CN110262186B - 一种纳米压印模具、纳米压印装置和纳米压印方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供了一种纳米压印模具，包括：纳米压印模板，与纳米压印模板紧密连接的密封腔体。纳米压印模板用于对压印胶进行压印，且具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入密封腔体。密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出。本发明实施例还公开一种纳米压印装置和纳米压印方法。由于本发明的纳米压印模板与密封腔体紧密相连，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入密封腔体，密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出，从而将图形转移、真空脱气整合起来，避免随机气泡的产生，减少制造时间、均匀地排出空气。

Description

一种纳米压印模具、纳米压印装置和纳米压印方法

技术领域

本发明涉及纳米压印技术领域，具体为一种纳米压印模具、纳米压印装置和纳米压印方法。

背景技术

随着时代的发展和科技的进步，作为集成电路的核心的光刻技术也在随之进步，其制程从90纳米减小至7纳米，所用光源波长从436纳米减小至193纳米。但是，这样技术的进步同时也伴随着光刻技术越来越趋近于摩尔定律的瓶颈。为了制造更加精密化的装置，需使用昂贵的阿斯麦极紫外光刻机，这无形中增加了制造成本，导致制造出的产品更加昂贵，从而降低了市场竞争力。

纳米压印技术具有高分辨率、工艺过程简单、超低成本、高生产率等优点，被广泛应用于半导体等微纳制造领域。

现如今，传统纳米压印方式包括热压印、紫外线常温压印等方式。其中，由于热压印操作周期长、压力过大造成纳米压印模板损耗、压印对准偏差大，越来越多的设备设计朝着紫外线常温压印方式转变。

但是，本发明的发明人发现，传统紫外线常温压印设备在空气中进行纳米压印时，通常会在纳米压印模板的模具腔内陷入空气，导致气泡缺陷的生成，导致压印缺陷，压印结构的性能下降。

另外，本发明的发明人发现，部分传统紫外线常温压印设备在压印过程中，采用整体抽真空的方式进行抽真空，但存在抽真空时间长的问题，大大增加了工艺时间，不利于压印辅助光刻制程。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种纳米压印模具、纳米压印装置和纳米压印方法，解决现有技术纳米压印过程中，存在气泡缺陷、抽真空时间长的技术问题。

为了解决上述问题，本发明实施例主要提供如下技术方案：

在第一方面中，本发明实施例公开了一种纳米压印模具，包括：纳米压印模板，与所述纳米压印模板紧密连接的密封腔体；

所述纳米压印模板用于对压印胶进行压印，且具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入所述密封腔体；

所述密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过所述抽真空孔排出。

可选地，所述密封腔体的内侧壁具有排气微通道，所述排气微通道与所述抽真空孔连接，用于提供空气的流动通道。

可选地，所述纳米压印模板包括：透气底板和与所述透气底板紧密连接的透气膜层；

所述透气底板远离所述透气膜层的一侧设置有模具腔；

所述透气膜层与所述密封腔体紧密连接。

可选地，所述密封腔体设置在所述透气膜层远离所述透气底板的一侧，或者，所述密封腔体设置在所述透气膜层的四周。

可选地，所述纳米压印模板还包括密封层，其中：

当所述密封腔体设置在所述透气膜层远离所述透气底板的一侧时，所述密封层设置在所述透气膜层的四周；

当所述密封腔体设置在所述透气膜层的四周时，所述密封层设置在所述透气膜层远离所述透气底板的一侧。

可选地，所述透气底板为柔性底板，材料包括硅酮、聚二甲基硅氧烷、聚丙烯酸、聚丙烯酯类、聚氨酯类、水凝胶中一种或组合物。

可选地，所述模具腔的高深宽比的范围在1：4至1：10之间。

可选地，所述密封腔体的材料包括不锈钢、铜、铝合金、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯中的一种或组合物。

在第二方面中，本发明实施例公开了一种纳米压印装置，包括：第一方面所述的纳米压印模具；以及

压印腔室；

涂覆机构，用于向位于所述压印腔室内的基板的待制作膜层上涂覆压印胶；

压印机构，用于将所述纳米压印模具压印在所述压印胶上，以及将所述纳米压印模具从所述压印胶上脱模。

在第三方面中，本发明实施例公开了一种采用第一方面所述的纳米压印模具进行纳米压印的方法，包括：

在基板的待制作膜层上涂覆压印胶；

将纳米压印模板设置有模具腔的一侧压印在所述压印胶上，所述模具腔内的空气扩散进入密封腔体，并通过设置在所述密封腔体的侧壁上的抽真空孔排出；

固化所述压印胶，并将所述纳米压印模板从所述压印胶上脱模。

借由上述技术方案，本发明实施例提供的技术方案至少具有下列优点：

由于本发明实施例的纳米压印模板与密封腔体紧密相连，且纳米压印模板具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入密封腔体，因此，能够很好的避免模具腔内陷入空气，导致气泡缺陷的生成；且本发明实施例密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出，实际应用中，可以通过外部连接抽真空设备即可完成抽真空，即本发明实施例在抽真空时，采用首先空气扩散进行密封腔体，然后再对密封腔体进行抽真空的分级抽真空方式，与现有技术整体抽真空的方式相比，本发明实施例能够大大减少抽真空时长，减小工艺时间。

上述说明仅是本发明实施例技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明实施例的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明实施例的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本发明实施例的具体实施方式。

附图说明

通过阅读下文可选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出可选实施方式的目的，而并不认为是对本发明实施例的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1为本发明实施例的一种纳米压印模具的结构示意图；

图2为本发明实施例的一种纳米压印模板的结构示意图；

图3为本发明实施例的密封腔体的结构示意图；

图4为本发明实施例的另一纳米压印模板的结构示意图；

图5为本发明实施例的另一纳米压印模具的结构示意图；

图6为本发明实施例的纳米压印方法的流程图；

图7为对玻璃基板上的压印胶进行压印的结构示意图；

图8在脱模后在玻璃基板上形成的具有压印图案的结构示意图；

图9为对导电玻璃基板上的压印胶进行压印的结构示意图；

图10为脱模后在导电玻璃基板上形成的具有压印图案的结构示意图。

附图标记介绍如下：

1-纳米压印模板；2-密封腔体；3-模具腔；4-对位标记；5-透气底板；6-压印胶；7-基板；8-抽真空孔；9-透气膜层；

11-密封层；12-排气微通道；13-玻璃基板；14-导电层；15-导电玻璃基板。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

下面结合附图详细介绍本申请实施例的具体技术方案。

第一方面，图1至图3分别示出了本发明实施例的纳米压印模具、纳米压印模板和密封腔体的结构示意图。如图1所示，本发明实施例的纳米压印模具包括：纳米压印模板1，与纳米压印模板1紧密连接的密封腔体2。纳米压印模板1用于对压印胶(图中未示出)进行压印，且具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板1的模具腔内的空气扩散进入密封腔体2；密封腔体2的侧壁设置抽真空孔8，使得进入到该密封腔体2内的空气通过抽真空孔8排出。

由于本发明实施例的纳米压印模板1与密封腔体2紧密相连，且纳米压印模板1具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板1的模具腔内的空气扩散进入密封腔体2，因此，能够很好的避免模具腔内陷入空气，导致气泡缺陷的生成；且本发明实施例密封腔体2的侧壁设置抽真空孔8，使得进入到该密封腔体2内的空气通过抽真空孔8排出，实际应用中，可以通过外部连接抽真空泵即可完成抽真空，即本发明实施例在抽真空时，采用首先空气扩散进行密封腔体2，然后再对密封腔体2进行抽真空的分级抽真空方式，与现有技术整体抽真空的方式相比，本发明实施例能够大大减少抽真空时长，减小工艺时间。

具体地，如图2所示，纳米压印模板1包括多个对位标记4，用于在纳米压印过程中实现对位作用；对位标记4的设计形状可以为图2中的“十”字形状，当然也可以为其它形状，对位标记4的设计数量根据实际情况设定，一般设计在纳米压印模板1的四个边缘位置。图中还示出了纳米压印模板1的模具腔3，模具腔3的尺寸在纳米量级，具体可以为10纳米(nm)到50nm，进入到纳米量级的模具腔3内的空气具有很好的扩散性能，能够以很快的速度扩散进入密封腔体2。

具体地，如图3所示，密封腔体2的内侧壁具有排气微通道12，用于提供空气的流动通道；排气微通道12的设置有助于纳米压印模板的气压均匀。排气微通道12的一端连接抽真空孔8，允许排气微通道12的空气从抽真空孔8排出。具体实施时，抽真空孔8可以设置一个，也可以设置多个，图中以设置两个为例，抽真空孔8的孔径可以为0.25毫米(mm)到10mm，抽真空孔8的具体设置位置以及设置数量根据实际情况设定，本发明实施例并不做具体限定。

具体地，密封腔体2选用具有一定厚度，且耐压的材料制作，可选地，密封腔体2的材料包括不锈钢、铜、铝合金、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯中的一种或组合物；具体实施时，密封腔体2厚度可以为1mm到100mm，排气微通道直径可以为50微米(μm)到500μm，排气微通道深度可以为10μm到1000μm。

在一种具体实施方式中，如图4所示，本发明实施例的纳米压印模板1包括：透气底板5和与透气底板5紧密连接的透气膜层9；透气底板5远离透气膜层9的一侧设置有模具腔3；透气膜层9与密封腔体2(图中未示出)紧密连接。具体地，模具腔3的高深宽比的范围在1：4至1：10之间。其中，本发明的高深宽比是指一个形状的深度与宽度之间的比值，例如，本发明实施例的模具腔3的截面为矩形，该模具腔3的高深宽比是指模具腔3的深度a与宽度b之间的比值，即a:b。

具体实施时，透气底板5可以为柔性底板，材料包括硅酮、聚二甲基硅氧烷、聚丙烯酸、聚丙烯酯类、聚氨酯类、水凝胶中一种或组合物；透气膜层9可以为刚性膜层。

具体地，本发明实施例密封腔体2设置在透气膜层9远离透气底板5的一侧，或者，密封腔体2设置在透气膜层9的四周，如图5所示，纳米压印模板1还包括密封层11，在一种可选的实施方式中，当密封腔体2设置在透气膜层9的四周时，密封层11设置在透气膜层9远离透气底板5的一侧；在另一种可选的实施方式中，当密封腔体2设置在透气膜层9远离透气底板5的一侧时，密封层11设置在透气膜层9的四周。密封层11的厚度为1mm到100mm，密封层11为具有密封性能的塑料材质，具体可以为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、铝塑膜中的一种或组合。

下面通过一个具体的实施例详细介绍本发明实施例的纳米压印模具的制造过程。

首先，分别制作密封腔体2和纳米压印模板1。

具体地，密封腔体2的制作包括：首先，提供一基底，基底的材料包括：玻璃、石英、塑料、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚环烯烃共聚物、聚环烯烃聚合物、聚二甲基硅氧烷中的一种。接着，在基底上制作排气微通道，具体可采用普通光刻、磁控溅射、化学气相沉积、激光直接扫描刻蚀、机床加工等方式，排气微通道的材料包括铝合金、铜、二氧化硅、氮化硅、氧化铟锡中的一种或组合。

在一种可选的实施方式中，本发明实施例中的纳米压印模板1仅包括透气底板5，透气底板5为柔性底板，透气底板5的制作包括：提供一柔性基底，柔性基底选用透气性好的材料，柔性基底的材料可以为有机硅氧烷，在柔性基底上制作纳米量级的模具腔3，具体可采用纳米压印，辊压式压印、辊压式压印、气压式压印、抽真空压印中的一种或组合制作模具腔3，模具腔3的高深宽比的范围在1：4至1：10之间。

接着，将制作有排气微通道的密封腔体2与透气底板5进行贴合，具体地，将密封腔体2贴合在远离模具腔3一侧的柔性基底上，具体方法可以包括紫外线(UV)固化、等离子体表面处理、电晕处理等中的一种或几种。

在一种具体的实施方式中，密封腔体2可以是在玻璃上制作有二氧化硅排气微通道的密封腔体2，该密封腔体2直接辊压透气底板5，即可形成本发明实施例的纳米压印模具。在另一种具体的实施方式中，密封腔体2可以是在聚环烯烃聚合物或聚二甲基硅氧烷上采用激光刻蚀的方法制作有排气微通道的密封腔体2，然后气压透气底板5，并采用等离子体表面处理密封腔体2的表面，之后将密封腔体2和透气底板5贴合，即可形成本发明实施例的纳米压印模具。

当然，在实际应用中，本发明实施例也可以同时制作出密封腔体2和纳米压印模板1，而不需要分别制作后再贴合，具体地，基底的材料可以选择聚环烯烃共聚物，之后采用激光刻蚀的方法，在基底上刻蚀形成排气微通道以及纳米压印模板1的图形。

在另一种可选的实施方式中，本发明实施例中的纳米压印模板1包括透气底板5和与透气底板5紧密连接的透气膜层9；纳米压印模板1的制作包括：首先，制作透气底板5，接着，制作透气膜层9，当然，在实际制作过程中，也可以先制作透气膜层9，然后再制作透气底板5。之后，将透气底板5和/或透气膜层9经表面处理后贴合，表面处理方法包括：紫外线光照、臭氧处理、等离子体表面处理、光晕处理、表面涂层中的一种或组合。

具体实施时，透气底板5的制作包括：提供一柔性基底，柔性基底选用透气性好的材料，柔性基底的材料可以为硅酮、聚丙烯酸或聚丙烯酯类、聚氨脂类、水凝胶中的一种或组合，在柔性基底上制作纳米量级的模具腔3，具体可采用注塑、浇铸、溅镀、纳米压印、辊压式压印、气压式压印、抽真空中的一种或组合制作模具腔3。

具体实施时，透气膜层9的制作包括：由预聚体、固化剂、微纳米球共混后聚合，并经溶剂或试剂浸泡处理所获得。其中，预聚体包括硅酮系、丙烯酸酯类、聚氨酯类、水凝胶等体系中的一种或组合；固化剂包括酸、胺、凝胶剂中的一种或组合。微纳米球包括聚苯乙烯球、碳酸钙粉体、二氧化硅球、金属粉中的一种或组合。微纳米球的直径取值范围在50nm－500μm之间。处理溶剂或试剂为盐酸、硝酸、磷酸、冰醋酸、乙醇、丙酮、四氢呋喃、四氯乙烯中的一种或数种。最终，制备完成的透气膜层9的厚度为1mm－100mm之间。

接着，将密封腔体2贴合在透气膜层9的四周并与该透气膜层9紧密连接，最后，在透气膜层9远离透气底板5的一侧上设置密封层11，用于密封透气膜层9，使得模具腔3内的空气只能够进入到密封腔体2内，完成纳米压印模具的制备。

基于同一发明构思，在第二方面中，本发明实施例公开了一种纳米压印装置，包括：第一方面的纳米压印模具、压印腔室、涂覆机构，以及压印机构。涂覆机构用于向位于压印腔室内的基板的待制作膜层上涂覆压印胶；压印机构用于将纳米压印模具压印在压印胶上，以及将纳米压印模具从压印胶上脱模。

本发明的整个压印过程可以在纳米压印装置中的压印腔室内完成，无需其他额外处理或连接其他辅助设备。由于第二方面的纳米压印装置包括第一方面的纳米压印模具，其有益效果与第一方面的纳米压印模具的有益效果类似，都能够使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出，从而将图形转移、真空脱气整合起来，避免随机气泡的产生，减少制造时间、均匀地排出空气，因此不再重复赘述。

基于同一发明构思，在第三方面中，本发明实施例公开了一种采用第一方面的纳米压印模具进行纳米压印的方法，如图6所示，该方法包括：

S101：在基板的待制作膜层上涂覆压印胶。

S102：将纳米压印模板设置有模具腔的一侧压印在压印胶上，模具腔内的空气扩散进入密封腔体，并通过设置在密封腔体的侧壁上的抽真空孔排出。

S103：固化压印胶，并将纳米压印模板从压印胶上脱模。

由于第三方面的纳米压印方法是采用第一方面的纳米压印模具进行纳米压印，其有益效果与第一方面的纳米压印模具的有益效果类似，都能够使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出，从而将图形转移、真空脱气整合起来，避免随机气泡的产生，减少制造时间、均匀地排出空气，因此不再重复赘述。

以下通过两个具体的实施例详细描述采用第一方面的纳米压印模具进行纳米压印的方法。

在一个具体实施例中，如图7所示，在玻璃基板13上涂覆压印胶6，其中，涂覆的方法包括旋涂、喷涂、印刷、3D打印中的一种。然后，对涂覆有压印胶6的玻璃基板13在50度－120度下进行10分钟内的烘烤工艺处理。

随后，将本发明实施例第一方面提供的纳米压印模具与涂覆并烘烤后的玻璃基板13对齐，可以在本发明实施例第二方面提供的纳米压印装置中进行纳米压印。具体地，将纳米压印模板1设置有模具腔3的一侧压印在压印胶6上，模具腔3内的空气扩散进入密封腔体2，抽真空一段时间，空气通过设置在密封腔体的侧壁上的抽真空孔8排出，抽真空孔8的孔径可以为0.25毫米－10毫米，抽真空速度为0.01升/秒-1升/秒，抽真空时间为10秒－30分钟，压印时的压力为0.001帕-5帕，压印时间为0.5分钟-30分钟。

随后，固化压印胶6，具体方式包括热固化、紫外线或可见光固化，具体地，可以从玻璃基板13的下方照射紫外线，完成压印胶6的固化。

最后，如图8所示，采用气压或卷曲式方式将纳米压印模板从压印胶上脱模，在玻璃基板13上获得具有目标图案结构的微纳米结构，获得的微纳米结构可用于微流控芯片、基因测序、衍射光学器件、光栅、增强现实技术(AR)或虚拟现实技术(VR)等精密光学与精准医疗领域。

在另一个具体实施例中，如图9所示，在玻璃基板13上涂覆一导电层14，形成本发明实施例的导电玻璃基板15，并在导电层14上涂覆压印胶6，其中，涂覆的方法包括旋涂、喷涂、印刷、3D打印中的一种。然后，对涂覆有压印胶6的导电玻璃基板15在50度－120度下进行10分钟内的烘烤工艺处理。

随后，将本发明实施例第一方面提供的纳米压印模具与涂覆并烘烤后的导电玻璃基板15进行对齐，具体地，将纳米压印模板1设置有模具腔3的一侧压印在压印胶6上，模具腔3内的空气扩散进入密封腔体2，抽真空一段时间，空气通过设置在密封腔体的侧壁上的抽真空孔8排出，抽真空速度为0.01升/秒-1升/秒，抽真空时间为10秒－30分钟，压印时的压力为0.001帕-5帕，压印时间为0.5分钟-30分钟。

随后，固化压印胶6，具体方式包括热固化、紫外线或可见光固化，具体地，可以从玻璃基板13的下方照射紫外线，完成压印胶6的固化。

最后，如图10所示，采用气压或卷曲式方式将纳米压印模板从压印胶上脱模，在导电玻璃基板15上获得具有目标图案结构的微纳米结构，获得的微纳米结构可用于微流控芯片、基因测序、衍射光学器件、光栅、增强现实技术(AR)或虚拟现实技术(VR)等精密光学与精准医疗领域。

应用本发明实施例所获得的有益效果包括：

由于本发明实施例的纳米压印模板与密封腔体紧密相连，且纳米压印模板具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入密封腔体，因此，能够很好的避免模具腔内陷入空气，导致气泡缺陷的生成；且本发明实施例密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过抽真空孔排出，实际应用中，可以通过外部连接抽真空设备即可完成抽真空，即本发明实施例在抽真空时，采用首先空气扩散进行密封腔体，然后再对密封腔体进行抽真空的分级抽真空方式，与现有技术整体抽真空的方式相比，本发明实施例能够大大减少抽真空时长，减小工艺时间。

以上所述仅是本发明的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种纳米压印模具，其特征在于，包括：纳米压印模板，与所述纳米压印模板紧密连接的密封腔体；

所述纳米压印模板用于对压印胶进行压印，且具有透气性，使得在压印过程中，该纳米压印模板的模具腔内的空气扩散进入所述密封腔体；

所述密封腔体的侧壁设置抽真空孔，使得进入到该密封腔体内的空气通过所述抽真空孔排出；

所述纳米压印模板包括：透气底板和与所述透气底板紧密连接的透气膜层；所述透气底板远离所述透气膜层的一侧设置有模具腔；所述透气膜层与所述密封腔体紧密连接；

所述密封腔体设置在所述透气膜层远离所述透气底板的一侧，或者，所述密封腔体设置在所述透气膜层的四周；

所述纳米压印模板还包括密封层，其中：

当所述密封腔体设置在所述透气膜层远离所述透气底板的一侧时，所述密封层设置在所述透气膜层的四周；

当所述密封腔体设置在所述透气膜层的四周时，所述密封层设置在所述透气膜层远离所述透气底板的一侧。

2.如权利要求1所述的纳米压印模具，其特征在于，所述密封腔体的内侧壁具有排气微通道，所述排气微通道与所述抽真空孔连接，用于提供空气的流动通道。

3.如权利要求1所述的纳米压印模具，其特征在于，所述透气底板为柔性底板，材料包括硅酮、聚二甲基硅氧烷、聚丙烯酸、聚丙烯酯类、聚氨酯类、水凝胶中一种或组合物。

4.如权利要求1所述的纳米压印模具，其特征在于，所述模具腔的高深宽比的范围在1：4至1：10之间。

5.如权利要求1所述的纳米压印模具，其特征在于，所述密封腔体的材料包括不锈钢、铜、铝合金、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯中的一种或组合物。

6.一种纳米压印装置，其特征在于，包括：如权利要求1-5任一项所述的纳米压印模具；以及

压印腔室；

涂覆机构，用于向位于所述压印腔室内的基板的待制作膜层上涂覆压印胶；

压印机构，用于将所述纳米压印模具压印在所述压印胶上，以及将所述纳米压印模具从所述压印胶上脱模。

7.一种采用权利要求1-5任一项所述的纳米压印模具进行纳米压印的方法，其特征在于，包括：

在基板的待制作膜层上涂覆压印胶；

将纳米压印模板设置有模具腔的一侧压印在所述压印胶上，所述模具腔内的空气扩散进入密封腔体，并通过设置在所述密封腔体的侧壁上的抽真空孔排出；

固化所述压印胶，并将所述纳米压印模板从所述压印胶上脱模。

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