹跳式开关13的上盖13-1活动接触连接,所述按钮1和推杆11与螺纹接头2的两级内孔作上下滑动及限位连接,所述上连接管10右侧壁中部设有上溢水口15,并通过溢水管3与设在去水器5右侧壁的下溢水口16螺纹密封连接,所述去水器5内腔与螺纹套管6内腔贯通连接,所述上溢水口15下底部与所述盥洗台盆本体所设的水满溢出面等高。
与所述螺纹接头2对应的盥洗台盆本体上边部20-1匹配设有一个圆通孔,所述螺纹接头2上部置于该圆通孔内并螺纹紧固于该盥洗台盆本体上边部20-1。
所述中间开口的胶垫圈9和中间开口的垫板8通过沉头螺钉与所述水箱4前部进水口四周的装配边密封固定连接,所述盥洗台盆本体的排水口20-2周边与所述垫板8胶粘密封连接。
所述弹跳式开关13的按压阀芯13-3螺纹固定在螺纹套管6中央,该按压阀芯13-3上端与上盖13-1螺纹固定连接,上盖13-1的环形凹槽内套有密封胶圈13-2,该密封胶圈13-2和上盖13-1与螺纹套管6上顶部开口作开、关连接。
所述水箱4、去水器5、上连接管10采用整体注塑而成。
所述盥洗台盆本体20采用陶瓷或玻璃或石材或不锈钢制成。
与现有技术相比,本发明具有如下显著效果:
①本发明通过在盥洗台盆本体后侧设置有隐藏式水箱、推杆、弹跳式开关、去水器等,使盥洗台盆本体表面隐藏了去水口和取消了溢水口、溢水腔,从而使盥洗台盆本体表面获得更高的完整性和美感,也大大减少或消除了去水管、溢水口和溢水腔的污渍对盥洗台盆本体表面的污染。
②本发明通过设置隐藏式水箱并在水箱的上连接管上部设有固装在推杆上端的按钮,再通过推杆与装在水箱底部的弹跳式开关的上盖活动接触连接,实现两者联动控制,并且水箱的上连接管的溢水口底部与盥洗台盆本体的水满溢出面等高,从而实现自溢水功能并让使用者在盛水盥洗完毕之后无需再将手伸入污水中去按动去水盖,只需在盥洗台盆本体后侧上边部按下按钮就能轻松便捷地实现排水,而且在盛水盥洗过程中也不会发生误触碰去水盖就去水的不便。
③本发明因为采用了与盥洗台盆本体非一体成型的隐藏式水箱结构,当外置式去水和自溢水装置、以及去水器和溢水管脏污时,使用者或者清洁者、维修者可以非常容易、方便地拆卸下来拆开各部件清洗干净,或者整个更换新的外置隐藏式去水和自溢水装置,然后重新装回,就可免去整个更换盥洗台盆的浪费和麻烦。
④本发明也能为材质特殊如石材、不锈钢因制造工艺结构复杂而不具有防溢水功能的盥洗台盆本体通过安装外置隐藏式去水和自溢水装置,来使这些特殊材质的盥洗台盆本体增加防溢水功能。
⑤本发明的盥洗台盆本体的排水口是设置在盥洗台盆本体的后侧壁下端部,而水箱是设置在盥洗台盆本体的后部,去水器和去水管是设置在水箱的下方而不是在盥洗台盆本体的下方,所以盥洗台盆本体的下底面可以是一个没有任何孔或者管道的平整面,盥洗台盆本体的下方也不存在任何本发明的部件,这个完整的空间正好可以容纳一个现今浴室设计中最流行的完整储物柜,而且这个储物柜没有任何管道或者盥洗台盆的任何构件进入或者被占用的空间,从而真正实现储物的功能和干湿分离的功能,也大大减少了盥洗台盆下方的储物柜的生产难度和成本。
附图说明
图1是本发明一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆中的去水和自溢水装置的结构示意图。
图2是图1所示去水和自溢水装置的主视示意图。
图3是图2的右视示意图。
图4是图2的俯视示意图。
图5是本发明的一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆的安装结构示意图。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述,以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然,所描述的实施例只是本发明的一部分实施例,而不是全部实施例,基于本发明的实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例,均属于本发明保护的范围。
参见图1~图5所示,一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,包括盥洗台盆本体20,所述盥洗台盆本体20后侧壁下端部设有排水口20-2,在所述盥洗台盆本体的排水口20-2后侧设有水箱4,所述水箱4前部设有进水口,通过垫板8和胶垫圈9与盥洗台盆本体的排水口20-2匹配密封贯通连接,所述水箱4的下底部设有去水口12,所述去水口12底部与螺纹套管6上顶部密封连接,置于螺纹套管6内的弹跳式开关7上部与螺纹套管6上顶部匹配密封开关连接,螺纹套管6穿过位于去水口12下方的去水器5并与带螺纹套环的去水管7螺纹密封连接,所述水箱4的上顶部设有与水箱4内腔贯通的上连接管10,所述上连接管10上顶部活动连接有螺纹接头2,设有推杆11,该推杆11上顶部固装有按钮1,推杆1下端部与弹跳式开关13的上盖13-1活动接触连接,所述按钮1和推杆11与螺纹接头2的两级内孔作上下滑动及限位连接,所述上连接管10右侧壁中部设有上溢水口15,并通过溢水管3与设在去水器5右侧壁的下溢水口16螺纹密封连接,所述去水器5内腔与螺纹套管6内腔贯通连接,所述上溢水口15下底部与所述盥洗台盆本体所设的水满溢出面等高。
与所述螺纹接头2对应的盥洗台盆本体上边部20-1匹配设有一个圆通孔,所述螺纹接头2上部置于该圆通孔内并螺纹紧固于该盥洗台盆本体上边部20-1。
所述中间开口的胶垫圈9和中间开口的垫板8通过沉头螺钉与所述水箱4前部进水口四周的装配边密封固定连接,所述盥洗台盆本体的排水口20-2周边与所述垫板8胶粘密封连接。
所述弹跳式开关13的按压阀芯13-3螺纹固定在螺纹套管6中央,该按压阀芯13-3上端与上盖13-1螺纹固定连接,上盖13-1的环形凹槽内套有密封胶圈13-2,该密封胶圈13-2和上盖13-1与螺纹套管6上顶部开口作开、关连接。
所述水箱4、去水器5、上连接管10采用整体注塑而成。
所述盥洗台盆本体20采用陶瓷或玻璃或石材或不锈钢制成。
本发明一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆的工作过程是这样的:
盛水时,将按钮1向下按一下,通过推杆11驱动弹跳式开关13的上盖13-1也向下动作一下,使密封胶圈13-2与螺纹套管6上顶部开口密封连接,此时,弹跳式开关13处于“关”状态,上盖13-1停留在“低”位,打开水龙头21将水流注入盥洗台盆本体20和水箱4内;当注入的水流将要到达盥洗台盆本体20所设的水满溢出面时,因水箱4上连接管10的上溢水口15底部与盥洗台盆本体20所设的水满溢出面等高,两者势能相等,所以,当盆内水面超出水满溢出面时,超出部分的水在势能差作用下会自动通过上溢水口15和溢水管3、去水器5、螺纹套管6、去水管7排走,从而使水流永远不会超越盥洗台盆本体20内腔的水满溢出面的高度,不会有水从盥洗台盆本体20上边部20-1溢出。
去水时,将按钮1再向下按一下,通过推杆11驱动弹跳式开关13的上盖13-1再向下动作一下,按压阀芯13-3通过上盖13-1带动密封胶圈13-2离开螺纹套管6上顶部开口,此时,弹跳式开关13处于“开”状态,上盖13-1复位到“高”位,盥洗台盆本体20内腔和水箱4的水通过排水口、去水口12、弹跳式开关13、螺纹套管6和去水管7排走。
以上对本发明的较佳实施方式进行了具体说明,但本发明创造并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可以作出种种的等同变形或替换,这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (6)
1.一种带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,包括盥洗台盆本体(20),所述盥洗台盆本体(20)后侧壁下端部设有排水口(20-2),其特征在于:在所述盥洗台盆本体的排水口(20-2)后侧设有水箱(4),所述水箱(4)前部设有进水口,通过垫板(8)和胶垫圈(9)与盥洗台盆本体的排水口(20-2)匹配密封贯通连接,所述水箱(4)的下底部设有去水口(12),所述去水口(12)底部与螺纹套管(6)上顶部密封连接,置于螺纹套管(6)内的弹跳式开关(7)上部与螺纹套管(6)上顶部匹配密封开关连接,螺纹套管(6)穿过位于去水口(12)下方的去水器(5)并与带螺纹套环的去水管(7)螺纹密封连接,所述水箱(4)的上顶部设有与水箱(4)内腔贯通的上连接管(10),所述上连接管(10)上顶部活动连接有螺纹接头(2),设有推杆(11),该推杆(11)上顶部固装有按钮(1),推杆(1)下端部与弹跳式开关(13)的上盖(13-1)活动接触连接,所述按钮(1)和推杆(11)与螺纹接头(2)的两级内孔作上下滑动及限位连接,所述上连接管(10)右侧壁中部设有上溢水口(15),并通过溢水管(3)与设在去水器(5)右侧壁的下溢水口(16)螺纹密封连接,所述去水器(5)内腔与螺纹套管(6)内腔贯通连接,所述上溢水口(15)下底部与所述盥洗台盆本体所设的水满溢出面等高。
2.根据权利要求1所述的带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,其特征在于:与所述螺纹接头(2)对应的盥洗台盆本体上边部(20-1)匹配设有一个圆通孔,所述螺纹接头(2)上部置于该圆通孔内并螺纹紧固于该盥洗台盆本体上边部(20-1)。
3.根据权利要求1所述的带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,其特征在于:所述中间开口的胶垫圈(9)和中间开口的垫板(8)通过沉头螺钉与所述水箱(4)前部进水口四周的装配边密封固定连接,所述盥洗台盆本体的排水口(20-2)周边与所述垫板(8)胶粘密封连接。
4.根据权利要求1所述的带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,其特征在于:所述弹跳式开关(13)的按压阀芯(13-3)螺纹固定在螺纹套管(6)中央,该按压阀芯(13-3)上端与上盖(13-1)螺纹固定连接,上盖(13-1)的环形凹槽内套有密封胶圈(13-2),该密封胶圈(13-2)和上盖(13-1)与螺纹套管(6)上顶部开口作开、关连接。
5.根据权利要求1所述的带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,其特征在于:所述水箱(4)、去水器(5)、上连接管(10)采用整体注塑而成。
6.根据权利要求1所述的带有外置隐藏式去水和自溢水装置的盥洗台盆,其特征在于:所述盥洗台盆本体(20)采用陶瓷或玻璃或石材或不锈钢制成。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20191108 |