CN110300808B - 取向性电磁钢板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种电磁钢板,其是在钢板的表面具有通过多个线状槽进行了细分的磁畴的取向性电磁钢板,其中,在所述线状槽的底面设有沿该槽延伸的方向隔开给定间隔(p)而排列的多个凹部,且所述凹部具有给定深度(d),由此,可以抑制磁通密度的降低,进一步改善铁损。

Description

取向性电磁钢板
技术领域
本发明涉及适用于变压器、特别是绕组变压器(winding transformer)的铁芯材料的取向性电磁钢板。
背景技术
取向性电磁钢板主要用作变压器的铁芯,要求磁化特性优异,特别是铁损低。为此,使钢板中的二次再结晶晶粒高度集中在(110)[001]位向(高斯位向)、降低产品中的杂质是重要的。
但是,由于在控制结晶位向、降低杂质方面存在限制,因此,开发了各种通过物理方法细分磁畴来降低铁损的技术、即磁畴细分技术。磁畴细分的技术大致分为非耐热型的技术和耐热型的技术。对于绕组变压器而言,由于在铁芯加工后进行去应力退火,因此要求耐热型的磁畴细分技术。
作为非耐热型的磁畴细分技术,例如在专利文献1中公开了对最终产品板照射激光而在钢板表层导入线状应变区域的技术。另外,作为耐热型的磁畴细分技术,通常是在钢板表面形成槽的方法。具体而言,在专利文献2中公开了在钢板上机械地按压齿形痕迹而形成槽的方法,在专利文献3中公开了通过蚀刻形成槽的方法,另外,在专利文献4中公开了利用激光形成槽的方法。
与使用了导入上述高位错密度区域的激光等的磁畴细分技术相比,上述的形成槽的磁畴细分技术存在铁损降低效果小及磁通密度低的问题。因此,为了改善这些问题,提出了关于槽的形成方法的方案。例如,在专利文献5中公开了改进钢板表面的形状的方法,在专利文献6中公开了改进槽形状的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开昭55-18566号公报
专利文献2:日本特开昭62-067114号公报
专利文献3:日本特开昭63-042332号公报
专利文献4:日本特开平07-220913号公报
专利文献5:日本特许第4719319号公报
专利文献6:日本特许第5771620号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
基于形成槽的耐热型的磁畴细分技术会与待形成的槽容积成比例地减少基础钢板量。因此,在想要加深槽来提高磁畴细分效果时,存在磁通密度降低的问题。这在专利文献5及专利文献6中公开的技术中也是同样的,在无法超越磁通密度的降低与磁畴细分效果的平衡下得到的效果方面遗留问题。
本发明是鉴于上述实际情况而开发的,其目的在于提供一种通过改进线状槽的深度方向的形状,从而抑制磁通密度的降低,进一步改善铁损的取向性电磁钢板。
用于解决问题的方法
为了解决上述问题,本发明人等在反复进行对磁畴细分前具有相同特性的取向性电磁钢板形成各种槽的实验中发现,在槽底面不平滑且粗糙的钢板中,相对于磁通密度的变差量,铁损的改善量增多。因此,通过详细地研究这些钢板,发现了槽底面的最优形状,从而完成了本发明。
即,本发明的主旨如下。
1.一种取向性电磁钢板,其是在钢板的表面具有通过多个线状槽进行了细分的磁畴的取向性电磁钢板,其中,
在所述线状槽的底面具备多个凹部,所述多个凹部沿该槽延伸的方向隔开满足下式(1)的间隔p(μm)而排列,
所述凹部具有满足下式(2)的深度d(μm),
0.20W≤p≤1.20W··· (1)
式(1)中,W为线状槽的开口宽度(μm),
0.10D≤d≤1.00D··· (2)
式(2)中,D为线状槽的平均深度(μm)。
2.根据上述1所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的平均深度D(μm)满足下式(3),
0.05t≤D≤0.20t··· (3)
式(3)中,t为钢板的厚度(μm)。
3.根据上述1或2所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的延伸方向与和所述钢板的轧制方向正交的方向形成的角度为0°以上且40°以下。
4.根据上述1、2或3所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽在所述钢板的轧制方向上的相互间隔l(μm)满足下式(4),
10W≤l≤400W··· (4)
式(4)中,W为线状槽的开口宽度(μm)。
5.根据上述1~4中任一项所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的开口宽度W为5μm以上150μm以下。
发明效果
根据本发明,对于通过由在钢板表面形成的槽所带来的磁畴细分效果而改善了铁损的取向性电磁钢板而言,能够抑制磁通密度的降低。
附图说明
图1是在表面具有线状槽的钢板的立体图。
图2是示出线状槽的形状的示意图。
图3是示出线状槽的截面形状的电子显微镜(SEM)照片(D=20μm、d=15μm、p=30μm)。
图4是示出d=1.00D时的线状槽的形状的一例的示意图。
符号说明
1 钢板
2 线状槽
3 凹部
l 线状槽的相互间隔
W 线状槽的开口宽度
t 钢板的厚度
D 线状槽的深度
d 凹部的深度
p 凹部的间隔
具体实施方式
以下,对本发明进行详细说明。
为了利用在槽的侧面产生的磁极来消除静磁能增高,新生成180°磁畴壁使磁畴宽度变窄,从而实现利用形成槽进行的耐热型的磁畴细分。这样,在磁畴宽度变窄时,钢板被磁化时的磁畴壁的移动距离变短,磁畴壁移动时的能量损失降低,即铁损降低。
在上述的铁损降低机理的表现中,需要生成磁极,因此,需要制造出磁导率不同的物质的界面。
这里,在形成槽的技术中,利用了铁和空气作为磁导率不同的物质。因此,由于槽的体积部分成为单纯的空间,因此,钢板的有效磁导率降低,以作为磁特性指标的800A/m进行磁化时的磁通密度B8值降低。
因此,产生在生成大量磁极来提高磁畴细分效果时磁通密度降低的困境。另外,由于仅在槽的侧面产生磁极,因此,在钢板表面(一个侧面)形成槽的情况下,在钢板的厚度中心部或背面(另一侧面)上难以受到形成槽所带来的效果。
因此,本发明的发明人等对于可最大限度充分利用上述的形成槽所带来的效果的槽底面形状进行了深入研究。其结果是得到了以下见解:在线状槽的底面设置满足给定条件的凹部是有效。即,发现了,在线状槽的底面具备隔开给定间隔而排列的多个凹部、该凹部具有给定深度是适于发挥形成槽所带来的磁畴细分的效果的。
具体而言,如图1所示,在沿横穿钢板1的轧制方向的方向延伸、且在轧制方向上隔开间隔形成的线状槽2中,在槽的底面沿槽2延伸的方向设置多个凹部3。该凹部3例如可以将沿着a-a线的截面如图2(a)及图3所示设为圆锥状、或者将沿着b-b线的截面如图2(b)所示设为圆柱状。另外,只要满足根据后述式(1)的间隔p(μm)及根据后述式(2)的深度d(μm)即可,对形状没有限定,可以排列不同的形状。需要说明的是,在图1中,为了方便说明,每个线状槽形成了不同形状的凹部,但从制造性的观点考虑,优选在全部线状槽中形成相同形状的凹部。
当如上所述在线状槽2的底部设置凹部3时,尽管比在钢板表面产生的磁极的数量少,但是在钢板内部也新生成磁极。这里,磁畴壁为朝向使其内部能量最小化的方向,即具有相对于钢板表面垂直地朝向背面侧生成的倾向。因此,即使在钢板内部产生的磁极的数量少,其磁畴壁也直接生成至钢板的内部,因此,与磁极数量相对于在钢板表面的磁极数量的减少相比,磁畴细分效果的减少量是平稳的。其结果是,与具有相同截面积的现有的均匀深度的槽相比,磁畴细分效果增大。
此外,作为本发明的另外的方式,可以考虑在截面积一定的条件下,将贯穿整个钢板全部厚度的点状的孔排列成线状而生成磁极的方法。但是,该方式由于在孔与孔之间没有槽,因此,无法发挥磁畴细分的效果。相反,如果为相同截面积,则在钢板表面形成均匀深度的槽时,细分效果增高。因此,在本发明中,通过在钢板表面形成均匀深度的槽,并且在其底面形成可视为深槽的一部分的凹部,从而产生更优异的磁畴细分效果。
接着,对本发明的各构成要件的限定原因进行说明。
在本发明中,在线状槽的底面具备沿该槽延伸的方向隔开满足下式(1)的间隔p而排列的多个凹部,而且,该凹部具有满足下式(2)的深度d,这是重要的。
0.20W≤p≤1.20W··· (1)
这里,W为线状槽的开口宽度,
0.10D≤d≤1.00D··· (2)
这里,D为线状槽的平均深度。
需要说明的是,在本发明中,上述p、d、W及D的单位为(μm)。
凹部的间隔p是,通过光学显微镜或电子显微镜在长度1mm的范围观察沿线状槽的延伸方向的截面(图1中的a-a线截面),测定横穿后述的平均深度D的位置(图2的虚线位置)的凹部的个数,用1mm除以该个数所得到的值。然后,对任意的3个部位进行测定,并将其平均值作为间隔p。另外,W为钢板表面的线状槽的开口宽度。
凹部的深度d是,通过光学显微镜或电子显微镜在长度1mm的范围观察沿线状槽的延伸方向的截面(图1中的a-a线截面),从各凹部的最深部分的平均值减去线状槽的平均深度D而得到的深度。
槽的平均深度D是,通过光学显微镜或电子显微镜在长度1mm的范围观察沿线状槽的延伸方向的截面(图1中的a-a线截面),测定包含凹部在内的槽的截面积(图2中阴影的部分),用该截面积除以1mm所得到的值。需要说明的是,测定的截面为通过槽的钢板轧制方向的中央的截面。
另外,如上所述,在将线状槽的开口宽度设为W时,凹部的间隔p需要为0.20W以上且1.20W以下。即,当凹部的间隔p比0.20W小时,没有形成上述凹部的效果。换言之,与现有的均匀槽深度的槽相同,难以大幅改善磁畴细分效果。另一方面,当间隔p比1.20W大时,间隔过大,仍然难以大幅改善磁畴细分效果。
另外,凹部的深度d需要为0.10D以上且1.00D以下。当凹部的深度比0.10D小时,无法获得上述的板厚中心部区域的磁畴细分效果。另一方面,当大于1.00D大时,磁畴细分效果增大。然而,钢板的磁导率降低,导致在励磁至高磁通密度时的铁损的增大。因此,凹部的深度需要为1.00D以下。例如,在凹部为图4所示的截面形状的情况下,d=1.00D。
需要说明的是,在图1及2中,作为凹部3,示出了圆锥状及圆柱状的实例,但并不限定于这些形状,例如,除了椭圆锥状、椭圆柱状以外,还可以为棱柱、棱锥形状等。只要间隔p及深度d满足上述式(1)及式(2)即可。
另外,线状槽的(平均)深度D优选满足下式(3)。需要说明的是,钢板的厚度t为没有槽的部分的板厚。
0.05t≤D≤0.20t··· (3)
这里,t为钢板的厚度(在本发明中,t的单位为mm,但在应用于上式时,换算为μm)
即,在线状槽的(平均)深度D低于0.05t的情况下,槽的深度相对于钢板的厚度过浅,因此,存在不能发挥磁畴细分效果的隐患。另一方面,在(平均)深度D大于0.20t的情况下,虽然磁畴细分效果增大,但是钢板的磁导率降低,存在导致励磁至高磁通密度时的铁损增大的隐患。因此,D优选为0.20t以下。
另外,线状槽的延伸方向与和钢板的轧制方向正交的方向形成的角度优选为0°以上且40°以下。即,磁极的大小依赖于磁通的流动的方向和槽侧面形成的角度,在取向性电磁钢板中,为0°时最大。由于角度越大磁极的大小越小,因此优选为大约40°以下,更优选为30°以下。
线状槽在钢板的轧制方向上的相互间隔l(参照图1,需要说明的是,在本发明中,l的单位为μm)优选满足下式(4)。
10W≤l≤400W··· (4)
这里,W为线状槽的开口宽度。
即,在线状槽的间隔l比10W小时,每单位长度形成的槽的条数增多,因此磁畴细分效果增大。但是,所述槽的加工需要时间,导致成本的增加。另一方面,当间隔l比400W大时,槽的条数变少,生产性提高,但磁畴细分效果变小。
线状槽的开口宽度W优选为5μm以上且150μm以下。即,线状槽的开口宽度W越窄,磁畴细分越有效,但为了以比5μm窄的宽度加工钢板表面,需要极其昂贵的加工法,因此,在生产性和加工成本方面是不利的。另外,槽宽度越宽,加工越容易,但即使比150μm大,也难以获得改善生产性、加工成本的效果。
需要说明的是,在图1中,将与线状槽2的延伸方向正交的截面的形状设为了矩形,但并不限于矩形,也可以为底面成为圆弧的连续的沟槽状。
在本发明的取向性电磁钢板中形成槽的方法没有特别限定,对若干形成槽的方法的具体例子进行说明。
(蚀刻法1)
在最终冷轧后的取向性电磁钢板的表面形成抗蚀剂掩模,然后通过电解蚀刻在钢板表面形成本发明的槽形状的方法。
为了实现本发明的槽形状,需要分别重复两次掩膜形成及蚀刻。即,首先,在第一次中,形成抗蚀剂掩模并进行蚀刻加工,使得钢板以希望的间隔呈点状露出对应于凹部的部分。然后,将抗蚀剂掩模暂时除去,第二次以钢板在线上露出的方式形成掩膜并进行蚀刻。由此,通过进行两步加工,可以得到本发明的槽形状。
这里,由于本发明的D还包含凹部的一部分,因此,考虑到该影响,需要进行第二次的蚀刻(确定D)以满足本发明。另外,在第一次的蚀刻中形成的对应于凹部的部分会在第二次的蚀刻中除去其上部。因此,需要考虑到该除去来形成第一次的蚀刻中的对应于凹部的部分,以便在所述第二次的蚀刻后形成本发明的凹部形状。需要说明的是,抗蚀剂掩模的形成可以通过凹版印刷、喷墨印刷等进行。蚀刻可以通过使用了酸的化学蚀刻或使用了NaCl水溶液的电解蚀刻来进行。
(蚀刻法2)
使用最终精轧退火后的形成有镁橄榄石被膜的取向性电磁钢板的方法。通过使用镁橄榄石被膜作为抗蚀剂掩模,具有不使用昂贵的抗蚀剂,且能够省略抗蚀剂剥离工序的优点。该方法也与上述的技术同样地需要两步加工。首先,作为第一次,对镁橄榄石被膜使用光纤激光等将被膜呈点列状剥离。然后,实施蚀刻加工,接着,使用光纤激光等将被膜呈线状剥离,实施第二次的蚀刻加工。蚀刻等可以与上述方式同样地实施。需要说明的是,如上述段落所述,第二次的蚀刻加工后的凹部形状是很重要的。
(激光直接雕刻法)
对于蚀刻法而言,由于为两步加工,因此工艺成本增高。因此,使用短脉冲激光(皮秒激光、飞秒激光)直接对槽进行加工。
对最终精轧退火后的取向性电磁钢板实施加工是简单的,因此优选。通常,对于镁橄榄石(陶瓷)和钢(基础钢板)而言,最合适加工的激光输出功率不同(陶瓷的加工需要高输出功率),优选有意以最合适陶瓷的高输出功率加工基础钢板部分。这是由于,能够容易地以与脉冲间隔和激光扫描速度成比例的间距加工希望的槽形状及凹部形状。
最后,在制造本发明的取向性电磁钢板时,除了上述条件以外,没有特别限定,以下,对于推荐的优选成分组成及上述条件以外的制造条件进行说明。
在本发明中,在使用抑制剂的情况下,例如,在利用AlN类抑制剂的情况下,可以适量含有Al及N,另外,在利用MnS/MnSe类抑制剂的情况下,可以适量含有Mn和Se及/或S。当然,也可以组合使用两种抑制剂。在该情况下,Al、N、S及Se的优选含量分别为Al:0.01~0.065质量%、N:0.005~0.012质量%、S:0.005~0.03质量%、Se:0.005~0.03质量%。需要说明的是,这些抑制剂成分在最终精轧退火后从钢板(基础钢板)中被除去,成为杂质程度的含量。
另外,本发明也可以应用于限制了Al、N、S及Se的含量且基本上不使用抑制剂的取向性电磁钢板。在该情况下,优选Al、N、S及Se的量分别抑制为Al:100质量ppm以下,N:50质量ppm以下,S:50质量ppm以下及Se:50质量ppm以下。
其它的基本的成分及任意添加成分如下所述。
C:0.08质量%以下
当C(碳)的含量超过0.08质量%时,难以在制造工序中将C降低至在产品中不产生磁时效的50质量ppm以下,因此,优选为0.08质量%以下。需要说明的是,关于下限,即使是不包含C的原材料也能够进行二次再结晶,因此不需特别设置。
Si:2.0~8.0质量%
Si(硅)是提高钢的电阻、改善铁损的有效的元素,但当含量不足2.0质量%时,无法实现足够的铁损降低效果。另一方面,当Si量超过8.0质量%时,加工性显著降低,而且磁通密度也降低。因此,Si量优选为2.0~8.0质量%的范围。
Mn:0.005~1.0质量%
Mn(锰)是在使热加工性变得良好所需的元素,但含量低于0.005质量%时,其添加效果不足。另一方面,当Mn量超过1.0质量%时,产品板的磁通密度降低。因此,Mn量优选为0.005~1.0质量%的范围。
除了上述基本的成分以外,作为磁特性改善成分,可以适当含有以下所述的元素。
选自Ni:0.03~1.50质量%、Sn:0.01~1.50质量%、Sb:0.005~1.50质量%、Cu:0.03~3.0质量%、P:0.03~0.50质量%、Mo:0.005~0.10质量%及Cr:0.03~1.50质量%中的至少一种
Ni(镍)是对于改善热轧板组织、提高磁特性有用的元素。但是,其含量低于0.03质量%时,磁特性的提高效果小,另一方面,当超过1.50质量%时,二次再结晶变得不稳定,磁特性变差。因此,Ni量优选为0.03~1.50质量%的范围。
另外,Sn(锡)、Sb(锑)、Cu(铜)、P(磷)、Mo(钼)及Cr(铬)分别是对磁特性的提高有用的元素,当不满足任意上述各成分的下限时,磁特性的提高效果小。另一方面,当超过上述各成分的上限量时,阻碍二次再结晶晶粒的生长。因此,分别优选以上述的范围含有。需要说明的是,除上述成分以外的余量是在Fe及制造工序中混入的不可避免的杂质。
可以通过通常的铸锭法、连续铸造法将调整为上述的优选成分组成的钢原材料制成钢坯,也可以通过直接连续铸造法制造100mm以下厚度的薄铸片。钢坯通过通常的方法加热而供于热轧,但也可以在铸造后不加热而直接供于热轧。在薄铸片的情况下,可以进行热轧,也可以省略热轧而直接进入随后的工序。接着,在根据需要进行热轧板退火后,通过一次冷轧或者其间夹有中间退火的2次以上的冷轧而制成最终板厚,然后,进行脱碳退火,接着分别实施最终精轧退火后,通常涂布绝缘张力涂层而制成产品。
实施例1
将钢坯在1100℃下加热30分钟后,进行热轧,制成2.2mm板厚的热轧板,在1000℃×1分钟的条件下实施热轧板退火,然后,通过冷轧制成0.23mm最终板厚的钢板,所述钢坯以质量%计含有Si:3.3%、C:0.06%、Mn:0.08%、S:0.001%、Al:0.015%、N:0.006%、Cu:0.05%及Sb:0.01%。接着,将该钢板以加热速度20℃/秒从室温升温至820℃,在湿润气体氛围下进行了一次再结晶退火(兼带脱碳退火),然后,将以MgO为主体的退火分离剂制成水浆状后,进行涂布、干燥。进而,用100小时使该钢板在300℃~800℃之间升温,然后以50℃/小时升温至1200℃,在1200℃下进行5小时的退火,即最终精轧退火。接着,涂布硅磷酸盐类的绝缘张力涂层,在850℃×1分钟的条件下进行烧结,所述硅磷酸盐类的绝缘张力涂层具有磷酸镁(以Mg(PO3)2计):30mol%、胶体二氧化硅(以SiO2计):60mol%、CrO3:10mol%的组成。将这样得到的钢板切割为轧制方向300mm×与轧制呈直角的方向100mm的大小,然后供于去应力退火(800℃、2小时、N2气体氛围)。然后,测定了磁特性(W17/50值、B8值)。测定结果为W17/50:0.83W/kg,B8:1.92T。
接着,使用L.P.S.Works公司制造的皮秒激光加工机(PiCooLs)对钢板加工了具有表1中记载的各种形状的线状槽。此时,将线状槽的延伸方向与和钢板的轧制方向正交的方向的形成的角度设为10°,将线状槽的相互间隔设为3000μm。在该槽加工后,实施了去应力退火(800℃、2小时、N2气体氛围),然后,分别测定了钢板的磁特性(W17/50值、W15/60值、B8值)。将这些结果示于表1。
Figure BDA0002169297610000111
如表1所示,如果是具有本发明的形状的槽,则能够在将磁通密度B8保持为现有例同等以上的状态下,极其良好地使高磁场中的铁损W17/50为0.74W/kg以下,而且使铁损W15/60为0.71W/kg以下,所述现有例的线状槽的底面为均匀深度。
这里,B8表示以800A/m进行励磁时的磁通密度,W17/50表示以磁通密度1.7T、50Hz的交流进行励磁时的铁损,W15/60表示以磁通密度1.5T、60Hz的交流进行励磁时的铁损。
实施例2
将钢坯在1200℃×30分钟的条件下加热后,进行热轧,制成2.2mm的板厚的热轧板,所述钢坯以质量%计含有Si:3.3%、C:0.06%、Mn:0.08%、S:0.001%、Al:0.020%、N:0.006%、Cu:0.05%及Sb:0.01%。进一步,对该热轧板在1000℃×1分钟的条件下实施了热轧板退火,然后通过冷轧制成0.27mm最终板厚的钢板。接着,以加热速度200℃/秒将该钢板从室温升温至820℃,在湿润H2-N2气体氛围下进行一次再结晶退火(兼带脱碳退火)后,将以MgO为主体的退火分离剂制成水浆状,然后进行涂布、干燥。进而,在用100小时将钢板在300℃~800℃之间升温后,以50℃/小时升温至1200℃,在1200℃下进行5小时退火作为最终精轧退火。接着,涂布硅磷酸盐类的绝缘张力涂层,在800℃×1分钟的条件下进行烧结,所述硅磷酸盐类的绝缘张力涂层具有磷酸铝(以Al(PO3)3计)25mol%、胶体二氧化硅(以SiO2计)60mol%、CrO3:7mol%的组成。将这样得到的钢板切割为轧制方向300mm×与轧制呈直角的方向100mm的大小,进行了去应力退火(800℃、2小时、N2气体氛围)。然后,测定了磁特性(W17/50值、B8值)。测定结果为W17/50:0.90W/kg,B8:1.93T。
接着,使用L.P.S.Works公司制造的皮秒激光加工机(PiCooLs)进行第一步加工,将镁橄榄石被膜及绝缘张力涂层呈点状剥离,使其成为表2中记载的形状。然后,将NaCl作为电解液进行电解蚀刻。接着,作为第二步加工,使用上述激光加工机将在第一次加工后的点与点之间存在的镁橄榄石被膜和绝缘涂层剥离,使其成为表2中记载的形状,将NaCl作为电解液进行了电解蚀刻。
进而,对槽加工后的钢板实施了去应力退火(800℃、2小时、N2气体氛围)。接着,测定了该钢板的磁特性(W17/50值、W15/60值、B8值)。将其结果示于表2。
Figure BDA0002169297610000131
如表2所示,如果是具有本发明的形状的槽,则能够在将磁通密度B8保持为现有例同等以上的状态下,极其良好地使高磁场中的铁损W17/50为0.80W/kg以下,而且使铁损W15/60为0.75W/kg以下,所述现有例的线状槽的底面为均匀深度。

Claims (9)

1.一种取向性电磁钢板,其是在钢板的表面具有通过多个线状槽进行了细分的磁畴的取向性电磁钢板,其中,
在所述线状槽的底面具备多个凹部,所述多个凹部沿该槽延伸的方向隔开满足下式(1)的间隔p而排列,
所述凹部具有满足下式(2)的深度d,所述间隔p及深度d的单位为μm,
0.20W≤p≤1.20W…(1)
式(1)中,W为线状槽的开口宽度,其单位为μm,
0.10D≤d≤1.00D…(2)
式(2)中,D为线状槽的平均深度,其单位为μm。
2.根据权利要求1所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的平均深度D满足下式(3),
0.05t≤D≤0.20t…(3)
式(3)中,t为钢板的厚度,其单位为μm。
3.根据权利要求1或2所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的延伸方向与和所述钢板的轧制方向正交的方向形成的角度为0°以上且40°以下。
4.根据权利要求1或2所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽在所述钢板的轧制方向上的相互间隔l满足下式(4),所述相互间隔l的单位为μm,
10W≤l≤400W…(4)
式(4)中,W为线状槽的开口宽度,其单位为μm。
5.根据权利要求3所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽在所述钢板的轧制方向上的相互间隔l满足下式(4),所述相互间隔l的单位为μm,
10W≤l≤400W…(4)
式(4)中,W为线状槽的开口宽度,其单位为μm。
6.根据权利要求1或2所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的开口宽度W为5μm以上150μm以下。
7.根据权利要求3所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的开口宽度W为5μm以上150μm以下。
8.根据权利要求4所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的开口宽度W为5μm以上150μm以下。
9.根据权利要求5所述的取向性电磁钢板,其中,所述线状槽的开口宽度W为5μm以上150μm以下。
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