CN110000455A - 等离子弧割炬 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种等离子弧割炬，其包括绝缘件、收容于绝缘件内的电极底座、设于电极底座下端的电极以及套设在电极的外部的分配器及喷嘴，分配器位于绝缘件与所述喷嘴之间，绝缘件与电极底座之间设置有导气槽，导气槽为螺旋槽，喷嘴与电极之间设置有离子气流室，分配器上开设有分配孔，分配孔贯通分配器的内、外两侧壁，分配孔的中心轴线与分配器的中心轴线错开设置，分配孔与导气槽及离子气流室均连通。本发明的等离子弧割炬，工作气体在导气槽的作用下实现一次压缩，在分配孔的作用下实现二次压缩，进而提升了弧柱能量，并且，等离子弧以涡旋的方式射向工件，从而保证了切割时切口的平整度。
Description
技术领域
本发明涉及等离子焊割技术领域，特别地，涉及一种等离子弧割炬。
背景技术
割炬时气焊的重要工具，工作时，割炬产生等离子弧射向工件表面，等离子弧内部粒子对工件表面产生巨大的冲击力，释放出大量能量从而使工件材料局部融化并汽化，从而形成切口，以实现切割功能。在实际切割作业过程中，操作者控制割炬时难免会使割炬沿割炬的轴线发生转动，此时，由于弧柱难以保证为圆柱状，极易导致切口不平整；另外，射出的离子气体压缩不充分，弧柱能量较低，进而影响了切割质量。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：为了克服现有技术中存在的上述问题，现提供一种切口平整、弧柱能量高的等离子弧割炬。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种等离子弧割炬，所述等离子弧割炬包括绝缘件、收容于所述绝缘件内的电极底座、设于所述电极底座下端的电极以及套设在所述电极的外部的分配器及喷嘴，所述分配器位于所述绝缘件与所述喷嘴之间，所述绝缘件与所述电极底座之间设置有导气槽，所述导气槽为螺旋槽，所述喷嘴与所述电极之间设置有离子气流室，所述分配器上开设有分配孔，所述分配孔贯通所述分配器的内、外两侧壁，所述分配孔的中心轴线与所述分配器的中心轴线错开设置，所述分配孔与所述导气槽及所述离子气流室均连通。
进一步地，所述电极底座的外壁上凸设有螺旋齿，所述螺旋齿远离所述电极底座的一侧与所述绝缘件的内壁相贴合，所述导气槽由所述螺旋齿的侧壁与所述电极底座的外周面之间的空间构成。
进一步地，所述分配孔有多个，多个所述分配孔均匀分布在所述分配器的侧壁上。
进一步地，所述电极的外壁上沿所述电极的径向向外延伸形成有第二抵持缘，所述分配器的内壁上沿所述分配器的径向向内延伸形成有第三抵持缘，所述第三抵持缘位于所述第二抵持缘的下方并与所述第二抵持缘相抵持，所述喷嘴的上端面上沿所述喷嘴的轴向向下凹陷形成有限位凹槽，所述分配器的下端与所述限位凹槽的槽壁相抵持。
进一步地，所述离子气流室由所述喷嘴的内壁与所述电极的外壁之间的空间构成，所述喷嘴的底部开设有喷口，所述喷口与所述离子气流室相连通。
进一步地，所述等离子弧割炬还包括通气管，所述通气管的下端伸入至所述电极的空腔内，所述通气管的外壁与所述电极的内壁之间的空间构成第一冷却气腔，所述通气管的外壁与所述电极底座的内壁之间的空间构成第二冷却气腔，所述电极底座的侧壁上开设有与所述导气槽连通的通气口，所述第二冷却气腔与所述第一冷却气腔及所述通气口均连通。
进一步地，所述电极的内底壁的中心处沿所述电极的轴向向上延伸形成有凸起，所述凸起的顶部伸入至所述通气管内。
进一步地，所述等离子弧割炬还包括套管组件，所述套管组件包括内套管，所述内套管的上端套设在所述绝缘件的下端的外部，所述内套管的下端套设在所述喷嘴的上端的外部，所述内套管的内壁、所述绝缘件的下端面、所述分配器的外壁以及所述喷嘴的上端面之间夹设的空间构成气体分配室，所述气体分配室与所述导气槽及所述分配孔均连通。
进一步地，所述套管组件还包括套设在所述内套管外部的绝缘套以及套设在所述绝缘套下端的外部的外套管，所述等离子弧割炬还包括保护罩，所述保护罩压接在所述外套管的外部，所述保护罩的内壁与所述喷嘴的外壁之间的空间构成保护气室，所述保护气室与所述气体分配室相连通，所述保护罩的底部开设有与所述保护气室连通的出气孔。
进一步地，所述内套管的下端的内壁上沿所述内套管的径向向内延伸形成第一凸缘，所述喷嘴的上端的外壁上沿所述喷嘴的径向向外延伸形成第二凸缘，所述第一凸缘上端面与所述第二凸缘的下端面相抵持，所述第一凸缘上开设有通气孔，所述通气孔与所述气体分配室及所述保护气室均连通。
本发明的有益效果是：本发明提供的等离子弧割炬，工作气体在导气槽的作用下实现一次压缩，在分配孔的作用下实现二次压缩，进而提升了弧柱能量，并且，等离子弧以涡旋的方式射向工件，从而保证了切割时切口的平整度。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。
图1是本发明的等离子弧割炬的结构示意图；
图2是图1所示等离子弧割炬中割炬本体的结构示意图；
图3是图1所示等离子弧割炬中A处的局部放大图；
图4是图2所示割炬本体中电极底座的结构示意图；
图5是图2所示割炬本体中分配器的结构示意图；
图6是图5所示分配器沿B-B的剖视图；
图7是图2所示割炬本体中喷嘴的结构示意图。
图中零部件名称及编号分别为：
割炬本体 10 外壳 11 割炬底座 12
第一抵持缘 121 出气口 122 进气口 123
引弧线 124 通气孔 1211 绝缘件 13
搭接部 131 出气室 132 电极底座 14
导气槽 141 通气口 142 供气管 143
通气管 15 第一冷却气室 151 第二冷却气室 152
电极 16 凸起 161 第二抵持缘 162
分配器 17 第三抵持缘 172 分配孔 171
喷嘴 18 限位凹槽 185 离子气流室 181
喷口 182 离子气流槽 183 第二凸缘 184
填充物 19 套管组件 20 内套管 21
第一凸缘 213 冷却气室 211 密封件 212
绝缘套 22 外套管 23 保护罩 30
出气孔 301 保护气室 302 螺旋齿 144
第四凸缘 304 固定套 40 第三凸缘 401
具体实施方式
现在结合附图对本发明作详细的说明。此图为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。
请参阅图1和图2，本发明提供了一种等离子弧割炬，该等离子弧割炬包括割炬本体10、套设在割炬本体10外部的套管组件20以及安装在割炬本体10下端的保护罩30，工作时，该等离子弧割炬产生的等离子弧射向工件(例如，不锈钢或铝材)表面，等离子弧内部粒子对工件表面产生巨大的轰击力，释放出大量的热量，伴随电弧高温所产生的温度使得等离子弧作用处的工件材料局部融化、汽化，在高速运动离子的吹力下，熔化掉的金属和金属氧化物被吹除，从而形成切口。
请参阅图2，割炬本体10包括外壳11、割炬底座12、绝缘件13、电极底座14、通气管15、电极16、分配器17以及喷嘴18，其中，割炬底座12安装在外壳11的下端，绝缘件13收容于割炬底座12内，电极底座14收容于绝缘件13内，通气管15收容于电极底座14内，电极16安装在电极底座14的下端且套设在通气管15的外部，分配器17及喷嘴18均套设在电极16的外部。
在一个具体的实施方式中，外壳11大致呈上、下两端贯通的中空筒状结构，外壳11由不锈钢材料制成，以提高等离子弧割炬的整体强度，同时增强了散热性。
割炬底座12大致呈上、下两端贯通的中空筒状结构，割炬底座12的上端插接在外壳11的下端内，割炬底座12的外壁上沿割炬底座12的径向向外延伸形成有第一抵持缘121，当割炬底座12与外壳11安装到位时，第一抵持缘121与外壳11的下端面相抵持，从而对割炬底座12的安装起到限位作用。可以理解地，割炬底座12与外壳11之间还可以通过卡接、螺纹连接等方式连接，此处不作限制。另外，割炬底座12的侧壁上开设有两个相对设置的出气口122，出气口122的一端贯通割炬底座12的外壁后与外部大气连通，出气口122的另一端贯通割炬底座12的内壁后与割炬底座12的内腔相连通。割炬底座12的侧壁上还开设有两个相对设置的进气口123，进气口123位于出气口122的下方，进气口123的一端贯通割炬底座12的外壁，进气口123的另一端贯通割炬底座12的内壁后与割炬底座12的内腔连通。
绝缘件13大致呈上、下两端贯通的中空筒状结构，绝缘件13贯通割炬底座12的上、下两端，使得绝缘件13的上端延伸至割炬底座12的外部，绝缘件13的下端延伸至割炬底座12的外部。绝缘件13的侧壁上沿绝缘件13的径向向外延伸形成有搭接部131，当绝缘件13安装到位时，搭接部131与割炬底座12的下端面相抵持，从而对绝缘件13的安装起到限位作用。绝缘件13的外壁与割炬底座12的内壁之间的空间形成有出气室132，出气室132与进气口123及出气口122均连通。本实施方式中，绝缘件13由绝缘陶瓷制成，用于阻止流经割炬底座12与电极底座14之间的气体被电离。
请结合图4，电极底座14大致呈上、下两端贯通的中空筒状结构，电极底座14的外壁与绝缘件13的内壁相贴合，电极底座14底部的外壁上设有导气槽141，导气槽141为螺旋槽，导气槽141的下端贯通电极底座14的下端面，电极底座14的侧壁上开设有多个,通气口142，通气口142与电极底座14的内腔及导气槽141均连通。
在一个具体的实施方式中，电极底座14的外壁上凸设有螺旋齿144，螺旋齿144远离电极底座14的一侧与绝缘件13的内壁相贴合，导气槽141由螺旋齿144的侧壁与电极底座14的外周面之间的空间构成。
电极16大致呈上端具有开口的中空筒状结构，电极16的上端收容于电极底座14的下端内并与电极底座14螺纹连接。通气管15大致呈两端贯通的中空管状结构，通气管15的上端与电极底座14螺纹连接，通气管15的下端伸入至电极16的空腔内。通气管15的内腔与电极底座14的内腔相连通，通气管15的外壁与电极16的内壁之间的空间构成第一冷却气腔151，通气管15的外壁与电极底座14的内壁之间的空间构成第二冷却气腔152，第二冷却气腔152与通气口142及第一冷却气腔51均连通。另外，本实施方式中，电极16的材质为紫铜。
使用时，经由通气管15向电极16内通入气体，具体地，气体进入至通气管15的内腔后，依次经由第一冷却气腔151、第二冷却气腔152及通气口142后进入至导气槽141内。上述气体流动过程中，气体需流经电极16的底部后再向上流出至电极16的外部，进而延长了气体于电极16内的流动路径，能够将电极16工作时产生的热量尽可能多地带出，对电极16起到了良好的降温冷却效果，从而延长了电极16的使用寿命，如此，使得本发明的气体压缩式等离子弧割炬能够在130A的切割电流下稳定工作。
在一个具体的实施方式中，电极16的内底壁的中心处沿电极16的轴向向上延伸形成有凸起161，凸起161的顶部伸入至通气管15内，由此，增加了气流与电极16的接触面积，进一步提升了散热效果。另外，凸起161呈锥形结构，凸起161的顶部为尖端，当气流流经凸起161时，凸起161的锥形结构能够对气流起到导流作用，防止了气流流动不畅的情况发生。
另外，电极16的外壁上沿电极16的径向向外延伸形成有第二抵持缘162，当电极16与电极底座14安装到位后，第二抵持缘162与电极底座14的下端面相抵持，由此，对电极16的安装起到限位作用。
请参阅图2、图5和图6，分配器17大致呈两端贯通的环状结构，分配器17的内壁上沿分配器17的径向向内延伸形成有第三抵持缘172，第三抵持缘172位于第二抵持缘162的下方并与第二抵持缘162相抵持，如此，对分配器17的安装起到限位作用。分配器17的侧壁上开设有多个分配孔171，分配孔171位于第三抵持缘172的下方且贯通分配器17的内、外两侧壁，分配孔171的中心轴线与分配器17的中心轴线错开设置。工作时，当气体进入至导气槽141内时，气体便会在螺旋形的导气槽141的作用下回转形成涡旋气流，进而压缩气体，当气流流过导气槽141进而由分配孔171进入至分配器17的内腔中时，由于分配孔171的中心轴线与分配器17的中心轴线错开设置，会使得经由分配孔171进入至分配器171内部的气流再次形成涡旋气流，如此，使得气体进一步被压缩，使得等离子弧更细，能量密度及射出速度更大，同时，使得等离子弧以涡旋的方式射向工件，从而保证了切割时切口的平整度。另外，分配器17由绝缘材料制成，以对电极16及喷嘴18起到电性隔离作用。
在一个具体的实施方式中，分配孔171具有四个，且四个分配孔171均匀分布在分配器17的侧壁上，由此，分别经由四个分配孔171进入至分配器17内部的气流能够沿同一旋转方向产生涡旋作用，从而起到了增强气流涡旋的作用。
另外，分配器17位于电极底座14的下方,缩短了涡旋气流工件之间的距离，增加了扭力，进一步提升了弧柱能量。同时，由于分配器17为绝缘体，防止了电极16与套管组件20之间的气体被电离，对套管组件20起到保护作用。
请参阅图3、图7，喷嘴18大致呈上端具有开口的中空筒状结构，喷嘴18的上半部分为直筒状，喷嘴18的下半部分为锥形状，喷嘴18的内腔为锥形空腔，该锥形空腔的大口端朝上，喷嘴18套设在电极16的下端的外部，喷嘴18的上端面上沿喷嘴18的轴向向下凹陷形成有限位凹槽185，限位凹槽185贯通喷嘴18的内壁，当喷嘴18套设在电极16的外部时，分配器17的下端面与限位凹槽185的槽底壁相抵持，分配器17的外侧壁与限位凹槽185的槽侧壁相抵持，由此，分配器17被夹设在电极16与喷嘴18之间，限制了分配器17相对电极16的轴向及径向运动，对分配器17起到固定作用。另外，分配器17于本发明的等离子弧割炬的轴向上位于绝缘件13与喷嘴18之间。
由上所述，电极16的下端收容于喷嘴18的内腔中，请再次参阅图3，电极16的外壁与喷嘴18的内壁之间的空间形成离子气流室181，等离子气流室181与分配孔171相连通，喷嘴18的下端面沿喷嘴18的轴向开设有喷口182，喷口182为圆形孔，喷口182贯通喷嘴18的下端面，离子气流室181的底壁的中心处沿喷嘴18的轴向向下延伸形成有离子气流槽183，离子气流槽183呈喇叭状结构，且该喇叭状结构的大口端朝上，离子气流槽183的上端口与离子气流室181相连通，离子气流槽183的下端口与喷口182的上端相连通。另外，本实施方式中，喷嘴18的材质为紫铜。
工作时，气体经由分配孔171进入至等离子气流室181，由于喷嘴18的内腔为锥形空腔，使得气流在等离子气流室181内被压缩，而当气流进入至离子气流槽183内时，由于离子气流槽183呈喇叭状结构，气体得到二次压缩，使其充分被压缩，进而提升了等离子气体的射出速度及能量。
另外，喷口182的孔径为d，1.6mm≤d≤2.0mm，离子气流槽183的大口端的孔径为D，3.2mm≤D≤3.8mm，离子气流槽183的锥口角度为α，90°≤α≤120°。在一个具体的实施方式中，d＝1.8mm，D＝3.5mm，α＝110°。
另外，请再次参阅图1、图2，割炬本体10还包括引弧线124以及供气管143，引弧线124由导电材料制成，引弧线124的一端位于外壳11内并与割炬底座12的上端连接，引弧线124的另一端伸出至外壳11的外部，使用时，引弧线124伸出至外壳11的一端与电源的正极连接，从而使得喷嘴18通过套管组件20与电源的正极电性导通，电极16通过导线(图未示出)与电源的负极连接，从而使得电极16与电源的负极电性导通，由此，能够将进入至离子气流室181内的气体迅速电离，进而把电极16与工件之间的电弧迅速引燃。供气管143用于通入工作气体，供气管143与电极底座14相连通，具体地，供气管143大致呈两端贯通的管状结构，供气管143的一端位于外壳11内并与电极底座14的上端连接，供气管143的另一端延伸至外壳11的外部并与气源连接。
在一个具体的实施方式中，割炬本体10还填充于外壳11内的填充物19，填充物19可将供气管143、割炬底座12、绝缘件13及电极底座14固定在外壳11内，同时可起到密封的作用。本实施方式中，填充物19由胶水固化后形成。
请参阅图1和图3，套管组件20包括内套管21、套设在内套管21外部的绝缘套22以及套设在绝缘套22下端的外部的外套管23。
具体地，内套管21大致呈两端贯通的中空筒状结构，内套管21的上端套设在绝缘件13的下端的外部，内套管21的下端套设在喷嘴18的上端的外部。本实施方式中，内套管21与割炬底座12螺纹连接，从而实现了套管组件20与割炬本体10之间的连接关系。内套管21的下端的内壁上沿内套管21的径向向内延伸形成有第一凸缘213，喷嘴18的上端的外壁上沿喷嘴18的径向向外延伸形成有第二凸缘184，第一凸缘213的上端面与第二凸缘184的下端面相抵持，从而对喷嘴18起到固定作用。另外，内套管21由导电材料制成，以使得喷嘴18依次通过内套管21、割炬底座12及引弧线124与电源的正极电性导通。本实施方式中，内套管21、外套管23均为铜套，绝缘套22由绝缘材料制成。
内套管21的内壁与绝缘件13的外壁之间的空间构成冷却气室211，冷却气室211与进气口123相连通。另外，由于分配器17于本发明的等离子弧割炬的轴向上位于绝缘件13与喷嘴18之间，使得分配器17收容于内套管21内，此时，内套管21的内壁、绝缘件13的下端面、分配器17的外壁以及喷嘴18的上端面之间夹设的空间构成气体分配室210，气体分配室210与导气槽141、冷却气室211及分配孔171均连通。
当气体流经导气槽141进入至气体分配室210内时，气体分配室210内的部分气体会流入至冷却气室211内，随后，气体依次经由进气口123、出气室132及出气口122进入至外部大气中，从而将传递至内套管21、绝缘件13及割炬底座12上的热量带出，起到了高效散热的功能，避免零部件因高温而影响正常工作，提升了割炬的使用寿命。另外，为了提升了气密性，防止漏气，内套管21的内壁与割炬底座12的外壁之间夹设有密封件212，可以理解地，密封件212由橡胶或硅胶材料制成。
保护罩30大致呈上端具有开口中空锥体结构，保护罩30套设在喷嘴18的外部，保护罩30压接在外套管23的外部，从而实现对保护罩30的固定作用。保护罩30的底部沿保护罩30的轴向开设有出气孔301，出气孔301与喷口182相互连通且同轴设置，且出气孔301的孔径大于喷口182的孔径，以使得经由出气孔301流出的气体能够包围在弧柱的外围，以防止弧柱能力扩散。保护罩30的内壁与喷嘴18的外壁之间的空间构成保护气室302，保护气室302与出气孔301相连通。另外，第一凸缘213上开设有通气孔1211，通气孔1211与气体分配室210及保护气室302均连通，由此，使得气体分配室210通过通气孔1211与保护气室302相连通。
当气体流经导气槽141进入至气体分配室210内时，气体分配室210内的部分气体会流入至保护气室302内，进入由出气孔301流出，经由出气孔301流出的气体可以防止切割工件时的废渣飞溅，且能够增强切割能力。
为了避免保护罩30轻易与外套管23脱离，本发明的等离子弧割炬还包括固定套40，固定套40大致呈两端贯通的中空筒状结构，固定套40套设在外套管23的外部并与外套管23螺纹连接。固定套40的下端的内壁上沿固定套40的径向向内延伸形成有第三凸缘401，保护罩30的上端的外壁上沿保护罩30的径向向外延伸形成有第四凸缘304，第三凸缘401的上表面与第四凸缘304的下表面相抵持，从而使得保护罩30被挤压固定。
本发明的等离子弧割炬工作时，等离子弧割炬处于工件的上方，且电极16与电源的负极连接，喷嘴18以及工件与电源的正极连接，通过供气管143供气，气体依次经由电极底座14的内腔、通气管15、第一冷却气腔151、第二冷却气腔152、通气口142及导气槽141后进入至气体分配室210内，此时，气体分为三路流向，其中一路依次经由冷却气室211、进气口123、出气室132及出气口122进入至外部大气中；另外一路经由分配孔171进入至等离子气流室181内进而被电离呈离子气流，此时，电极16与工件之间的电弧被引燃，进而形成等离子弧，工件在等离子弧作用下被切开，一旦电弧被建立，引弧线124便被切断；最后一路经由通气孔1211进入至保护气室302内，最终由出气孔301及辅助气孔303流出。
本发明提供的等离子弧割炬，工作时，当气体进入至导气槽141内时，气体便会在螺旋形的导气槽141的作用下回转形成涡旋气流，进而压缩气体，当气流流过导气槽141进而由分配孔171进入至分配器17的内腔中时，由于分配孔171的中心轴线与分配器17的中心轴线错开设置，会使得经由分配孔171进入至分配器171内部的气流再次形成涡旋气流，如此，使得气体进一步被压缩，使得等离子弧更细，能量密度及射出速度更大，同时，使得等离子弧以涡旋的方式射向工件，从而保证了切割时切口的平整度。
以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关的工作人员完全可以在不偏离本发明的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (10)
1.一种等离子弧割炬，其特征在于：所述等离子弧割炬包括绝缘件、收容于所述绝缘件内的电极底座、设于所述电极底座下端的电极以及套设在所述电极的外部的分配器及喷嘴，所述分配器位于所述绝缘件与所述喷嘴之间，所述绝缘件与所述电极底座之间设置有导气槽，所述导气槽为螺旋槽，所述喷嘴与所述电极之间设置有离子气流室，所述分配器上开设有分配孔，所述分配孔贯通所述分配器的内、外两侧壁，所述分配孔的中心轴线与所述分配器的中心轴线错开设置，所述分配孔与所述导气槽及所述离子气流室均连通。
2.如权利要求1所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述电极底座的外壁上凸设有螺旋齿，所述螺旋齿远离所述电极底座的一侧与所述绝缘件的内壁相贴合，所述导气槽由所述螺旋齿的侧壁与所述电极底座的外周面之间的空间构成。
3.如权利要求1所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述分配孔有多个，多个所述分配孔均匀分布在所述分配器的侧壁上。
4.如权利要求1所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述电极的外壁上沿所述电极的径向向外延伸形成有第二抵持缘，所述分配器的内壁上沿所述分配器的径向向内延伸形成有第三抵持缘，所述第三抵持缘位于所述第二抵持缘的下方并与所述第二抵持缘相抵持，所述喷嘴的上端面上沿所述喷嘴的轴向向下凹陷形成有限位凹槽，所述分配器的下端与所述限位凹槽的槽壁相抵持。
5.如权利要求1所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述离子气流室由所述喷嘴的内壁与所述电极的外壁之间的空间构成，所述喷嘴的底部开设有喷口，所述喷口与所述离子气流室相连通。
6.如权利要求1所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述等离子弧割炬还包括通气管，所述通气管的下端伸入至所述电极的空腔内，所述通气管的外壁与所述电极的内壁之间的空间构成第一冷却气腔，所述通气管的外壁与所述电极底座的内壁之间的空间构成第二冷却气腔，所述电极底座的侧壁上开设有与所述导气槽连通的通气口，所述第二冷却气腔与所述第一冷却气腔及所述通气口均连通。
7.如权利要求6所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述电极的内底壁的中心处沿所述电极的轴向向上延伸形成有凸起，所述凸起的顶部伸入至所述通气管内。
8.如权利要求1所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述等离子弧割炬还包括套管组件，所述套管组件包括内套管，所述内套管的上端套设在所述绝缘件的下端的外部，所述内套管的下端套设在所述喷嘴的上端的外部，所述内套管的内壁、所述绝缘件的下端面、所述分配器的外壁以及所述喷嘴的上端面之间夹设的空间构成气体分配室，所述气体分配室与所述导气槽及所述分配孔均连通。
9.如权利要求8所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述套管组件还包括套设在所述内套管外部的绝缘套以及套设在所述绝缘套下端的外部的外套管，所述等离子弧割炬还包括保护罩，所述保护罩压接在所述外套管的外部，所述保护罩的内壁与所述喷嘴的外壁之间的空间构成保护气室，所述保护气室与所述气体分配室相连通，所述保护罩的底部开设有与所述保护气室连通的出气孔。
10.如权利要求9所述的等离子弧割炬，其特征在于：所述内套管的下端的内壁上沿所述内套管的径向向内延伸形成第一凸缘，所述喷嘴的上端的外壁上沿所述喷嘴的径向向外延伸形成第二凸缘，所述第一凸缘上端面与所述第二凸缘的下端面相抵持，所述第一凸缘上开设有通气孔，所述通气孔与所述气体分配室及所述保护气室均连通。
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