CN110311051A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括：基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板上；发光层，设置于所述薄膜晶体管层上；其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。有益效果：在本申请提供的显示面板中，所述发光层中的无机层的制备时间短，利于显示面板的量产。
Description
技术领域
本申请涉及显示面板的封装技术，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode，简称有机发光二极管)器件因其较传统LCD相比具有重量轻巧，广视角，响应时间快，耐低温，发光效率高等优点，因此在显示行业一直被视其为下一代新型显示技术，特别是OLED面板可以在柔性基板上做成能弯曲的柔性显示屏，这更是OLED显示面板的巨大优势。
当前OLED显示面板主要包括基板、薄膜晶体管层、发光层和薄膜封装结构，然而，其发光层的蒸镀成膜的制程时间很长，不利于显示面板的量产。
发明内容
本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括：基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板上；发光层，设置于所述薄膜晶体管层上；其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层；其中，所述发光层中的无机层的制备时间短，利于显示面板的量产。
本申请提供的技术方案如下：
本申请提供一种显示面板，所述显示面板包括：
基板；
薄膜晶体管层，设置于所述基板上；
发光层，设置于所述薄膜晶体管层上；
其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。
在本申请提供的显示面板中，所述无机层的材质为氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅。
在本申请提供的显示面板中，所述显示面板还包括封装膜层；
所述封装膜层覆盖所述发光层，所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板。
在本申请提供的显示面板中，所述封装膜层的材料为有机绝缘材料，所述有机绝缘材料为阵列有机绝缘膜、亚克力树脂或者硅氧烷树脂中的一种或者多种。
本申请还提供一种显示面板的制备方法，所述方法包括：
提供基板；
在所述基板上制备薄膜晶体管层；
在所述薄膜晶体管层上制备发光层；其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。
在本申请提供的一种显示面板的制备方法中，所述在所述薄膜晶体管层上制备发光层之后，还包括：
在所述发光层上制备封装膜层，所述封装膜层覆盖所述发光层，所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板。
在本申请提供的一种显示面板的制备方法中，所述在所述薄膜晶体管层上制备发光层，具体包括：
在所述薄膜晶体管层上制备空穴注入层；
在所述空穴注入层上制备空穴传输层；
在所述空穴传输层上制备电子传输层；
在所述电子传输层上制备电子注入层；
在所述电子注入层上制备阴极膜层；
在所述阴极膜层上蒸镀无机层。
在本申请提供的一种显示面板的制备方法中，所述显示装置包括上述所述的显示面板。
本申请的有益效果为：在本申请提供的显示面板中，所述发光层中的无机层的制备时间短，利于显示面板的量产。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。
图2本申请实施例所提供的发光层的结构示意图。
图3为本申请实施例提供的显示面板的另一种结构示意图。
图4为本申请实施例所提供的显示面板的制备方法示意图。
图5为本申请实施例提供的显示面板制备方法中S30的流程示意图。
具体实施方式
本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括：基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板上；发光层，设置于所述薄膜晶体管层上；其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层，其中，所述发光层中的无机层的蒸镀时间短，利于显示面板的量产。
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
需要说明的是，本发明附图中各层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本申请实施例内容。
请参见图1，该图1为本申请实施例所提供的显示面板的结构示意图。在该图1中，所述显示面板包括：基板1；薄膜晶体管层2，设置于所述基板1上；发光层3，设置于所述薄膜晶体管2层上。
在一些实施例中，基板1可选地为柔性基板，柔性基板与薄膜晶体管层2、发光层3相配合形成柔性显示面板。柔性基板的材料本申请不限制，可选地为有机聚合物，作为示例，有机聚合物可以是聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚酰胶(Polyamide Adhesive，PA)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚苯醚砜(Polyethersulfone，PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene glycol Terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PolyethyleneNaphthalate two formic acid glycol ester，PEN)、聚甲基丙烯酸甲酯(Poly MethylMethacrylate，PMMA)、环烯烃共聚物(COC)中的一种。
具体的，请参见图2，该图2本申请实施例所提供的发光层的结构示意图。在该图2中，该发光层3包括依次层叠设置的空穴注入层31(Hole Inject Layer，HIL)、空穴传输层32(Hole Transport Layer，HTL)、电致发光层33(Emitting Material Layer，EML)、电子传输层34(Electron Transport Layer,EHL)、电子注入层35(Electron Inject Layer，EIL)、阴极38(Cathode)、覆盖层36(Caping Layer，CPL)以及无机层37。
具体的，该空穴注入层31作为该显示面板中的缓冲层，可以平滑该显示面板中薄膜晶体管层2和空穴传输层32之间的空穴注入势垒，有效解决该发光层3界面功函数失配的问题。同理，该电子注入层35作为该显示面板中的缓冲层，可以平滑该显示面板中阴极和电子传输层34之间的电子注入势垒，有效解决该发光层3界面功函数失配的问题。且该电致发光层33在该薄膜晶体管层2中的阳极38、空穴注入层31、空穴传输层32、电子传输层34以及电子注入层35和阴极38的作用下发光显示。
在一些实施例中，所述无机层37的材质为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或者氮氧化硅(SiON)的一种或多种组合。所述无机层37的折射率低于所述覆盖层36的折射率。除此之外，该无机层37的材质还可以为金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、氧化物半导体或氮化物半导体等材料的一种或多种组合。
需要指出的是，在现有技术的显示面板中，现有技术显示面板的发光层中为依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及氟化锂层(LiF)。该氟化锂层一般采用蒸镀的形式形成于该覆盖层表面，但是在显示面板的制程中，该氟化锂的蒸镀时间较长，且该蒸镀时间占据制备该发光层的大量时间。因此，本申请实施例提出发光层3中最上面为无机层37，且在相同厚度的情况下，本实施例中的无机层37对应的制备时间约为现有技术中氟化锂层制备时间的1/6～1/7，故本案提供的显示面板制程时间短，提高了制程的效率，利于显示面板的量产。
在一些实施例中，请参见图3，该图3为本申请实施例提供的显示面板的另一种结构示意图。在该图3中，所述显示面板还包括封装膜层4；
所述封装膜层4覆盖所述发光层3，所述封装膜层4包覆所述发光层3、所述薄膜晶体管层2与所述基板1的侧边，并使所述基板1包裹于所述封装膜层4内。顾名思义，该封装膜层4作为保护层，能阻挡水氧的渗透、侵入，提高本申请实施例提供的显示面板在空气中的稳定性
在一些实施例中，该封装膜层4的材料可以为有机绝缘材料，所述有机绝缘材料为阵列有机绝缘膜(Polymer Film on Array，简称PFA)、亚克力树脂(PolymethylMethacrylate，简称PMMA)、硅氧烷树脂中的一种或者多种。
在一些实施例中，本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法，请参见图4，该图4为本申请实施例所提供的显示面板的制备方法示意图，该方法包括：
S 10.提供基板；
S20.在所述基板上制备薄膜晶体管层；
S30.在所述薄膜晶体管层上制备发光层，其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。
进一步的，请参见图5，该图5为本申请实施例提供的显示面板制备方法中S30的流程示意图，具体包括：
S301.在所述薄膜晶体管层上制备空穴注入层；
S302.在所述空穴注入层上制备空穴传输层；
S303.在所述空穴注入层上制备电致发光层；
S304.在所述电致发光层上制备电子传输层；
S305.在所述电子传输层上制备电子注入层；
S306.在所述电子注入层上制备阴极膜层；
S307.在所述阴极膜层上制备覆盖层；
S308.在所述覆盖层上制备无机层。
需要说明的是，该步骤S308中，制备无机层可以采用蒸镀(Evaporation)的方式、等离子增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor，PECVD)、等离子增强原子层(Plasma Enhanced ALD，PEALD)、原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)、脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition，PLD)或者其他的制备方法。
进一步的，在步骤S30之后，还包括：
S40.在所述发光层上制备封装膜层，所述封装膜层覆盖所述发光层，所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板的侧边，并使所述基板包裹于所述封装膜层内。
本申请实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括驱动电路和上述任一项显示面板。其中，显示面板包括基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板上；发光层，设置于所述薄膜晶体管层上；其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。
区别于现有技术，本申请提供的显示装置中的显示面板，其发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层，其所述发光层中的无机层的制备时间短，利于显示面板的量产。
在本实施例中，所述显示面板及其制备方法，可以应用于有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)技术开发中，或量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)的TFT技术开发中，或微型二极管的TFT技术开发中。
本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请任意实施例提供的显示面板。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在本实施例中，所述显示面板及其制备方法，可以应用于有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)技术开发中，或量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)的TFT技术开发中，或微型二极管的TFT技术开发中。
除上述申请实施例所提供的显示面板外，本申请实施例还提供的显示装置可以是液晶(Liquid Crystal Display，简称LCD)显示器，也可以是电子墨水屏(e-ink)显示器。主动式有机发光二极体(AMOLED)显示器具有超高反应速度、广色域、高对比度等优势，已被认为是继液晶之后的下一世代显示器，且AMOLED可制作于柔性基板(Flexible Substrate)上，使得显示器具有可弯折(Bendable and Foldable)的特性。柔性显示器为显示器带来更多的应用性与功能性。
柔性显示器和一般平面显示器在模组段(Module)结构上最大的差异，就是不能像一般平面显示器那样使用玻璃盖板(Cover Glass)，因为玻璃的可弯折性低，弯折过程易碎。现今柔性显示器所使用的盖板(Cover Window)材料皆为塑胶类材质(CPI)。然而，显示器产品要求表面要能抗刮、抗冲击，而塑胶材质天生就不如玻璃来得硬，因此，一般商用塑胶盖板都会在塑胶表面涂布一层较硬的抗刮材质(HC，Hard Coating)，并声称这样的盖板结构可以通过铅笔硬度测试达8H以上。
然而，实际在使用此塑胶盖板于柔性显示器迭层结构后发现，铅笔硬度测试大幅降低为1H以下，8H硬度只在单独测试塑胶盖板的时候才会有如此水平。主要原因在于贴合柔性显示器各层所使用的光学透明胶(OCA)非常柔软，使得铅笔下压后坍陷的幅度比使用玻璃当盖板的情况来得严重许多。为了解决上述之现象，提高Hard Coating厚度应是有所助益。然而，提高Hard Coating厚度也会提升了弯曲刚度(Flexural Rigidity)，进而降低显示屏的弯折性(Foldability)，因此并非理想的解决方案。
除上述实施例外，本申请还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效替换形成的技术方案，均落在本申请要求的保护范围。
综上所述，虽然本申请已将优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
基板；
薄膜晶体管层，设置于所述基板上；
发光层，设置于所述薄膜晶体管层上；
其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机层的材质为氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机层的折射率低于所述覆盖层的折射率。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括封装膜层；
所述封装膜层覆盖所述发光层，所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述封装膜层的材料为有机绝缘材料，所述有机绝缘材料为阵列有机绝缘膜、亚克力树脂或者硅氧烷树脂中的一种或者多种。
6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
提供基板；
在所述基板上制备薄膜晶体管层；
在所述薄膜晶体管层上制备发光层，其中，所述发光层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、覆盖层以及无机层。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在所述薄膜晶体管层上制备发光层之后，还包括：
在所述发光层上制备封装膜层，所述封装膜层覆盖所述发光层，所述封装膜层包覆所述发光层、所述薄膜晶体管层与所述基板。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在所述薄膜晶体管层上制备发光层，具体包括：
在所述薄膜晶体管层上制备空穴注入层；
在所述空穴注入层上制备空穴传输层；
在所述空穴传输层上制备电致发光层；
在所述电致发光层上制备电子传输层；
在所述电子传输层上制备电子注入层；
在所述电子注入层上制备阴极膜层；
在所述阴极膜层上制备覆盖层；
在所述覆盖层上制备无机层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述制备无机层的工艺包括：蒸镀、等离子增强化学气相沉积、等离子增强原子层沉积、原子层沉积或者脉冲激光沉积。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1-6任一项所述的显示面板。
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