CN110038748B - 光学膜的膜厚监控方法 - Google Patents

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    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
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    • B05B12/08Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area responsive to condition of liquid or other fluent material to be discharged, of ambient medium or of target ; responsive to condition of spray devices or of supply means, e.g. pipes, pumps or their drive means
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Abstract

本揭示提供了光学膜的膜厚监控方法。所述光学膜的膜厚监控方法包括向涂布机台输入工艺参数K,其中K=V/P,K为工艺参数,V为光学膜的涂布速度,P为喷嘴的吐出压力,当K值稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,以及当所述K值不稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常。本揭示能够判断所述光学膜的膜厚是否异常及缩短异常发现时间。

Description

光学膜的膜厚监控方法
【技术领域】
本揭示涉及显示技术领域,特别涉及一种光学膜的膜厚监控方法。
【背景技术】
目前光学膜的膜厚监控方法中,依历史经验值来判断所述光学膜的膜厚是否异常,此无法有效判断出所述光学膜的膜厚是否异常,因为当材料或者制程波动时,历史经验值也需要调整,否则会出现误检。
故,有需要提供一种光学膜的膜厚监控方法,以解决现有技术存在的问题。
【发明内容】
为解决上述技术问题,本揭示的一目的在于提供叠光学膜的膜厚监控方法,其能够判断所述光学膜的膜厚是否异常及缩短异常发现时间。
为达成上述目的,本揭示提供一光学膜的膜厚监控方法。所述光学膜的膜厚监控方法包括向涂布机台输入工艺参数K,其中K=V/P,K为工艺参数,V为光学膜的涂布速度,P为喷嘴的吐出压力,当K值稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,以及当所述K值不稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常。
于本揭示其中的一实施例中,所述的光学膜的膜厚监控方法还包括当V曲线与P曲线相吻合时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,以及当所述V曲线与所述P曲线不吻合时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差小于或等于0.05为无风险。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差大于0.05以及小于或等于0.1为低风险。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差大于0.1以及小于或等于0.2为中风险。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差大于0.2为高风险。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜的膜厚监控方法还包括设定所述K值与目标值的偏差在0.05以内。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜为彩色滤光片。
于本揭示其中的一实施例中,所述涂布机台为彩色滤光片涂布机台。
于本揭示其中的一实施例中,所述K值包括开始K值以及匀速K值,所述开始K值与所述匀速K值不同。
由于本揭示的实施例中的光学膜的膜厚监控方法,通过向涂布机台输入工艺参数K,其中K=V/P,K为工艺参数,V为光学膜的涂布速度,P为喷嘴的吐出压力,当K值稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,以及当所述K值不稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常,能够判断所述光学膜的膜厚是否异常及缩短异常发现时间。
为让本揭示的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
【附图说明】
图1显示根据本揭示的一实施例的光学膜的膜厚监控方法的流程示意图;以及
图2显示根据本揭示的一实施例的光学膜的膜厚监控方法的示意图。
【具体实施方式】
为了让本揭示的上述及其他目的、特征、优点能更明显易懂,下文将特举本揭示优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。再者,本揭示所提到的方向用语,例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧层、周围、中央、水平、横向、垂直、纵向、轴向、径向、最上层或最下层等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本揭示,而非用以限制本揭示。
在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
参照图1-2,本揭示的一实施例提供一光学膜的膜厚监控方法100。所述光学膜的膜厚监控方法100包括:方块110,向涂布机台输入工艺参数K,其中K=V/P,K为工艺参数,V为光学膜的涂布速度,P为喷嘴的吐出压力,以及方块120,当K值稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,以及当所述K值不稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常。本揭示的实施例能够判断所述光学膜的膜厚是否异常及缩短异常发现时间。
于本揭示其中的一实施例中,所述的光学膜的膜厚监控方法100还包括当V曲线130与P曲线140相吻合时(参照图2),所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,以及当所述V曲线130与所述P曲线140不吻合时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常。于本揭示其中的另一实施例中,而压力传感器设置于喷嘴前面,所述P曲线140稍微提前于所述V曲线130。
于本揭示其中的一实施例中,在所述涂布机台匀速涂布所述光学膜时(V保持稳定),要得到稳定的所述光学膜的膜厚,吐出液体的量恒定,P保持稳定,K值为两个稳定值的比(V/P),K值为稳定值。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差小于或等于0.05为无风险。所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差大于0.05以及小于或等于0.1为低风险。所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差大于0.1以及小于或等于0.2为中风险。所述光学膜的膜厚监控方法还包括所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚偏差大于0.2为高风险。
于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜的膜厚监控方法还包括设定所述K值与目标值的偏差在0.05以内,可以保证品质安全。于本揭示其中的一实施例中,所述光学膜为彩色滤光片。所述涂布机台为彩色滤光片涂布机台。
于本揭示其中的一实施例中,所述K值包括开始K值以及匀速K值,所述开始K值与所述匀速K值不同。
于本揭示其中的一实施例中,例如目标值的上限可设定为所述匀速K值+0.2%,目标值的下限可设定为所述匀速K值-9.8%,可以保证品质安全。
于本揭示其中的一实施例中,根据涂布速度、压力与膜厚的对应关系,引入工艺参数K,其中K=V/P,K为工艺参数,V为光学膜的涂布速度,P为喷嘴的吐出压力,读取的匀速涂布时K值(即所述匀速K值)与开始一定区域的K值(即所述开始K值)进行比较判定,可有效发现是否出现膜厚异常。本揭示的实施例,提供彩色滤光片涂布机台,一膜厚异常自监控实现方式,缩短异常发现时间,减少大批量异常货产生而避免造成重大损失。
由于本揭示的实施例中的光学膜的膜厚监控方法,通过向涂布机台输入工艺参数K,其中K=V/P,K为工艺参数,V为光学膜的涂布速度,P为喷嘴的吐出压力,当K值稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,以及当所述K值不稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常,能够判断所述光学膜的膜厚是否异常及缩短异常发现时间。
尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本揭示,但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本揭示包括所有这样的修改和变型,并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能,用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能(例如其在功能上是等价的)的任意组件(除非另外指示),即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。此外,尽管本说明书的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开,但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且,就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言,这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。
以上仅是本揭示的优选实施方式,应当指出,对于本领域普通技术人员,在不脱离本揭示原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本揭示的保护范围。

Claims (3)

1.一种光学膜的膜厚监控方法,其特征在于,包括:
向涂布机台输入工艺参数K,其中K=V/P,K为工艺参数,V为光学膜的涂布速度,P为喷嘴的吐出压力;
当K值稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀,其中当所述涂布机台匀速涂布所述光学膜时,V保持稳定,当所述喷嘴吐出液体的量恒定,P保持稳定,所述K值为稳定值;以及
当所述K值不稳定时,所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常。
2.如权利要求1所述的光学膜的膜厚监控方法,其特征在于,所述光学膜为彩色滤光片。
3.如权利要求1所述的光学膜的膜厚监控方法,其特征在于,所述涂布机台为彩色滤光片涂布机台。
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