CN110112316B - 盖板、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种盖板、显示装置,涉及显示技术领域用于解决PS容易发生晃动或者脱落,而起不到支撑的效果,从而影响显示效果的问题。盖板包括:基板以及设置在所述基板上的辅助电极和至少一个隔垫物组件;所述隔垫物组件位于所述辅助电极靠近所述基板一侧;所述隔垫物组件,包括:至少一个锁紧部;隔垫物,设置在所述锁紧部远离所述基板的表面,且覆盖所述锁紧部的表面;其中,构成所述锁紧部的材料为管状结构,且管壁为网状。

Description

盖板、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种盖板、显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机电致发光二极管)显示装置由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、高色域、高对比度、响应速度快、耗能小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点,已被列为具有发展前景的下一代显示技术。
顶发射OLED器件,由于其具有更高的开口率,成为研究的主要方向。对于顶发射结构,作为出光面OLED的顶电极必须具备良好的光透过率。目前,顶发射结构采用的透射电极多为ITO(Indium Tin Oxide,铟锡氧化物)、IZO(Indium Zinc Oxide,铟锌氧化物)等透明度高的材料,但透射电极的导电性能较弱。
为此,本领域技术人员在盖板上制作辅助电极,通过PS(Photo Spacer,隔垫物)作为搭接桥,使辅助电极与透射电极导通,以提高透射电极的导电性。
然而,在使用过程中,PS处容易发生晃动或者脱落,而起不到支撑的效果,从而影响显示效果。
发明内容
本发明的实施例提供一种盖板、显示装置,用于解决PS容易发生晃动或者脱落,而起不到支撑的效果,从而影响显示效果的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面,提供一种盖板,包括:基板以及设置在所述基板上的辅助电极和至少一个隔垫物组件;所述隔垫物组件位于所述辅助电极靠近所述基板一侧;所述隔垫物组件,包括:至少一个锁紧部;隔垫物,设置在所述锁紧部远离所述基板的表面,且覆盖所述锁紧部的表面;其中,构成所述锁紧部的材料为管状结构,且管壁为网状。
可选的,构成所述锁紧部的材料包括碳纳米管。
可选的,所述碳纳米管为多壁碳纳米管;其中,多壁碳纳米管的管壁包括镂空部。
可选的,构成所述锁紧部的材料包括经吸水性材料修饰的碳纳米管;其中,经吸水性材料修饰的碳纳米管的管壁包括凸起。
可选的,所述碳纳米管内填充有吸水性材料。
可选的,所述锁紧部为柱状结构。
可选的,所述锁紧部为梯形结构。
可选的,沿远离所述基板的方向,所述锁紧部的横截面积逐渐变化。
可选的,沿远离所述基板的方向,所述锁紧部的横截面积逐渐增大。
可选的,沿所述盖板的厚度方向,所述锁紧部的厚度小于所述隔垫物厚度的一半。
可选的,所述锁紧部的厚度为0.5~1.5um。
可选的,所述隔垫物覆盖所述锁紧部的顶面和侧面;其中,所述锁紧部的顶面与所述基板平行,所述锁紧部的侧面与所述基板相交。第二方面,提供一种显示装置,包括第一方面所述的盖板,还包括与所述盖板压合的阵列基板。
本发明的实施例提供一种盖板、显示装置,在形成盖板时,通过在基板上设置锁紧部,并使构成锁紧部的材料为管状结构,且管壁为网状。这样一来,采用上述材料形成锁紧部后,隔垫物覆盖锁紧部的表面,在形成隔垫物的过程中,部分材料会通过管壁的小孔渗入管状结构内。因此,锁紧部会对隔垫物起到一个固定的作用,隔垫物像被螺丝锁在基板上一样,可防止隔垫物发生晃动或者脱落。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1a为本申请实施例提供的一种显示装置的构架图;
图1b为本申请实施例提供的另一种显示装置的构架图;
图2为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图3a为本申请实施例提供的一种阵列基板的结构示意图;
图3b为本申请实施例提供的一种显示面板的剖面图;
图4为本申请实施例提供的一种像素界定层的结构示意图;
图5为本申请实施例提供的另一种显示面板的剖面图;
图6为本申请实施例提供的一种隔垫物组件的分布示意图;
图7为本申请实施例提供的一种盖板的俯视示意图;
图8为图7沿A-A′向的剖视示意图;
图9为本申请实施例提供的一种构成锁紧部的材料的结构示意图;
图10a为本申请实施例提供的一种盖板的剖视示意图;
图10b为本申请实施例提供的另一种盖板的剖视示意图;
图11为本申请实施例提供的又一种盖板的剖视示意图;
图12为本申请实施例提供的又一种盖板的剖视示意图。
附图标记:
1-框架;2-盖板;3-显示模组;31-显示面板;32-1/4波片;33-偏振层;4-电路板;5-阵列基板;51-衬底;52-OLED元件;521-阳极;522-阴极;523-发光材料层;53-像素界定层;6-盖板;61-基板;62-辅助电极;63-隔垫物组件;631-锁紧部;632-隔垫物;64-透明平坦层;65-彩色滤光层;66-黑矩阵。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
除非另作定义,本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本领域技术人员所理解的通常意义。本申请说明书中使用的“左”、“右”、“上”以及“下”等方位术语是相对于附图中的显示装置示意放置的方位来定义的,应当理解到,这些方向性术语是相对的概念,它们用于相对于的描述和澄清,其可以根据显示装置所放置的方位的变化而相应地发生变化。
本申请实施例提供一种显示装置,该显示装置例如为显示器、电视、数码相框、手机、平板电脑、个人数字助理(personal digital assistant,PDA)、车载电脑、导航仪、汽车音响等具有任何显示功能的产品或者部件。
在一些实施例中,显示装置为显示面板。
在一些实施例中,如图1a所示,显示装置的主要结构包括框架1、盖板2、显示模组3、电路板4以及包括摄像头等的其他电子配件。
框架1的纵截面呈U型,显示模组3、电路板4以及包括摄像头等的其他电子配件设置于框架1内。
电路板4位于显示模组3和框架1之间,盖板2位于显示模组3远离电路板4的一侧。
如图1a所示,显示模组3包括显示面板31。
本申请实施例提供的显示面板31可以为:有机发光二极管(Organic LightEmitting Diode,OLED)显示面板;量子点发光二极管(Quantum Dot Light EmittingDiodes,简称QLED)显示面板等,本发明对此不做具体限定。OLED显示面板的发光单元为OLED单元,QLED显示面板的发光单元为QLED单元。为了便于说明,以下实施例均是以显示面板31为OLED显示面板为例进行说的。
在一些实施例中,为了消除环境光对显示效果的影响,如图1b所示,显示模组3还包括1/4波片32和偏振层33。
在一些实施例中,偏振层33和1/4波片32集成为一体结构,设置在显示面板31的出光侧的表面上。其中,显示面板31能够看到显示画面的一侧为出光侧,与出光侧相对的一侧为背侧。
在一些实施例中,偏振层33为制作好的偏光片。
在一些实施例中,偏振层33为线栅偏振层(grid polarizer,GP)。
偏振层33为线栅偏振层时,线栅偏振层的材料可以为金属。线栅偏振层可采用溅射、纳米压印、光刻等方式制作。线栅偏振层的材料包括但不限于铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)和铬(Cr)等。
显示面板31包括:显示区(active area,AA;简称AA区;也可称为有效显示区)和围绕显示区一圈设置的周边区;显示区中包括发多种颜色光的子像素(sub pixel)单元。
上述多种颜色光至少包括第一颜色、第二颜色和第三颜色,第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色(例如红色、绿色和蓝色)。
如图2所示,本申请实施例提供的显示面板31包括压合设置的阵列基板5和盖板6,两者通过封装结构密封。
如图3a所示,阵列基板5包括衬底51、设置在衬底51上的多个OLED元件52以及像素电路C。其中,显示面板31上的每个子像素单元均设置有OLED元件52和像素电路C。
如图3a所示,OLED元件52包括阳极521、阴极522和设置在阳极521和阴极522之间的有机材料功能层,有机材料功能层包括发光材料层523。
可以理解的是,在一些实施例中,发第一颜色光的子像素单元包括的发光材料层523发第一颜色光,发第二颜色光的子像素单元包括的发光材料层523发第二颜色光,发第三颜色光的子像素单元包括的发光材料层523发第三颜色光。在这种情况下,显示面板31可以无需设置彩色滤光层。
在一些实施例中,每个子像素单元包括的发光材料层523发的光均为白光。在这种情况下,如图3b所示,盖板6包括基板61和设置在基板61上的彩色滤光层65。
彩色滤光层65包括:位于发第一颜色光的子像素单元的第一颜色彩色滤光单元,位于发第二颜色光的子像素单元的第二颜色彩色滤光单元,位于发第三颜色光的子像素单元的第三颜色彩色滤光单元。
如图3b所示,盖板6还可以包括位于相邻颜色彩色滤光单元之间的黑矩阵66,黑矩阵66用于防止相邻彩色滤光单元发出的光发生混光。
如图3b所示,黑矩阵66和彩色滤光层65的表面不在同一平面上,两个表面之间有高度差。为了便于其他膜层的制备,防止出现成膜不均的情况,或者,避免出现压合不稳定的情况。在一些实施例中,盖板6还包括透明平坦层64。
透明平坦层64的材料例如可以是树脂等。
在一些实施例中,为了提高空穴的电子的传输效率,有机材料功能层还可以包括设置于阳极521和发光材料层523之间的HTL(Hole Transport Layer,空穴传输层),以及设置于阴极522和发光材料层523之间的ETL(Electron Transport Layer,电子传输层)。
在一些实施例中,为了能够提高电子和空穴注入发光材料层的效率,有机材料功能层还可以包括设置于阳极521和HTL之间的HIL(Hole Inject Layer,空穴注入层),以及设置于阴极522和ETL之间的EIL(Electron Inject Layer,电子注入层)。
上述像素电路C(或称像素驱动电路)一般由薄膜晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT)、电容(Capacitance)等电子器件组成。例如像素电路C可以是由两个薄膜晶体管(一个开关TFT和一个驱动TFT)和一个电容构成的2T1C结构的像素电路,当然像素电路C还可以是由两个以上的薄膜晶体管(多个开关TFT和一个驱动TFT)和至少一个电容构成。其中,不管像素电路C是何种结构,都必须包括驱动TFT,驱动TFT可以与阳极521电连接(例如,驱动TFT可以通过位于其上方的平坦层上的过孔与阳极521电连接)。
此外,为避免相邻子像素单元发出的基色光发生串扰,如图3a所示,显示面板5还包括像素界定层53,像素界定层53设置在相邻发光材料层523之间。
如图4所示,像素界定层(Pixel Define Layer,PDL)53包括镂空区,像素界定层53用于界定出显示面板31的开口区A和非开口区B。如图3a所示,像素界定层53位于非开口区B,像素界定层53的镂空区对应显示面板31的开口区A。开口区A用于透过显示用光,非开口区B用于遮挡光线。
在此基础上,OLED元件52可以分为顶发光OLED元件或底发光OLED元件。
对于顶发光OLED元件而言,远离衬底51的阴极522材料为透明或半透明材料,而靠近衬底51的阳极521为不透光,使得发光材料层523发出的光从阴极522一侧射出。
对于底发光OLED元件而言,远离衬底51的阴极522材料为不透明材料,而靠近衬底51的阳极521材料为透明材料,使得发光材料层523发出的光从阳极521一侧射出。
当然,OLED元件52还可以为双面发光OLED元件,在此情况下,远离衬底51的阴极522材料为透明或半透明材料,靠近衬底51的阳极521的材料为透明材料,使得发光材料层523发出的光分别从阴极522和阳极521一侧射出。
在一些实施例中,衬底51采用柔性树脂材料构成。在此情况下,上述显示面板5为柔性显示面板。
在一些实施例中,衬底51采用质地较硬的材料,例如玻璃构成。在此情况下,上述显示面板5为硬质显示面板。
上述显示模组3的发光原理为:通过控制施加在阳极521和阴极522上的电压,利用阳极521注入空穴,阴极522注入电子,所形成的电子和空穴在发光材料层523相遇而产生激子,从而激发发光材料层523发光,OLED元件52发出显示用光。通过控制像素电路C向阳极521输入的电信号的大小,可控制各个OLED元件52的发光亮度。
在显示模组3包括1/4波片32和偏振层33的情况下,OLED元件52发出的自然光经过1/4波片后仍为圆偏振光。再穿过偏振层33后,形成单一偏振方向的显示光,以实现清晰的显示。
可以理解的是,在显示模组3显示过程中,会受到环境光的干扰。显示模组3包括1/4波片32和偏振层33的情况下,显示模组3消除环境光干扰的原理为:假设偏振层33的偏振方向平行于显示模组3的长边方向。环境光射向显示模组3时,环境光先穿过偏振层33形成单一偏振方向干扰光A,此时干扰光A的偏振方向为平行于显示模组3长边的方向。干扰光A再穿过1/4波片32,经1/4波片32旋转45°,形成干扰光B。此时,干扰光B与干扰光A的夹角为45°。随后干扰光B射入显示面板31。
干扰光B射入显示面板31,经显示面板31内的反光结构反射后,反射回1/4波片32,1/4波片32对干扰光B旋转45°形成干扰光C。此时,干扰光C的偏振方向平行于显示模组3的短边方向,干扰光C与干扰光A的夹角为90°。随后干扰光C射向偏振层33。由于干扰光C的偏振方向与偏振层33的偏振方向垂直,所以干扰光C不会射出显示面板31,从而不会对显示用光产生干扰。
顶发光OLED元件,由于具有更高的效率、更小的功耗、色纯度更高,并且由于其开口率大的特性,更有利于实现高分辨率的结构设计而倍受欢迎。
对于顶发光OLED元件,远离衬底51的阴极522通常是通过溅射或热蒸镀沉积一层透明或半透明的导电材料形成,靠近衬底51的阳极521为不透光。
为了保证光透光率,阴极522采用的材料多为ITO(Indium Tin Oxide,铟锡氧化物)、IZO(Indium Zinc Oxide,铟锌氧化物)等透明度高的材料,但上述材料的导电性能较弱。
此外,阴极522厚度越薄,光的透过率越高。但同时,阴极522越薄,阴极522的横向电阻会越高,由阴极522的电阻过大带来的IR-drop(压降)也会超出正常水平,导致显示面板31边缘和中间的亮度不一致。
为此,本领域技术人员在保证阴极522的光透光率的基础上,通过在盖板6上设置辅助电极,来降低阴极522的电阻。
如图5所示,上述盖板6包括基板61,基板61上设置有辅助电极62和至少一个隔垫物组件63,隔垫物组件63位于辅助电极62靠近基板61一侧,通过隔垫物组件63作为搭接桥,使辅助电极62与阴极522导通,以降低阴极522的电阻,提高阴极522的导电性。
其中,为了保证顶发射的性能,辅助电极62必然为透光结构。辅助透射电极30例如可以采用ITO、IZO、铜、铝、钼、钛、纳米银线或石墨烯等材料。
可以理解的是,为了不对显示用光进行遮挡,如图5所示,当将盖板6与上述阵列基板5盖合后,隔垫物组件63位于显示面板31的非开口区B。也就是说,像素界定层53在基板61上的正投影覆盖隔垫物组件63在基板61上的正投影。
此外,如图6所示,并非任意相邻开口区A之间都设置有隔垫物组件63,根据需要合理设置即可。
为了保证隔垫物组件63与基板61连接的稳定性,如图7和图8所示,隔垫物组件63包括至少一个锁紧部631和隔垫物(PhotoSpacer,简称PS)632。
隔垫物632设置在锁紧部631远离基板61的表面,且覆盖锁紧部631的表面。
其中,如图9所示,构成锁紧部631的材料为管状结构,且管壁为网状。
隔垫物632覆盖锁紧部631的表面,在一些实施例中,如图8和图10a所示,无论一个隔垫物组件63中包括几个锁紧部631,为了提高锁紧部631对隔垫物632的锁紧效果,增大隔垫物632与锁紧部631的接触面积,隔垫物632覆盖每一个锁紧部631的顶面和侧面。锁紧部631的顶面与基板61平行,锁紧部631的侧面与基板61相交。
不对锁紧部631和隔垫物632的形状进行限定,图8中仅为一种示意,并非限定。
本申请实施例提供的盖板6,通过在基板61上设置锁紧部631,并使构成锁紧部631的材料为管状结构,且管壁为网状。这样一来,采用上述材料形成锁紧部后,隔垫物632覆盖锁紧部631的表面,在形成隔垫物632的过程中,部分材料会通过管壁的小孔渗入管状结构内。因此,锁紧部631会对隔垫物632起到一个固定的作用,隔垫物632像被螺丝锁在基板61上一样,可防止隔垫物632发生晃动或者脱落。
在一些实施例中,构成锁紧部631的材料包括碳纳米管。
碳纳米管具有极强的抗拉强度、弹性和弯曲刚性,碳纳米管构成的锁紧部631自身具有较强的稳定性,可与基板61稳定连接,能够对隔垫物632起到固定的作用。
在一些实施例中,碳纳米管为多壁碳纳米管;其中,多壁碳纳米管的管壁包括镂空部。
例如,多壁碳纳米管的管壁上通常布满小洞样的缺陷,可增加锁紧部631表面的粗糙度,提高锁紧部631对隔垫物632的锁紧效果。
在一些实施例中,构成锁紧部631的材料包括经吸水性材料修饰的碳纳米管;其中,经吸水性材料修饰的碳纳米管的管壁包括凸起。
例如,可以通过化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)的方法长吸水性材料,对碳纳米管进行修饰。
其中,吸水性材料包括氧化铝、氧化钙、氧化锌、氧化镁、氧化钛中的至少一种。
碳纳米管经过修饰后表面会形成凸起,可增加锁紧部631表面的粗糙度。此外,采用吸水性材料对碳纳米管修饰后,可使锁紧部631具有阻隔水汽的作用,从而防止水汽渗透后使显示面板31产生黑点。
在一些实施例中,碳纳米管内填充有吸水性材料。
这样一来,如图11所示,锁紧部631中掺杂有吸水性材料(图11中示意的黑点),可使进一步提高锁紧部631阻隔水汽的效果,从而防止水汽渗透后产生黑点。
为了简化工艺,便于制备,在一些实施例中,锁紧部631为柱状结构。为了增大锁紧部631与隔垫物632的接触面积,提高锁紧部631对隔垫物632的锁紧效果。在一些实施例中,如图10a所示,沿远离基板61的方向,锁紧部631的横截面积逐渐变化。
其中,如图10a所示,锁紧部631的横截面积可以按特定固定规律逐渐变化。如图10b所示,锁紧部631的横截面积也可以是阶梯性的变化。当然还可以是其他变化方式。
此处的逐渐变化,可以是呈增大趋势变化,也可以是呈减小趋势变化。
例如,锁紧部631为梯形结构。示例的,如图10a所示,锁紧部631可以为正梯形,如图11所示,锁紧部631也可以为倒梯形。
为了便于制备,在一些实施例中,沿远离基板61的方向,锁紧部631的横截面积逐渐增大。
例如,如图11所示,锁紧部631为倒梯形结构。即,锁紧部631的靠近基板61的表面的横截面积大于远离基板61的表面的横截面积。
为了避免锁紧部631厚度太大容易晃动,厚度太小对隔垫物632的锁紧效果不好。在一些实施例中,沿盖板6的厚度方向,锁紧部631的厚度小于隔垫物632厚度的一半。
其中,盖板6的厚度方向垂直与基板61。
在一些实施例中,锁紧部631的厚度为0.5~1.5um。
例如,锁紧部631的厚度为0.6um、0.7um、0.8um、0.9um、1.0um、1.1um、1.2um、1.3um、1.4um。
在一些实施例中,隔垫物632厚度为3-5um。
例如,隔垫物632厚度为3.5um、4um、4.5um。
可以理解的是,如图12所示,在盖板6还包括透明平坦层64的情况下,隔垫物组件63位于透明平坦层64远离基板61的一侧。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种盖板,其特征在于,包括:基板以及设置在所述基板上的辅助电极和至少一个隔垫物组件;
所述隔垫物组件位于所述辅助电极靠近所述基板一侧;
所述隔垫物组件,包括:
至少一个锁紧部;
隔垫物,设置在所述锁紧部远离所述基板的表面,且覆盖所述锁紧部的表面;
其中,构成所述锁紧部的材料为管状结构,且管壁为网状。
2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,构成所述锁紧部的材料包括碳纳米管。
3.根据权利要求2所述的盖板,其特征在于,所述碳纳米管为多壁碳纳米管;
其中,多壁碳纳米管的管壁包括镂空部。
4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,构成所述锁紧部的材料包括经吸水性材料修饰的碳纳米管;
其中,经吸水性材料修饰的碳纳米管的管壁包括凸起。
5.根据权利要求2-4任一项所述的盖板,其特征在于,所述碳纳米管内填充有吸水性材料。
6.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,沿远离所述基板的方向,所述锁紧部的横截面积逐渐变化。
7.根据权利要求6所述的盖板,其特征在于,沿远离所述基板的方向,所述锁紧部的横截面积逐渐增大。
8.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,沿所述盖板的厚度方向,所述锁紧部的厚度小于所述隔垫物厚度的一半。
9.根据权利要求7所述的盖板,其特征在于,所述锁紧部的厚度为0.5~1.5um。
10.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述隔垫物覆盖所述锁紧部的顶面和侧面;
其中,所述锁紧部的顶面与所述基板平行,所述锁紧部的侧面与所述基板相交。
11.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-10任一项所述的盖板,还包括与所述盖板压合的阵列基板。
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