CN110207842A - 亚像素级边缘效应的修正方法及终端设备 - Google Patents
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Abstract
本发明适用于微电子器件温度检测技术领域，提供了一种亚像素级边缘效应的修正方法及终端设备，该方法包括：通过获取不同材料构成的被测件的多张图像，当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，从而可以通过图像处理的方式使得X、Y两个方向的亚像素级位置变化引起的边缘效应得到修正，从而使被测件位置变化造成高温误差和低温误差得到了修正，可以提高的热反射测温准确度。
Description
技术领域
本发明属于微电子器件温度检测技术领域，尤其涉及一种亚像素级边缘效应的修正方法及终端设备。
背景技术
当可见光照射在某种材料表面时，材料对可见光的反射率随材料温度变化而变化。材料对可见光的反射率变化量与材料表面的温度变化量呈线性关系，如公式其中，所述ΔR为反射率变化量；Raverage为反射率的均值；ΔT为被测材料温度变化量，单位为K；CTR为热反射率校准系数，单位为K-1。由此可见，CTR不同时即使测得相同的反射率变化量ΔR，计算得到的ΔT也必然不同。
一般热反射成像测温装置采用科研级CCD相机作为探测器，CCD相机是由很多成像单元组成的阵列式探测器。对于阵列式探测器的热反射成像测温装置会由于热膨胀、振动等原因造成该成像单元对应的材料及CTR发生变化，热膨胀或振动引起的被测件表面不同材料交界处出现的异常结果一般称为边缘效应，然而现有技术并未给出如何修正边缘效应的方法，导致对被测件的测温结果造成很大影响。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种亚像素级边缘效应的修正方法及终端设备，以解决现有技术中被测件的测温结果准确度较低的问题。
本发明实施例的第一方面提供了一种亚像素级边缘效应的修正方法，包括：
获取不同材料构成的被测件的多张图像；所述多张图像为给所述被测件施加固定光强时热反射成像测温装置上的探测器拍摄的所述被测件的图像；
当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，其中，预设距离为小于一个像素点的长度的距离。
在一实施例中，所述获取不同材料构成的被测件的多张图像，包括：
获取不同材料构成的被测件的第一张图像，并将所述第一张图像作为参考图像；
继续获取所述被测件的多张后续图像，并将所述后续图像作为对比图像。
在一实施例中，所述预设线段为预设直线段，所述预设直线段与图像上不同材料的边界线相交。
在一实施例中，在所述获取不同材料构成的被测件的多张图像之后，还包括：
提取所述参考图像上所述预设直线段上的各个像素点；以及提取所述对比图像上所述预设直线段上的各个像素点。
在一实施例中，所述当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，包括：
当所述参考图像上所述预设直线段上的第一像素点的读数与所述对比图像上所述预设直线段上相同位置的第二像素点的读数不同时，确定所述被测件相对于所述探测器的移动方向；
根据所述被测件相对于所述探测器的移动方向，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向反方向移动预设距离；
其中，所述第二像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点。
在一实施例中，所述预设距离根据L＝Kl确定，其中，所述L表示所述预设距离，所述K表示调节系数，且0<K<1，所述l表示一个像素点的距离。
在一实施例中，在所述当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动之后，还包括：
获取所述纳米位移台位置移动后所述被测件的新对比图像，并提取所述新对比图像上所述预设直线段上第三像素点的读数，所述第三像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点；
当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数]或者[第二像素点的读数，第一像素点读数]范围内时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相同的方向移动；
当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数]或者[第二像素点的读数，第一像素点读数]范围之外时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相反的方向移动。
在一实施例中，所述直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数的误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，包括：
当所述第三像素点的读数与所述第一像素点的读数的差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正。
本发明实施例的第二方面提供了一种亚像素级边缘效应的修正装置，包括：
获取模块，用于获取不同材料构成的被测件的多张图像；所述多张图像为给所述被测件施加固定光强时热反射成像测温装置上的探测器拍摄的所述被测件的图像；
处理模块，用于当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，其中，预设距离为小于一个像素点的长度的距离。
本发明实施例的第三方面提供了一种终端设备，包括：存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现如亚像素级边缘效应的修正方法所述的步骤
本发明实施例获取不同材料构成的被测件的多张图像，当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，从而可以通过图像处理的方式使得X、Y两个方向的亚像素级位置变化引起的边缘效应得到修正，从而使被测件位置变化造成高温误差和低温误差得到了修正，可以提高的热反射测温准确度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的亚像素级边缘效应的修正方法的实现流程示意图；
图2是本发明实施例提供的热反射成像测温装置的示意图；
图3是本发明实施例提供的预设线段示意图；
图4是本发明实施例提供的参考图像的像素点读数示意图；
图5是本发明实施例提供的对比图像的像素点读数示意图；
图6是本发明实施例提供的亚像素级边缘效应的修正装置的示例图；
图7是本发明另一实施例提供的亚像素级边缘效应的修正装置的示意图；
图8是本发明实施例提供的终端设备的示意图。
具体实施方式
以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本发明实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本发明。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本发明的描述。
为了说明本发明所述的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。
图1为本发明实施例提供的一种亚像素级边缘效应的修正方法的实现流程示意图，详述如下。
步骤101，获取不同材料构成的被测件的多张图像。
其中，所述多张图像为给所述被测件施加固定光强时热反射成像测温装置上的探测器拍摄的所述被测件的图像。
可选的，所述被测件是由不同材料构成，获得的多张图像为所有材料的被测件对应的多张图像，即每张图像上的被测件都是多种材料。
可选的，如图2所示热反射成像测温装置，将不同材料构成的被测件稳定安放在纳米位移台承载的高精度控温组件上，给被测件施加固定的光强，并采用CCD相机作为探测器为被测件拍摄图像。
可选的，在测试开始时，获取不同材料构成的被测件的第一张图像，并将所述第一张图像作为参考图像；然后继续获取所述被测件的多张后续图像，并将所述后续图像作为对比图像。
可选的，所述预设线段为预设直线段，所述预设直线段与图像上不同材料的边界线相交，如图3所示的预设线段示意图，虚线表示构成被测件的材料A和材料B的交界线，材料A斜线框表示，材料B用空白框表示，直线段表示预设线段。预设线段左右两边的材料不同，则其反射率也不同，所以在给定的光强下，预设线段上对应于不同材料的像素点的值必然不同。
在获取不同材料构成的被测件的多张图像之后，可以依次提取各对比图像上预设直线段上的各个像素点。可选的，提取所述参考图像上所述预设直线段上的各个像素点；以及提取所述对比图像上所述预设直线段上的各个像素点，以便通过像素点的读数判断被测件和热反射成像测温装置上设置的探测器的相对位置是否发生变化，从而来确定被测件的热反射成像测温是否发生边缘效应。如图4所示的参考图像上预设直线段上各像素点的读数，用柱状图表示预设直线段上各个像素点的读数，横坐标表示像素点，纵坐标表示探测器的读数，可选的，探测器的读数可以为像素点的灰度值，还可以为像素点的颜色索引值，本申请不对读数进行限定，只要对参考图像和对比图像上预设直线段的像素点采用同一种方式读数即可。
步骤102，当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数的误差值小于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，其中，预设距离为小于一个像素点的长度的距离。
可选的，步骤102可以包括：
当所述参考图像上所述预设直线段上的第一像素点的读数与所述对比图像上所述预设直线段上相同位置的第二像素点的读数不同时，确定所述被测件相对于所述探测器的移动方向；根据所述被测件相对于所述探测器的移动方向，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向反方向移动预设距离；
其中，所述第二像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点。
可选的，上述第一像素点与第二像素点仅仅是为了描述方便对任一像素点的命名，并不与附图4和附图5中像素点1和像素点2相对应。
可选的，如图5所示，第9个像素点的读数由1000变为800，则表明被测件相对于所述探测器的移动方向为左侧移动，则需要控制纳米位移台向右移动预设距离，预设距离可以根据L＝Kl确定，其中，所述L表示所述预设距离，所述K表示调节系数，且0<K<1，例如，K的初始值可以设定为0.5，所述l表示一个像素点的距离。
可选的，第9个像素点的读数由1000变为1200，则表明被测件相对于所述探测器的移动方向为右侧移动，则需要控制纳米位移台向左移动预设距离。
可选的，继续获取所述纳米位移台位置移动后所述被测件的新对比图像，并提取所述新对比图像上所述预设直线段上第三像素点的读数，所述第三像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点；
当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数)或者(第二像素点的读数，第一像素点读数]范围内时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相同的方向移动；
当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数)或者)第二像素点的读数，第一像素点读数]范围之外时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相反的方向移动。
可选的，当移动纳米位移台向被测件位置变化时，获取预设线段上各像素点的相机读数，观察分界点处各像素点的读数的变化，如果趋近于参考图像上第一像素点的读数，则仍以较小的k向同一方向移动；如果远离参考图像上第一像素点的读数，则以较小的k向反方向移动。
根据第三像素点的读数的变化，经过反复迭代后，当所述第三像素点的读数与所述第一像素点的读数的差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正。
上述像素级边缘效应的修正方法，通过获取不同材料构成的被测件的多张图像，当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，从而可以通过图像处理的方式使得X、Y两个方向的亚像素级位置变化引起的边缘效应得到修正，从而使被测件位置变化造成高温误差和低温误差得到了修正，可以提高的热反射测温准确度。
应理解，上述实施例中各步骤的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。
对应于上文实施例所述的亚像素级边缘效应的修正方法，图6示出了本发明实施例提供的亚像素级边缘效应的修正装置的示例图。如图6所示，该装置可以包括：获取模块601和处理模块602。
获取模块601，用于获取不同材料构成的被测件的多张图像；所述多张图像为给所述被测件施加固定光强时热反射成像测温装置上的探测器拍摄的所述被测件的图像；
处理模块602，用于当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，其中，预设距离为小于一个像素点的长度的距离。
可选的，所述获取模块601，可以用于获取不同材料构成的被测件的第一张图像，并将所述第一张图像作为参考图像；继续获取所述被测件的多张后续图像，并将所述后续图像作为对比图像。
可选的，所述预设线段为预设直线段，所述预设直线段与图像上不同材料的边界线相交。
可选的，如图7所示，在所述获取模块601获取不同材料构成的被测件的多张图像之后，所述亚像素级边缘效应的修正装置，还可以包括：提取模块603。
所述提取模块603，用于提取所述参考图像上所述预设直线段上的各个像素点；以及提取所述对比图像上所述预设直线段上的各个像素点。
可选的，所述处理模块602，可以用于当所述参考图像上所述预设直线段上的第一像素点的读数与所述对比图像上所述预设直线段上相同位置的第二像素点的读数不同时，确定所述被测件相对于所述探测器的移动方向；根据所述被测件相对于所述探测器的移动方向，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向反方向移动预设距离；其中，所述第二像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点。
可选的，所述预设距离根据L＝Kl确定，其中，所述L表示所述预设距离，所述K表示调节系数，且0<K<1，所述l表示一个像素点的距离。
所述获取模块601，还可以用于获取所述纳米位移台位置移动后所述被测件的新对比图像，并由所述提取模块603提取所述新对比图像上所述预设直线段上第三像素点的读数，所述第三像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点；
所述处理模块602，还可以用于当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数]或者[第二像素点的读数，第一像素点读数]范围内时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相同的方向移动；以及当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数]或者[第二像素点的读数，第一像素点读数]范围之外时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相反的方向移动。
可选的，所述处理模块602，可以用于：当所述第三像素点的读数与所述第一像素点的读数的差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正。
上述像素级边缘效应的修正装置，通过获取模块获取不同材料构成的被测件的多张图像，当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，处理模块控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，从而可以通过图像处理的方式使得X、Y两个方向的亚像素级位置变化引起的边缘效应得到修正，从而使被测件位置变化造成高温误差和低温误差得到了修正，可以提高的热反射测温准确度
图8是本发明一实施例提供的终端设备的示意图。如图8所示，该实施例的终端设备800包括：处理器801、存储器802以及存储在所述存储器802中并可在所述处理器801上运行的计算机程序803，例如亚像素级边缘效应的修正程序。所述处理器801执行所述计算机程序803时实现上述亚像素级边缘效应的修正方法实施例中的步骤，例如图1所示的步骤101至102，所述处理器801执行所述计算机程序803时实现上述各装置实施例中各模块的功能，例如图6所示模块601至602的功能。
示例性的，所述计算机程序803可以被分割成一个或多个程序模块，所述一个或者多个程序模块被存储在所述存储器802中，并由所述处理器801执行，以完成本发明。所述一个或多个程序模块可以是能够完成特定功能的一系列计算机程序指令段，该指令段用于描述所述计算机程序803在所述亚像素级边缘效应的修正装置或者终端设备800中的执行过程。例如，所述计算机程序803可以被分割成获取模块601和处理模块602，各模块具体功能如图6所示，在此不再一一赘述。
所述终端设备800可以是桌上型计算机、笔记本、掌上电脑及云端服务器等计算设备。所述终端设备可包括，但不仅限于，处理器801、存储器802。本领域技术人员可以理解，图8仅仅是终端设备800的示例，并不构成对终端设备800的限定，可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件，例如所述终端设备还可以包括输入输出设备、网络接入设备、总线等。
所称处理器801可以是中央处理单元(Central Processing Unit，CPU)，还可以是其他通用处理器、数字信号处理器(Digital Signal Processor，DSP)、专用集成电路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)、现成可编程门阵列(Field-Programmable Gate Array，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件等。通用处理器可以是微处理器或者该处理器也可以是任何常规的处理器等。
所述存储器802可以是所述终端设备800的内部存储单元，例如终端设备800的硬盘或内存。所述存储器802也可以是所述终端设备800的外部存储设备，例如所述终端设备800上配备的插接式硬盘，智能存储卡(Smart Media Card,SMC)，安全数字(SecureDigital,SD)卡，闪存卡(Flash Card)等。进一步地，所述存储器802还可以既包括所述终端设备800的内部存储单元也包括外部存储设备。所述存储器802用于存储所述计算机程序以及所述终端设备800所需的其他程序和数据。所述存储器802还可以用于暂时地存储已经输出或者将要输出的数据。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，仅以上述各功能单元、模块的划分进行举例说明，实际应用中，可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能单元、模块完成，即将所述装置的内部结构划分成不同的功能单元或模块，以完成以上描述的全部或者部分功能。实施例中的各功能单元、模块可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中，上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。另外，各功能单元、模块的具体名称也只是为了便于相互区分，并不用于限制本申请的保护范围。上述系统中单元、模块的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述或记载的部分，可以参见其它实施例的相关描述。
本领域普通技术人员可以意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、或者计算机软件和电子硬件的结合来实现。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本发明的范围。
在本发明所提供的实施例中，应该理解到，所揭露的装置/终端设备和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置/终端设备实施例仅仅是示意性的，例如，所述模块或单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通讯连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通讯连接，可以是电性，机械或其它的形式。
所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外，在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。
所述集成的模块/单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本发明实现上述实施例方法中的全部或部分流程，也可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，所述的计算机程序可存储于一计算机可读存储介质中，该计算机程序在被处理器执行时，可实现上述各个方法实施例的步骤。。其中，所述计算机程序包括计算机程序代码，所述计算机程序代码可以为源代码形式、对象代码形式、可执行文件或某些中间形式等。所述计算机可读介质可以包括：能够携带所述计算机程序代码的任何实体或装置、记录介质、U盘、移动硬盘、磁碟、光盘、计算机存储器、只读存储器(ROM，Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、电载波信号、电信信号以及软件分发介质等。需要说明的是，所述计算机可读介质包含的内容可以根据司法管辖区内立法和专利实践的要求进行适当的增减，例如在某些司法管辖区，根据立法和专利实践，计算机可读介质不包括电载波信号和电信信号。
以上所述实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，包括：
获取不同材料构成的被测件的多张图像；所述多张图像为给所述被测件施加固定光强时热反射成像测温装置上的探测器拍摄的所述被测件的图像；
当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，其中，预设距离为小于一个像素点的长度的距离。
2.如权利要求1所述的亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，所述获取不同材料构成的被测件的多张图像，包括：
获取不同材料构成的被测件的第一张图像，并将所述第一张图像作为参考图像；
继续获取所述被测件的多张后续图像，并将所述后续图像作为对比图像。
3.如权利要求2所述的亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，所述预设线段为预设直线段，所述预设直线段与图像上不同材料的边界线相交。
4.如权利要求3所述的亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，在所述获取不同材料构成的被测件的多张图像之后，还包括：
提取所述参考图像上所述预设直线段上的各个像素点；以及提取所述对比图像上所述预设直线段上的各个像素点。
5.如权利要求4所述的亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，所述当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，包括：
当所述参考图像上所述预设直线段上的第一像素点的读数与所述对比图像上所述预设直线段上相同位置的第二像素点的读数不同时，确定所述被测件相对于所述探测器的移动方向；
根据所述被测件相对于所述探测器的移动方向，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向反方向移动预设距离；
其中，所述第二像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点。
6.如权利要求5所述的亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，所述预设距离根据L＝Kl确定，其中，所述L表示所述预设距离，所述K表示调节系数，且0<K<1，所述l表示一个像素点的距离。
7.如权利要求6所述的亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，在所述当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动之后，还包括：
获取所述纳米位移台位置移动后所述被测件的新对比图像，并提取所述新对比图像上所述预设直线段上第三像素点的读数，所述第三像素点为与所述第一像素点位置相同的像素点；
当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数]或者[第二像素点的读数，第一像素点读数]范围内时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相同的方向移动；
当所述第三像素点的读数在[第一像素点读数，第二像素点的读数]或者[第二像素点的读数，第一像素点读数]范围之外时，继续控制热反射成像测温装置上的纳米位移台继续向相反的方向移动。
8.如权利要求7所述的亚像素级边缘效应的修正方法，其特征在于，所述直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数的误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，包括：
当所述第三像素点的读数与所述第一像素点的读数的差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正。
9.一种亚像素级边缘效应的修正装置，其特征在于，包括：
获取模块，用于获取不同材料构成的被测件的多张图像；所述多张图像为给所述被测件施加固定光强时热反射成像测温装置上的探测器拍摄的所述被测件的图像；
处理模块，用于当不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数不同时，控制热反射成像测温装置上的纳米位移台向像素点移动方向的反方向以预设距离移动，直到不同图像上预设线段上相同位置的像素点读数误差值小于或等于预设误差阈值时，确定完成亚像素级边缘效应的修正，其中，预设距离为小于一个像素点的长度的距离。
10.一种终端设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至8任一项所述方法的步骤。
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