CN110137116A - 清洗槽 - Google Patents

清洗槽 Download PDF

Info

Publication number
CN110137116A
CN110137116A CN201910479258.7A CN201910479258A CN110137116A CN 110137116 A CN110137116 A CN 110137116A CN 201910479258 A CN201910479258 A CN 201910479258A CN 110137116 A CN110137116 A CN 110137116A
Authority
CN
China
Prior art keywords
water resistance
resistance rate
rate detection
detection device
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910479258.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110137116B (zh
Inventor
赵宝君
张伟锋
夏楠君
祝福生
范文斌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Semiconductor Equipment Institute
Original Assignee
Beijing Semiconductor Equipment Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Semiconductor Equipment Institute filed Critical Beijing Semiconductor Equipment Institute
Priority to CN201910479258.7A priority Critical patent/CN110137116B/zh
Publication of CN110137116A publication Critical patent/CN110137116A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110137116B publication Critical patent/CN110137116B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking

Abstract

本发明提供了一种清洗槽，涉及半导体晶圆加工的晶圆清洗技术领域。清洗槽包括槽体和水阻率检测装置；槽体的侧壁上设有出水孔，水阻率检测装置设置在出水孔；槽体的至少其中一侧的侧壁的上沿形成溢流口；水阻率检测装置包括进水口和出水口，水阻率检测装置的进水口与槽体的出水孔连通；水阻率检测装置的出水口低于槽体的溢流口，且水阻率检测装置的出水口高于水阻率检测装置的进水口。解决了现有技术中，水阻率检测装置对清洗槽内的水质的水阻率检测达不到准确度要求的技术问题。本发明的水阻率检测装置的出水口低于槽体的溢流口，能够保证对清洗槽内水质的水阻率的准确检测。

Description

清洗槽
技术领域
本发明涉及半导体晶圆加工的晶圆清洗技术领域，尤其是涉及一种清洗槽。
背景技术
随着半导体工业的发展，器件工艺技术的关键尺寸不断缩小，而晶圆是制造半导体芯片的基本材料，由此在半导体的加工工艺中对晶体的洁净度有了很高的要求。
目前对于晶圆的湿法清洗可分为多槽式、旋转冲洗甩干式及单片腐蚀清洗式三种方式，其中，多槽式清洗式以其高效的工作方式，以及近年来湿化学设备的不断升级改进，多槽式清洗在湿法清洗中仍具有重要地位。
超纯水清洗是湿法清洗中使用最为普遍的工艺步骤，对超纯水的纯净度具有很高的要求。超纯水清洗通过QDR工艺槽(快排冲洗槽)实现，清洗过程中槽体内部超纯水一直处于溢流状态，因此，随着清洗过程的进行，QDR工艺槽内超纯水的水质是不断变化的，而现有的对超纯水的水质检测的水阻率检测装置对工艺槽内的水质的水阻率的检测不准确，无法达到对水阻率检测的准确度的要求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种清洗槽，以解决现有技术中存在的，水阻率检测装置对清洗槽内的水质的水阻率检测的准确度无法达到要求的技术问题。
本发明提供的一种清洗槽，包括槽体和水阻率检测装置；
所述槽体的侧壁上设有出水孔，所述水阻率检测装置设置在所述出水孔；所述槽体的至少其中一侧的侧壁的上沿形成溢流口；
所述水阻率检测装置包括进水口和出水口，所述水阻率检测装置的进水口与所述槽体的出水孔连通；所述水阻率检测装置的出水口低于槽体的溢流口，且所述水阻率检测装置的出水口高于所述水阻率检测装置的进水口。
进一步的，所述水阻率检测装置包括弯折管、连通管、三通接头和水阻率检测探头；所述三通接头包括第一接口、第二接口和第三接口；所述第一接口和第二接口相对设置，所述第三接口高于所述第一接口和第二接口的高度；
所述弯折管的一端与清洗槽的出水孔连接，所述弯折管的另一端与三通接头的第一接口连接并连通，所述三通接头的第二接口与水阻率检测探头连接；所述三通接头的第三接口为水阻率检测装置的出水口。
进一步的，所述三通接头的第三接口沿竖直方向向上开口设置。
进一步的，所述三通接头的第二接口与水阻率检测探头螺纹连接。
进一步的，所述水阻率检测装置还包括探头保护接头和直接头；
所述探头保护接头连接在水阻率检测探头与直接头之间。
进一步的，所述弯折管与清洗槽的出水孔熔焊连接。
进一步的，所述弯折管与连通管熔焊连接。
进一步的，所述三通接头的第一接口与连通管熔焊连接；所述三通接头的第二接口与水阻率检测探头熔焊连接。
进一步的，所述水阻率检测探头与探头保护接头之间螺纹连接，且所述水阻率检测探头及探头保护接头的外侧均设有保护套。
进一步的，所述探头保护接头与直接头之间螺纹连接。
本发明提供的清洗槽，所述槽体的侧壁上设有出水孔，所述槽体的至少其中一侧的侧壁上沿形成溢流口；所述水阻率检测装置的进水口与槽体的出水孔连通，所述水阻率检测装置的出水口低于槽体的溢流口，且所述水阻率检测装置的出水口高于所述水阻率检测装置的进水口，当超纯水完全充满水阻率检测装置通过水阻率检测装置的出水口溢流，且由于水阻率检测装置的出水口低于清洗槽的溢流口，从而使得水阻率检测装置与清洗槽构成一个连通器结构，且水阻率检测装置的水质的流动方向与清洗槽内的水质流动方向一致，实现水阻率检测装置的待检测水质与清洗槽内部水质完全相同，实现检测过程的实时性和检测结果的准确性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的清洗槽的水阻率检测装置与槽体安装后的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的清洗槽的水阻率检测装置的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的清洗槽的水阻率检测装置的剖视图；
图4为图3中A部分的局部放大图。
图标：100-槽体；200-水阻率检测装置；101-出水孔；102-溢流口；201-进水口；202-出水口；203-弯折管；204-连通管；205-三通接头；206-水阻率检测探头；207-探头保护接头；208-直接头；209-第一接口；210-第二接口；211-第三接口。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明提供了一种清洗槽，包括槽体100和水阻率检测装置200；所述槽体100的侧壁上设有出水孔101，所述水阻率检测装置200设置在所述出水孔101；所述槽体100的至少其中一侧的侧壁的上沿形成溢流口102；所述水阻率检测装置200包括进水口201和出水口202，所述水阻率检测装置200的进水口201与所述槽体100的出水孔101连通；所述水阻率检测装置200的出水口202低于槽体100的溢流口102，且所述水阻率检测装置200的出水口202高于所述水阻率检测装置200的进水口201。
如图1所示，所述槽体100的侧壁上设有出水孔101，所述槽体100的上端设有溢流口102，所述水阻率检测装置200的进水口201与槽体100的出水孔101连通，所述水阻率检测装置200的出水口202低于槽体100的溢流口102，水阻率检测装置200的出水口202高于水阻率检测装置200的进水口201；现有技术中的清洗槽内的超纯水从清洗槽的底部进水之后通过清洗槽上沿的溢流口102流到其他设备中，其中水阻率检测装置200连接在清洗槽内部，随着清洗过程的进行，清洗槽内的水质是不断变化的，使得水阻率检测装置200检测到的清洗槽内的超纯水的水阻率是不准确的；而本申请中超纯水从槽体100的出水孔101流出，之后经水阻率检测装置200的进水口201流入到水阻率检测装置200内部，当超纯水完全充满水阻率检测装置200后通过水阻率检测装置200的出水口202溢流，通过槽体100的溢流口102及水阻率检测装置200的出水口202流入到其他设备内，使得水阻率检测装置200与清洗槽构成一个连通器结构，且水阻率检测装置200的待检测水质与清洗槽内部水质完全相同，使得检测过程中的待检测水质的实时性和检测结果的准确性。
需要说明的是，所述水阻率检测装置200安装在槽体100上的位置需高于清洗槽内所放置的待清洗零件的最高点，使得水阻率检测装置200所检测的水质能够与清洗槽内部水质完全相同，提高对待检测水质的检测结果的准确性。
进一步地，所述水阻率检测装置200包括弯折管203、连通管204、三通接头205和水阻率检测探头206；所述三通接头205包括第一接口209、第二接口210和第三接口211；所述第一接口209和第二接口210相对设置，所述第三接口211高于所述第一接口209和第二接口210的高度；所述弯折管203的一端与清洗槽的出水孔101连接，所述弯折管203的另一端与三通接头205的第一接口209连接并连通，所述三通接头205的第二接口210与水阻率检测探头206连接；所述三通接头205的第三接口211为水阻率检测装置200的出水口202。
如图2和图3所示，所述弯折管203的左端与槽体100的出水孔101连接，所述弯折管203的右端与三通接头205的左端即第一接口209通过连通管204连接并连通，所述三通接头205的右端即第二接口210与水阻率检测探头206连接；所述三通接头205的上端即第三接口211作为水阻率检测装置200的出水口202，所述出水口202的高度高于三通接头205的进水口201，如图2和图3所示，所述水阻率检测装置200水平设置，所述出水口202的高度高于水阻率检测装置200的中心线也高于水阻率检测装置200的进水口201，从槽体100流出的待检测超纯水通过出水孔101进入水阻率检测装置200的弯折管203的左端的进水口201，待检测的超纯水通过弯折管203流经安装在三通接头205右侧的水阻率检测探头206，待检测超纯水完全充满水阻率检测探头206后通过三通接头205的出水口202，三通接头205的出水口202低于槽体100的溢流口102，整个水阻率检测装置200与槽体100之间构成一个连通器结构，从而实现水阻率检测装置200的待检测水质与槽体100内部水质完全相同，实现检测过程的实时性和检测结果的准确性。
进一步地，所述三通接头205的第三接口211沿竖直方向向上开口设置。
具体地，所述三通接头205的第三接口211沿竖直方向向上开口设置，三通接头205的出水口202沿竖直方向向上设置时，三通接头205的出水口202与水阻率检测装置200的水平中心线之间的距离相差最大，能够使得水阻率检测装置200的出水口202处的待检测水质与槽体100的溢流口102溢流出的水质更加相同，使得检测结果更加准确。
进一步地，所述三通接头205的第二接口210与水阻率检测探头206螺纹连接。
如图4所示，所述三通接头205的第二接口210与水阻率检测探头206采用螺纹连接，所述三通接头205的右端内部设有内螺纹，所述水阻率检测探头206的左端设有外螺纹，通过内螺纹与外螺纹的连接，使得三通接头205的第二接口210与水阻率检测探头206螺纹连接；采用螺纹连接，结构简单，拆卸及安装方便，连接稳定性强。
进一步地，所述水阻率检测装置200还包括探头保护接头207和直接头208；所述探头保护接头207连接在水阻率检测探头206与直接头208之间。
如图2和图3所示，所述探头保护接头207连接在水阻率检测探头206的右端与直接头208之间，实现对水阻率检测探头206的保护，保证水阻率检测装置200结构的完整性。
进一步地，所述弯折管203与清洗槽的出水孔101熔焊连接。
具体地，所述弯折管203的左端与槽体100的出水孔101，所述弯折管203的材料为塑料；采用弯折管203的材料本身的性质，通过熔焊，使得弯折管203与出水孔101直接的连接更加紧凑，保证良好的密封性，避免出现超纯水泄露的现象。
进一步地，所述弯折管203与连通管204熔焊连接。
具体地，所述弯折管203与连通管204之间采用熔焊连接，实现弯折管203与连通管204之间的稳定连接，对弯折管203及连通管204起到一定的保护作用，延长弯折管203及连通管204的使用寿命，同时避免超纯水的泄露。
进一步地，所述三通接头205的第一接口209与连通管204熔焊连接；所述三通接头205的第二接口210与水阻率检测探头206熔焊连接。
具体地，所述三通接头205的第一接口209与连通管204采用熔焊连接；三通接头205的第二接口210与水阻率检测探头206采用熔焊连接，其中三通接头205、连通管204及水阻率检测探头206均为塑料材质，采用塑料本身的性质，使用熔焊连接，保证三通接头205与连通管204及三通接头205与水阻率检测探头206之间的连接稳定性，保证良好的密封性。
进一步地，所述水阻率检测探头206与探头保护接头207之间螺纹连接，且所述水阻率检测探头206及探头保护接头207外侧均设有保护套。
如图4所示，所述水阻率检测探头206与探头保护接头207之间螺纹连接，采用螺纹连接，结构稳定性强，安装及拆卸方便。设置在水阻率检测探头206及探头保护接头207外侧的保护套能够对水阻率检测装置200内部的线路进行保护，避免出现超纯水渗入水阻率检测装置200内部的情况。
进一步地，所述探头保护接头207与直接头208之间螺纹连接。
如图4所示，所述探头保护接头207与直接头208之间采用螺纹连接，采用螺纹连接，结构稳定性强，安装及拆卸方便。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种清洗槽，其特征在于，包括槽体和水阻率检测装置；
所述槽体的侧壁上设有出水孔，所述水阻率检测装置设置在所述出水孔；所述槽体的至少其中一侧的侧壁的上沿形成溢流口；
所述水阻率检测装置包括进水口和出水口，所述水阻率检测装置的进水口与所述槽体的出水孔连通；所述水阻率检测装置的出水口低于槽体的溢流口，且所述水阻率检测装置的出水口高于所述水阻率检测装置的进水口。
2.根据权利要求1所述的清洗槽，其特征在于，所述水阻率检测装置包括弯折管、连通管、三通接头和水阻率检测探头；所述三通接头包括第一接口、第二接口和第三接口；所述第一接口和第二接口相对设置，所述第三接口高于所述第一接口和第二接口的高度；
所述弯折管的一端与清洗槽的出水孔连接，所述弯折管的另一端与三通接头的第一接口连接并连通，所述三通接头的第二接口与水阻率检测探头连接；所述三通接头的第三接口为水阻率检测装置的出水口。
3.根据权利要求2所述的清洗槽，其特征在于，所述三通接头的第三接口沿竖直方向向上开口设置。
4.根据权利要求2所述的清洗槽，其特征在于，所述三通接头的第二接口与水阻率检测探头螺纹连接。
5.根据权利要求2所述的清洗槽，其特征在于，所述水阻率检测装置还包括探头保护接头和直接头；
所述探头保护接头连接在水阻率检测探头与直接头之间。
6.根据权利要求2所述的清洗槽，其特征在于，所述弯折管与槽体的出水孔熔焊连接。
7.根据权利要求2所述的清洗槽，其特征在于，所述弯折管与连通管熔焊连接。
8.根据权利要求2所述的清洗槽，其特征在于，所述三通接头的第一接口与连通管熔焊连接；所述三通接头的第二接口与水阻率检测探头熔焊连接。
9.根据权利要求5所述的清洗槽，其特征在于，所述水阻率检测探头与探头保护接头之间螺纹连接，且所述水阻率检测探头及探头保护接头的外侧均设有保护套。
10.根据权利要求5所述的清洗槽，其特征在于，所述探头保护接头与直接头之间螺纹连接。
CN201910479258.7A 2019-06-03 2019-06-03 清洗槽 Active CN110137116B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910479258.7A CN110137116B (zh) 2019-06-03 2019-06-03 清洗槽

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910479258.7A CN110137116B (zh) 2019-06-03 2019-06-03 清洗槽

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110137116A true CN110137116A (zh) 2019-08-16
CN110137116B CN110137116B (zh) 2021-04-06

Family

ID=67579926

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910479258.7A Active CN110137116B (zh) 2019-06-03 2019-06-03 清洗槽

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110137116B (zh)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0845888A (ja) * 1994-07-29 1996-02-16 Mitsumi Electric Co Ltd 純水洗浄装置
CN202649314U (zh) * 2012-06-21 2013-01-02 河南义鑫威新能源科技有限公司 便携式超纯水电阻率测试用管路对接装置
KR101287626B1 (ko) * 2012-03-20 2013-07-23 주식회사 엔케이 선박용 밸러스트수의 샘플링 검사장치
CN207215809U (zh) * 2017-10-16 2018-04-10 厦门海洋职业技术学院 一种新型水质在线监测仪配套的流通池
CN207792862U (zh) * 2017-12-29 2018-08-31 付贺鹏 水质监测装置及污水处理系统
CN207966925U (zh) * 2018-03-30 2018-10-12 上海思恩装备科技有限公司 一种半导体器件的清洗装置
CN108878321A (zh) * 2018-06-25 2018-11-23 扬州思普尔科技有限公司 一种半导体晶圆清洗用节能快排冲水槽
CN208802938U (zh) * 2018-09-20 2019-04-30 常熟市滨江化工有限公司 一种工业水处理装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0845888A (ja) * 1994-07-29 1996-02-16 Mitsumi Electric Co Ltd 純水洗浄装置
KR101287626B1 (ko) * 2012-03-20 2013-07-23 주식회사 엔케이 선박용 밸러스트수의 샘플링 검사장치
CN202649314U (zh) * 2012-06-21 2013-01-02 河南义鑫威新能源科技有限公司 便携式超纯水电阻率测试用管路对接装置
CN207215809U (zh) * 2017-10-16 2018-04-10 厦门海洋职业技术学院 一种新型水质在线监测仪配套的流通池
CN207792862U (zh) * 2017-12-29 2018-08-31 付贺鹏 水质监测装置及污水处理系统
CN207966925U (zh) * 2018-03-30 2018-10-12 上海思恩装备科技有限公司 一种半导体器件的清洗装置
CN108878321A (zh) * 2018-06-25 2018-11-23 扬州思普尔科技有限公司 一种半导体晶圆清洗用节能快排冲水槽
CN208802938U (zh) * 2018-09-20 2019-04-30 常熟市滨江化工有限公司 一种工业水处理装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN110137116B (zh) 2021-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105092454B (zh) 计数器及流式细胞分析仪
US20160202103A1 (en) A probe for monitoring the surface level of a fluid in a vessel and a method of installing the probe in the vessel
CN110137116A (zh) 清洗槽
CN109378283A (zh) 化学腐蚀液注入槽体流场稳流装置
CN111830085B (zh) 水质检测装置、冰箱供水系统及冰箱
CN208458836U (zh) 一种液位检测系统及液体供给或回收系统
CN207908414U (zh) 一种pH值不间断在线检测系统
CN110355157A (zh) 加样针清洗装置以及组件
CN204228237U (zh) 浮球式液体硫磺液位测量装置
CN208109623U (zh) 尿素监测装置及尿素选择催化还原设备
CN206470090U (zh) 一种浆液检测设备及装置
CN210378889U (zh) 一种液位开关
CN204788588U (zh) 一种一等标准金属量器
CN207717756U (zh) 一种电厂在线化学仪表水样监测装置
CN208712445U (zh) 一种毛细铜管内部清洗机
CN110044447A (zh) 一种油气水多相流量标定的系统及方法
CN211170464U (zh) 一种列流管
CN220304595U (zh) 一种多出水口电动球阀的流量计
CN110184658A (zh) 一种车间给茧管道系统
CN213455763U (zh) 一种质量法水表检测设备用换向器
CN209327268U (zh) 一种电导率抽液检测装置
JP5978123B2 (ja) 電磁流量計を使用した洗浄品質管理システム、及び洗浄品質管理方法
CN219121635U (zh) 一种面板显示器的试水装置
CN211262363U (zh) 一种可清洗式超声波热量表流量管
CN211121400U (zh) 一种卡套式超声波流量计

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant