CN109963962B - 用于光学制品上的涂层的气相沉积的设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于光学制品上的涂层的气相沉积的设备，该设备包括用于控制光学制品上的涂层的气相沉积的分布掩模(32)，该分布掩模定位在由所述发射源在用于光学制品的可旋转支撑件的方向上发射的分子中的一些的路径中。该分布掩模(32)装配有至少一个臂(34)，该至少一个臂被定位成在周转转动的一部分上掩蔽单独壳体(28)的至少一个局部区域(16)，这个被掩蔽的局部区域(16)包括该单独壳体(28)的中心。

Description

用于光学制品上的涂层的气相沉积的设备
本发明涉及一种用于光学制品上的涂层的气相沉积的装置，并且更具体地涉及一种分布掩模。
光学制品应被理解为尤其是指矫正或未矫正的插入件、晶片、半成品玻璃、透镜，它们可以用作眼镜片，例如用于眼镜、具体地太阳镜或面罩等。这种制品尤其由玻璃或塑料材料产生。光学制品可以以一个或多个层产生从而形成组件。
一般来讲，从复杂的制造方法中获得诸如像光学透镜等光学制品，该复杂的制造方法包括例如通过注塑成型法来制造例如由塑料材料制成的插入件或晶片。
然后，为了使插入件(和因此必须安排在例如人眼前的最终透镜)具有附加特征，例如应用了一个或多个表面处理。
这些表面处理可以是防眩光处理和/或暗化处理、和/或颜色施加处理。
为此，众所周知的做法是通过借助基于蒸发的方法并且更具体地借助在真空中蒸发来沉积由至少一个材料层形成的涂层而产生这样的表面处理。
出于经济原因并且为了节省时间，同时处理大量的光学制品，并且被实施来执行此操作的处理腔室在内部包括支撑件，该支撑件被安装成旋转、具有围绕其旋转轴线分布的被设计成各自接收待处理的光学制品的多个位置、并且在实践中整体呈球形帽或圆顶的形式。
在这个旋转圆顶下方，在旋转轴线上安排有发射源，待沉积的材料从该发射源按照蒸发锥蒸发。
在实践中，这个发射源例如由待蒸发的材料安排于其上的支撑件构成，例如坩埚或板，并且对于蒸发，材料例如经受通过焦耳效应、经受电子轰击、或经受阴极溅射效应进行的加热。蒸发锥可以被认为是朝向待处理的光学制品发送的分子的包络。
在所有情况下，要克服的困难之一在于以下事实：出于明显的原因、具体地联系到蒸发锥，重要的是独立于光学制品在旋转圆顶中的位置并且具体地独立于距圆顶的旋转轴线的距离，在光学制品中的每一者上均匀地完成所进行的一次或多次沉积，以便使它们全部都相同。
现在，材料的蒸发锥在实践中不是各向同性的。实际上，材料的密集度通常在锥的中心处比在侧向边缘处更大。
实际上，在横截面中，也就是说在与旋转轴线成直角的方向上，所发射的分子的密集度不均匀，并且该密集度靠近旋转轴线更大且随着远离旋转轴线的距离而不太大。
对这个问题的第一响应是旋转支撑件或圆顶的帽形式。
然而，此措施并不充分，并且为了进一步使可能尤其导致由此处理的光学制品之间的特性和具体地色彩的不必要差距的这个差异最小化，众所周知的做法是在发射源与承载待处理的不同光学制品的旋转支撑件之间插置适当地配置的分布掩模。
例如在文件FR 2775298、US 4 380 212和US 4 449 478或甚至EP 0 928 977、或者甚至在文件US 2013/228121、US 2009/090301或US 6447653中就是这样。
通常通过试错确定，由此实施的分布掩模的配置是使得这个分布掩模的跨度例如在旋转支撑件的旋转轴线附近比在距这个旋转轴线某一距离处更大。
因此，在所处理的这些不同光学制品上沉积材料层可以是针对它们全部基本上按照相同的厚度来完成。
这使得对于具有小曲率半径的光学制品而言结果有可能整体令人满意。然而，对于较大曲率的光学制品，观察到沉积缺陷。
实际上，与光学制品的边缘相比，光学制品的中心在距源不同的距离处。与边缘相比，距中心的距离可以更靠近或更远离源，这具体取决于涂层施加到光学制品的凸表面还是相应地凹表面。
其结果是沉积均匀性的缺陷，并且因此针对表面处理执行的沉积的厚度在光学制品的边缘上不同，例如不那么好。这种非均匀性可能会降低妥为制造的防眩光性能水平、引起颜色分布的变化然后不再显得均匀、或者根据某些入射角以投射成交替色带的形式引起虹视。
实际上，对于诸如像防眩光处理或干涉滤光器等功能性多层处理，不同层的非均匀性缺陷会累积并且影响这种功能性多层处理的性能，尤其是在边缘上。
从现有技术中已知的掩模并未使得有可能解决这个问题，而是主要只解决了一个光学玻璃到另一个光学玻璃的厚度变化但没有解决同一个光学制品上的均匀性缺陷。
因此，本发明的目标是提出一种用于控制光学制品上的涂层的气相沉积的分布掩模，该分布掩模使得至少在从一个外围边缘到穿过中心的相对边缘的带形式的部分上有可能更好地控制具有显著曲率或球面的光学制品的表面处理的均匀性，并且尤其以较低成本使得沉积在大量光学制品上的表面处理均匀。
为此，本发明的主题是一种用于光学制品上的涂层的气相沉积的装置，该装置包括
-源，该源发射待沉积在这些光学制品上的材料的分子，这些分子是按照蒸发锥发射的，
-光学制品的旋转支撑件，该旋转支撑件包括旨在接收这些光学制品并且在该旋转支撑件旋转时执行周转的单独接收部，以及
-分布掩模，该分布掩模安排在由所述发射源朝向光学制品的旋转支撑件发射的分子的一部分的路径上，
其中该分布掩模形成有至少一个臂，该至少一个臂被安排成在该周转的一部分上掩蔽单独接收部的局部区域，这个被掩蔽的局部区域包括该单独接收部的中心。
借助于这些性质，当支撑件旋转时借助于插置的掩模，安装在接收部中的光学制品的外围部分依然暴露于材料的发射源，而中心的部分被掩蔽并且无法接收待沉积的材料的分子。
根据本发明的分布掩模可以具有以下特征中的一者或多者。
根据一个方面，光学制品的单独接收部安排在同心轨道中，并且该至少一个臂被安排成面向该同心轨道居中。
该至少一个臂尤其是弯曲的、沿着相关联轨道延伸。
与该相关联轨道成直角的该臂的宽度被配置成使得该臂在该相关联轨道的光学制品上的投射印记具有与该相关联轨道成直角的宽度，该宽度小于在这些光学制品在其被该旋转支撑件承载时的宽度，使得所述臂阻止分子沉积在这些光学制品的中心部分中并且允许分子沉积在这些光学制品的相对于该相关联轨道安排在任一侧上的两个侧向部分中。
该臂的宽度在与该轨道成直角的方向上延伸并且具体地小于旨在由该旋转支撑件承载的光学制品的宽度。
例如，提供使掩模针对该旋转支撑件的每个轨道包括臂。
与该相关联轨道成直角的、该臂在该相关联轨道的光学制品上的投射印记的宽度例如介于由该旋转支撑件承载的这些光学制品的宽度的60％与95％之间、具体地介于80％与90％之间、并且更具体地为85％。
每个臂(34)例如具有修圆的端部。
在这种情况下，这些修圆的端部的曲率半径对应于例如必须接收该涂层的光学制品的曲率半径。
该掩模可以包括中心部分，该中心部分的形式被配置成补偿蒸发锥在光学制品的接收部的这些不同轨道之间的非均匀性。
对于具有接收部的每个轨道，该装置可以包括第一臂和第二臂，该第一臂和该第二臂使该中心部分在该中心部分的两侧上对称地延伸。
该中心部分具有椭圆形或梯形形式。
这些臂的长度例如随着这些同心的相关联轨道距该旋转支撑件的旋转轴线的距离而增加。
考虑到中心部分(如果中心部分存在的话)，这些成对的弯曲臂的长度成角度地掩蔽圆的具体地在60°与160°之间、具体地在80°与140°之间的区段。
这些臂的端部可以内接与该中心部分的迹线相对应的形状。
该旋转支撑件尤其具有凹形形式，使得光学制品的接收部与该发射源等距地安排。
在阅读作为说明性而非限制性的实例给出的以下描述后并且从附图中，本发明的其他特征和优点将变得更加清楚，在附图中：
-图1是待处理的光学制品的透视图，
-图2是可能被实施用于处理光学制品的处理腔室的部分横截面的简化侧视图，
-图3是光学制品的旋转支撑件和用于控制沉积的分布掩模的仰视示意图，
-图4是示出了被掩模的一部分掩蔽的光学制品的简化图，
-图5是示出了多个光学制品与掩模的一部分的简化图，
-图6是与图4类似的、已经经历处理的光学制品的图，并且
在所有图中，相同的元件具有相同的附图标记。数字形式的附图标记表示一般的元件或所有的相同元件。当元件的附图标记后面是有撇号或没有撇号的字母时，表示特定元件与具有相同附图标记但后面是有撇号或没有撇号的不同字母的元件不同。
现在将参考图来描述实施例的实例。
以下实施例是实例。尽管描述引用一个或多个实施例，但这不一定意味着每次引用都与相同实施例有关，或者特征仅应用于单个实施例。不同实施例的简单特征也可以组合或者交换以提供其他实施例。
图1示出了必须应用某种处理的光学制品10。
这个光学制品10可以优先地是眼科制品，并且具体地，矫正或未矫正的插入件或轮廓圆盘、晶片、半成品玻璃、透镜，它们可以用作眼镜片，例如用于眼镜、具体地太阳镜或面罩等。这种制品尤其由矿物玻璃或塑料材料产生。光学制品10可以以一个或多个层产生从而形成组件。
将要应用于光学制品10的处理可以是防眩光处理和/或硬化处理、和/或颜色施加处理。
图2示意性地示出了用于一组光学制品10上的涂层的气相沉积的装置20。
这个装置20包括处理腔室21和发射源22，该发射源用于根据蒸发锥24发射待沉积在光学制品10上的材料的分子。
处理腔室21可以气密密封并且连接到真空单元(未表示)，例如真空泵，该真空单元用于将处理腔室21内部的压力降低到适于待应用的处理的压力、典型地例如大约3.10- 5mbar。
发射源22例如由待蒸发的材料安排于其上的支撑件构成，例如坩埚或板，并且对于蒸发，材料例如经受通过焦耳效应、经受电子轰击、或经受阴极溅射效应进行的加热。
蒸发锥24并不均匀，并且与外围相比，在中心具有更大的蒸发分子密集度，这在图2中与外围相比，由蒸发锥24在中心处更深的灰色指示。显然，事实上密集度从中心到外围逐渐地减小。
在发射源22上方，安排了用于光学制品10的旋转支撑件26。
为此，旋转支撑件26包括用于光学制品10的单独接收部28。
如可以从示出了旋转支撑件26的仰视图的图3更好地看出，单独接收部28安排在例如同心轨道30上，这些同心轨道在图3中由虚线圆体现。
在本实例中，旋转支撑件26包括具有单独接收部28的四个同心轨道、各自标记为30A、30B、30C和30D。
显然，根据装置20的大小和尤其是处理腔室21的大小，可以提供更多或更少的同心轨道30。
此外，在旋转支撑件26上，通常不标记同心轨道。轨道30例如由安排在距旋转支撑件26的中心的相同距离处的一组单独接收部28限定。
将理解，在支撑件26的旋转期间，单独接收部28中的每一者执行周转。
旋转支撑件26具有例如凹形形式或更具体地呈球形帽形式，使得光学制品10的单独接收部28与发射源22等距地安排。
旋转支撑件26可以绕轴线A旋转，该轴线对应于旋转支撑件的对称轴线并且穿过其中心。
装置20还包括用于控制光学制品10上的涂层的气相沉积的分布掩模32。这个掩模32安排在由发射源22朝向光学制品10的旋转支撑件26发射的分子的一部分的路径上。
由于图3可以被比作从源22看到的旋转支撑件26的图，因此可以看出，对于由源22发射的分子的一部分，插置了掩模32。
更具体地，掩模32包括至少一个臂34，在当前情况下单独地包括八个臂、各自标记为34A、34A’、34B、34B’、34C、34C’和34D、34D’。在这个特定实施例中，臂具有通常弯曲形式。
这些弯曲臂34各自沿着相关联轨道30延伸并且面向该轨道居中安排。
因此，弯曲臂34A、34A’与轨道30A相关联，弯曲臂34B、34B’与轨道30B相关联、弯曲臂34C、34C’与轨道30C相关联、并且弯曲臂34D、34D’与轨道30D相关联。
因此，掩模32针对旋转支撑件26的每个轨道30包括两个弯曲臂34，这些弯曲臂相对于径向保持轴线36对称地安排(见图3)。
每个臂34的曲率半径遵循相关联轨道30的曲率半径。
与相关联轨道30成直角的每个弯曲臂34的宽度被配置成使得弯曲臂34在单独接收部28上和因此在保持于相关联轨道30的这些单独接收部28中的光学制品10上的投射印记具有与相关联轨道30成直角的宽度，该宽度小于光学制品10和由旋转支撑件26承载的单独接收部28的宽度。
如果发射源22是光源的话，则该投射印记可以被比作将由掩模32投在旋转支撑件26上的影子。容易理解的是，如果使掩模32接近发射源22，则由于发射锥24，将有必要减小掩模32的大小以获得相同的效果。
为了在涂层的沉积中尽可能精确，努力将掩模32尽可能靠近旋转支撑件26放置、典型地在十cm左右。
这可以在图3中清楚地看出，但在图4和图5中更详细地示出。
实际上，图4和图5示意性地示出了从发射源22看到的弯曲臂34的图。
鉴于图3示出了单独接收部28，而在图4和图5中，表示了光学制品10。图4和图5的光学制品10的轮廓与每个单独接收部28的轮廓基本上相同，以便能够保持这些光学制品10。因此，图4和图5也可以相对于光学制品10的单独接收部28来解释。
当通过旋转支撑件26的旋转，处于单独接收部28中的光学制品10在掩模32的弯曲臂34后面经过时，只有侧向部分或边缘12和14暴露于由发射源22发射的分子。
因此，一个或多个弯曲臂34阻止分子沉积在包括单独接收部28的中心的局部区域16中。在当前情况下，这个局部区域16对应于光学制品10的中心部分(见图5)并且允许分子沉积在光学制品10的两个侧向部分12和14中，这些侧向部分12和14相对于相关联轨道30安排在两侧上。实际上，与光学制品10的边缘相比，光学制品10的中心在距发射源22不同的距离处。在具有显著曲率或球面的光学制品10的情况下，光学制品10的中心比外围边缘更靠近发射源22。因此，在一次周转上，与在外围边缘上相比，光学制品10将接收更多的分子沉积在它的中心部分中。这因此通过一个或多个弯曲臂34来校正，因为当光学制品10被一个或多个弯曲臂34掩蔽时，中心不会接收分子而外围边缘仍接收分子。因此，在一次周转上，当光学制品10的前面没有掩模时，分子沉积在整个光学制品10上，但密集度在其中心处比在侧向部分12和14处更大，局部区域16包括单独接收部28的中心(更靠近发射源22)。当光学制品10被一个或多个弯曲臂34掩蔽时，分子仅沉积在侧向部分12和14上，并且因此填补相对于包括光学制品10的中心的局部区域16沉积的分子的缺陷。
这个臂或这些臂34的存在使得有可能克服光学制品10的中心与边缘之间的导致所沉积的分子的密集度梯度的距离差异，并且因此使得有可能确保涂层在具有显著曲率或球面的整个光学制品10上的沉积均匀性更好。
因此应理解，分布掩模32形成有至少一个臂34，该至少一个臂被安排成在周转的一部分上掩蔽单独接收部28的局部区域16，这个被掩蔽的局部区域16包括单独接收部28的中心。
弯曲臂34的在与轨道30成直角的方向上的宽度LB小于旨在由旋转支撑件26承载的光学制品10的宽度LA。相对于旋转支撑件26的中心径向地测量光学制品的宽度LA。
更具体地，与相关联轨道30成直角的、弯曲臂34在相关联轨道30的光学制品上的投射印记的宽度LB介于由旋转支撑件承载的光学制品的宽度LA的60％与95％之间、具体地介于80％与90％之间、并且更具体地大致为85％。
考虑到掩模的中心部分，成对的弯曲臂34的长度成角度地覆盖圆的在60°与160°之间、具体地在80°与140°之间的区段。因此，在移动支撑件26的旋转时，考虑到掩模的中心宽度，光学制品10的中心部分16仅暴露于由发射源22在200°与300°之间、具体地在220°与280°之间的角行程上发射的分子。其结果也是弯曲臂34的长度随着相关联的同心轨道30距旋转支撑件26的旋转轴线A的距离而增加。
在这个相同配置中，光学制品10的侧向部分12和16暴露于由发射源22在大于250°与350°之间、例如在280°与350°之间、例如大致340°的角行程上发射的分子。
根据未表示的实施例，掩模32可以包括每轨道30单个臂34或每轨道30两个臂。轨道30的一个或多个臂34的合计长度有利地根据被设计成放置在单独接收部28中的一者中的光学制品10的边缘与中心之间的高度差来选择。具体地，可以选择所述长度，以便对于轨道30而言覆盖根据所述高度选择的圆的区段。具体地，所述高度可以是旨在在所述装置20中处理的光学制品10的平均或中值高度。
更具体地，所述长度可以根据高度差对将要沉积的材料分别到达光学制品10的边缘和中心的流量密集度差异的影响来选择。
为了使得沉积甚至更均匀，弯曲臂34的端部38(38A、38A’、38B、38B’、38C、38C’和38D、38D’)具有修圆的形式，其中修圆的端部的曲率半径对应于必须接收涂层的光学制品10的曲率半径。
鉴于由于这些制品10的曲率或凸面，弯曲臂34有可能使得光学制品10的表面上的沉积更均匀，掩模32还包括通用形式(这里为椭球体)的中心部分40，该中心部分被配置成补偿蒸发锥24在光学制品10的接收部28的不同轨道30之间的非均匀性。
替代性地，这个中心部分可以被省略，或者呈三角形、菱形、梯形的形式、或者任何其他合适的形式。
这个中心部分40在径向保持轴线36上的中心固定。
如可以在图3中看出，掩模32因此包括中心部分40，并且对于接收部的每个轨道30A、30B、30C和30D而言，第一弯曲臂34A、34B、34C和34D和第二弯曲臂34A’、34B’、34C’和34D’使中心部分40相对于主椭圆轴线对称地延伸，该主椭圆轴线相对于旋转支撑件26的旋转轴线A径向地安排。
根据未表示的变体，还有可能使用两个不同的分布掩模：第一分布掩模，其具有用于补偿光学制品10的曲率的弯曲臂；以及第二分布掩模，其形式经校准以补偿发射锥24的非均匀性，该第二分布掩模被安排在例如旋转支撑件26的另一区段中、具体地相对。
最后，在一个实施例中，弯曲臂34的修圆端部38内接与椭球体形状的中心部分40的迹线相对应的半椭球体形状。也就是说，如果端部38A、38B、38C和38D被假想曲线连接起来，那么将获得与中心部分40在保持轴线36的同一侧上的椭球体形状基本上相同但成角度地偏移的半椭球体形状。同样地，如果端部38A’、38B’、38C’和38D’被假想曲线连接起来，那么将获得与中心部分40在保持轴线36的同一侧上的椭球体形状基本上相同但成角度地偏移的半椭球体形状。
这样的半椭球体形状被设计成补偿材料在旋转支撑件26上的沉积速率的径向变化，该径向变化可能是因为旋转支撑件26的形式与在发射源22上居中的球体的一部分相比的差异或者潜在地因为由所述发射源发射的材料的分布的径向非均匀性。
在另一实施例中，弯曲臂34的修圆端部38内接这样的半椭球体形状，但然而中心部分40没有椭球体形状。
图6示出了类似于图4的光学制品10的图，该光学制品上已经施加了涂层，如上文说明。因此应理解，能够使涂层在侧向部分12和14以及中心部分16中均匀。
然而，在部分18A和18B中，相对于中心部分16而言，所施加的涂层的均匀性不如部分12和14那么好。
基于期望的要求，有可能沿着虚线44切割光学制品10以获得例如大体矩形形式的透镜或光学玻璃。
因此，根据本发明的装置使得有可能借助于掩模32在光学制品10上、至少沿着与旋转支撑件26中的制品10的位置成直角的带非常均匀地沉积涂层，该掩模具有弯曲臂34以便尤其补偿由于光学制品10的曲率/球面引起的涂层的分布差异。

Claims (19)

1.一种用于眼科制品(10)上的涂层的气相沉积的装置(20)，该装置包括
-源(22)，该源发射待沉积在这些眼科制品(10)上的材料的分子，这些分子是按蒸发锥发射的，
-眼科制品(10)的凹形形式的旋转支撑件(26)，该旋转支撑件包括单独接收部(28)，每个单独接收部(28)被配置成接收所述眼科制品(10)并且在该旋转支撑件(26)旋转时执行周转，以及
-分布掩模(32)，该分布掩模安排在由所述发射源(22)朝向眼科制品(10)的该旋转支撑件(26)发射的分子的一部分的路径上，
其中该分布掩模(32)形成有至少一个臂(34)，每个臂被安排成在该周转的一部分上仅掩蔽单独接收部(28)的局部区域(16)，这个被掩蔽的局部区域(16)包括该单独接收部(28)的中心而侧向部分被暴露于由所述发射源发射的所述分子。
2.如权利要求1所述的沉积装置(20)，其中，眼科制品(10)的这些单独接收部(28)安排在同心轨道(30)中，并且该至少一个臂(34)被安排成面向该同心轨道(30)居中。
3.如权利要求1或2所述的沉积装置(20)，其中，该至少一个臂(34)是弯曲的、沿着相关联轨道(30)延伸。
4.如权利要求3所述的沉积装置(20)，其中，与该相关联轨道(30)成直角的该臂(34)的宽度被配置成使得该臂(34)在该相关联轨道(30)的这些眼科制品(10)上的投射印记具有与该相关联轨道(30)成直角的宽度(LB)，该宽度小于这些眼科制品(10)在其被该旋转支撑件(26)承载时的宽度(LA)，使得所述臂(34)阻止分子沉积在这些眼科制品(10)的中心部分(16)中并且允许分子沉积在这些眼科制品(10)的相对于该相关联轨道(30)安排在任一侧上的两个侧向部分(12，14)中。
5.如权利要求4所述的装置，其中，该臂(34)的宽度(LB)在与该轨道(30)成直角的方向上延伸并且小于旨在由该旋转支撑件(26)承载的这些眼科制品(10)的宽度(LA)。
6.如权利要求1、2、4和5中任一项所述的装置，其中，该掩模(32)针对该旋转支撑件(26)的每个轨道(30)包括臂(34)。
7.如权利要求4或5所述的装置，其中，与该相关联轨道(30)成直角的、该臂(34)在该相关联轨道(30)的这些眼科制品(10)上的投射印记的宽度(LB)介于由该旋转支撑件(26)承载的眼科制品(10)的宽度的60％与95％之间。
8.如权利要求7所述的装置，其中，与该相关联轨道(30)成直角的、该臂(34)在该相关联轨道(30)的这些眼科制品(10)上的投射印记的宽度(LB)介于由该旋转支撑件(26)承载的眼科制品(10)的宽度的80％与90％之间。
9.如权利要求8所述的装置，其中，与该相关联轨道(30)成直角的、该臂(34)在该相关联轨道(30)的这些眼科制品(10)上的投射印记的宽度(LB)为由该旋转支撑件(26)承载的眼科制品(10)的宽度的85％。
10.如权利要求3所述的装置，其中，每个臂(34)具有修圆的端部(38)。
11.如权利要求10所述的装置，其中，这些修圆的端部(38)的曲率半径对应于必须接收该涂层的眼科制品(10)的曲率半径。
12.如权利要求3所述的装置，其中，该掩模(32)包括中心部分(40)，该中心部分的形式被配置成补偿蒸发锥(24)在具有眼科制品(10)的接收部(28)的这些不同轨道(30)之间的非均匀性。
13.如权利要求12所述的装置，其中，对于具有接收部(28)的每个轨道(30)，该装置包括第一臂和第二臂(34)，该第一臂和该第二臂使该中心部分(40)在该中心部分(40)的两侧上对称地延伸。
14.如权利要求12或13所述的装置，其中，该中心部分(40)具有椭圆形或梯形形式。
15.如权利要求2、4、5、8、9至13中任一项所述的装置，其中，这些臂(34)的长度随着这些同心的相关联轨道(30)距该旋转支撑件(26)的旋转轴线(A)的距离而增加。
16.如权利要求12或13所述的装置，其中，考虑到中心部分(40)，这些成对的弯曲臂(34)的长度成角度地掩蔽圆的在60°与160°之间的区段。
17.如权利要求16所述的装置，其中，考虑到中心部分(40)，这些成对的弯曲臂(34)的长度成角度地掩蔽圆的在80°与140°之间的区段。
18.如权利要求12、13和17中任一项所述的装置，其中，这些臂(34)的端部(38)内接与该中心部分(40)的迹线相对应的形状。
19.如权利要求1、2、4、5、8、9至13和17中任一项所述的装置，其中，该旋转支撑件(26)具有所述凹形形式，使得眼科制品的接收部(28)与该发射源(22)等距地安排。
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