CN109952010A - 一种可电控重构的液晶基电磁防护膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种可电控重构的液晶基电磁防护膜，包括从上到下平行设置的第一柔性基片、孔阵图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、以及第二柔性基片，孔阵图案电极包括矩阵状分布的m*n个区块电极，每个区块电极包括多个单元孔，公共电极与孔阵图案电极具有完全相同的区块电极结构，公共电极中单元孔的尺寸小于孔阵图案电极中单元孔的尺寸，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极中与孔阵图案电极对应的区块电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号。本发明能够解决现有电磁防护材料中存在的无法随电磁波束的强度、入射方向等变化调节电磁反射或透射能力的技术问题。
Description
技术领域
本发明属于电磁辐射精密测量与控制技术领域，更具体地，涉及一种电磁反射率与透射率可电控重构的液晶基电磁防护膜及其制备方法。
背景技术
目前，为了提高电磁敏感装置的电磁防护性能，通常是通过在该电磁敏感装置的外表面布设功能化电磁防护材料(例如涂敷吸波材料)来实现。
然而，现有电磁防护材料存在一些不可忽略的缺陷：第一，现有电磁防护材料无法伴随着电磁波束的强度、入射方向、波前、偏振或频谱等的变化，调节电磁反射或透射能力；第二，现有电磁防护材料仅适用于特定电磁频段的电磁防护，从而具有窄谱性的缺点；第三、现有电磁防护材料结构复杂，成本高，且易受电磁环境或对抗性因素影响，因此普适性差；第四、现有电磁防护材料性能单一，无法同时适用于光学电磁防护与微波电磁防护。
发明内容
针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本发明提供了一种可电控重构的液晶基电磁防护膜及其制备方法，其目的在于，解决现有电磁防护材料中存在的无法随电磁波束的强度、入射方向、波前、偏振或频谱等的变化调节电磁反射或透射能力、仅仅适用于特定电磁频段、普适性差、以及无法同时用于光学电磁防护和微波电磁防护的技术问题。
为实现上述目的，按照本发明的一个方面，提供了一种可电控重构的液晶基电磁防护膜，包括从上到下平行设置的第一柔性基片、孔阵图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、以及第二柔性基片，孔阵图案电极包括矩阵状分布的m*n个区块电极，其中m和n都是整数，每个区块电极包括多个单元孔，公共电极为实心圆形或实心矩形，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极相对于孔阵图案电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号。
按照本发明的另一方面，提供了一种可电控重构的液晶基电磁防护膜，包括从上到下平行设置的第一柔性基片、孔阵图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、以及第二柔性基片，孔阵图案电极包括矩阵状分布的m*n个区块电极，其中m和n都是整数，每个区块电极包括多个单元孔，公共电极与孔阵图案电极具有完全相同的区块电极结构，公共电极中单元孔的尺寸小于孔阵图案电极中单元孔的尺寸，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极中与孔阵图案电极对应的区块电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号。
优选地，公共电极中阵列分布的单元孔的尺寸为纳米级。
优选地，孔阵图案电极中的多个单元孔是以同心多边形、同心圆形、或平行线的方式排列。
优选地，每个单元孔是具有几何中心的形状，包括正多边形、圆形、四角星形、纺锤形、十字形、或井字形。
优选地，单元孔是不具备几何中心的形状，包括多条平行直线、平行曲线、平行折线、或斜井字形。
优选地，第一柔性基片和第二柔性基片均是由柔性材料制成，其厚度为100微米到5毫米；液晶层的厚度在5微米到100微米之间。
优选地，当所述液晶基电磁防护膜用于雷达波时，孔阵图案电极中单元孔的尺寸为微米级；当所述液晶基电磁防护膜用于可见光和红外光时，孔阵图案电极中单元孔的尺寸是纳米级。
按照本发明的另一方面，提供了一种用于制备上述可电控重构的液晶基电磁防护膜的方法，包括以下步骤：
(1)依次采用丙酮、酒精和去离子水溶剂对第一柔性基片和第二柔性基片进行超声清洗并烘干；
(2)在干燥后的第一柔性基片和第二柔性基片的正面上用匀胶机涂覆正性或负性光刻胶，并烘干5至20分钟；
(3)将光刻版紧密盖在第一柔性基片和第二柔性基片上涂覆有光刻胶的一面上，用光刻机的紫外光进行光刻10至30秒，并经过显影、腐蚀和清洗处理；
(4)用显影液溶掉第一柔性基片和第二柔性基片上感光部分或未感光部分的光刻胶，留下未感光部分或感光部分，并用去离子水冲洗并烘干2至5分钟；
(5)用常规干法腐蚀工艺把第一柔性基片和第二柔性基片上未受光刻胶保护的金属氧化物腐蚀掉，而将有光刻胶保护的金属氧化物保存下来，从而分别在第一柔性基片上形成由金属氧化物孔构成的孔阵图案电极，并在第二柔性基片上形成由金属氧化物构成的公共电极；
(6)用丙酮和去离子水对腐蚀后的第一柔性基片上形成的孔阵图案电极和第二柔性基片上形成的公共电极上的残余材料进行清洗并烘干；
(7)用匀胶机分别在第一柔性基片上的孔阵图案电极和第二柔性基片上的公共电极上涂覆液晶定向层；
(8)把涂覆了液晶定向层的第一柔性基片和第二柔性基片放入退火炉中进行退火固化处理；
(9)沿平行于第一柔性基片和第二柔性基片的同向边缘的方向摩擦液晶定向层，以形成第一液晶定向层和第二液晶定向层；
(10)在第一柔性基片上无孔阵图案电极端面的另一侧端面上制作保护膜构成上电极板，并在第二柔性基片上无公共电极端面的另一侧端面上制作与上电极板同质的保护膜构成下电极板；
(11)将玻璃间隔子掺入上电极板的第一液晶定向层与下电极板的第二液晶定向层间，且位于二者的边缘处，用UV胶封住上电极板和下电极板的左右两侧，通过渗透法灌注向列型液晶在二者之间；
(12)用UV胶封住上电极板和下电极板的上下两侧并烘干。
优选地，公共电极为实心圆形或实心矩形，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极相对于孔阵图案电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号；或者
公共电极与孔阵图案电极具有完全相同的区块电极结构，公共电极中单元孔的尺寸小于孔阵图案电极中单元孔的尺寸，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极中与孔阵图案电极对应的区块电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号。
总体而言，通过本发明所构思的以上技术方案与现有技术相比，能够取得下列有益效果：
1、本发明通过将液晶层与高密度孔阵图案电极和公共电极耦合，能够基于入射电磁波场的幅度、相位、偏振、频率和波矢等特征参量，对电磁波场执行加电操控下的受控反射与透射；
2、本发明在电磁波束入射到高密度孔阵图案电极与液晶层的界面处时，将激励强的共振性表面波/表面等离激元，使特定频率的入射电磁能量转化为界面处的共振性稳定波场分布，从而执行可积累、可释放的电磁吸收；
3、本发明通过构建孔阵图案电极、公共电极与液晶膜的层化架构，能够形成基于电磁反射、透射与吸收物性的电控调变，以及基于电磁防护的电调重构；
4、本发明通过将微米/纳米特征尺寸的孔阵图案电极与纳米特征尺寸的公共电极耦合，实现光学与微波频段电磁辐射的一体化操控，并具有适用于宽频域电磁辐射的特点；
5、本发明通过可精密电驱控的液晶层执行介电参数调控，具有极高的结构、电学以及电磁参数的稳定性，并且控制精度高；
6、本发明的结构主体为封装在膜基片中的液晶层，其具有易与常规电磁敏感装置、光学及光电结构等匹配耦合的优点。
附图说明
图1是本发明可电控重构的液晶基电磁防护膜的结构示意图；
图2示出本发明可电控重构的液晶基电磁防护膜中单元孔阵图案电极的立体图；
图3是具有多个区块电极的孔阵图案电极的示意图；
图4是图3中每个区块电极所包括的多个单元孔是阵图案电极的示意图；
图5(a)到(f)示出孔以不同方式排列的孔阵图案电极的示意图，其中图5(a)中多个菱形孔以同心矩形排列，图5(b)中多个菱形孔以同心环形排列，图5(c)中多个菱形孔以平行线的方式排列；图5(d)中多个四角星形孔以同心环形排列，图5(e)中多个四角星形孔以同心矩形排列；图5(f)中多个四角星形孔以平行线的方式排列；
图6示出本发明可电控重构的液晶基电磁防护膜的工作原理图。
在所有附图中，相同的附图标记用来表示相同的元件或结构，其中：
1-第一柔性基片；2-孔阵图案电极；3-第一液晶定向层；4-液晶层；5-第二液晶定向层；6-公共电极；7-第二柔性基片。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。此外，下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
通常情况下，多个频段的电磁波场会驱使若干具有微/纳米特征尺寸的金属或石墨烯图案结构中的等离子态电子，产生特定形态的空间排布并通过集体振动这一方式在图案结构内诱导或激励次级电磁振荡，执行基于特殊微/纳图案结构感应、存储以及再发射电磁波场这一物理操作。其短暂与快速的电磁响应在纳秒甚至亚纳秒时域，感生波场强度可较常规电磁信号最大超过数千倍，并能以电控方式加以调节。也就是说，所响应的感测信号较常规模式最大高三个量级以上。换言之，紧密排布的特殊微/纳图案结构阵列，具有将电磁波场高灵敏感应、高增益存储、高稳定性排布以及再释放这一物性。呈现出一种将电磁波场通过感应方式高效耦合、共振性累积与受控发射这样的电磁操控模式。典型特征包括：(一)图案化微/纳结构在感测低强度电磁波场时，将表现出多种电磁共振模式共存特征，包括：LC共振、偶极子共振、等离子体共振等。基于电磁波场的幅度、相位、偏振、频率和波矢等特征参量，通过共振模式感应和再发射电磁信号；(二)基于低压电控方式对微/纳图案结构阵列的驱控电流、感应电场、共振信号强度等进行调控，可显著改变微/纳图案结构的电子学物性；(三)亚波长开口谐振结构能强烈共振感应电磁波场，如典型的毫米尺寸微带光学天线等。基于上述物理效应构建具有电控可重构特征的宽频域电磁辐射的感测和调节方法，将具备以下特征：超宽频(覆盖：可见光、红外及THz光、X波段、Ku波段及P波段电磁波等)，微/纳米尺度的小/微型化，低功耗电控电调，电磁操控具备高可重构性，强的可累加与可释放的等离子态共振波场等，在发展新型的宽频域可重构电磁防护材料方面显示技术发展优势。
如图1所示，本发明可电控重构的液晶基电磁防护膜包括从上到下平行设置的第一柔性基片1、孔阵图案电极2、第一液晶定向层3、液晶层4、第二液晶定向层5、公共电极6、以及第二柔性基片7。
第一柔性基片1和第二柔性基片7均是由塑料或树脂等类柔性材料制成，其典型厚度为100微米到5毫米。
孔阵图案电极2和公共电极6都是由金属氧化物(如ITO材料或石墨烯膜等)制成，其典型厚度在50纳米至800纳米范围内。
液晶层4的典型厚度在5微米到100微米之间。
如图3所示，孔阵图案电极2包括矩阵状分布的m*n个区块电极，其中m和n都是大于或等于1的整数，每个区块电极包括多个单元孔(如图4所示)。
图2示出的是孔阵图案电极2仅仅包括1个区块电极的情况(即m和n的取值都为1)，从图2上可以看出该孔阵图案电极2所包括的多个单元孔是以平行线的方式排列，且均为四角星形。
在本发明的一种实施方式中，公共电极6为实心圆形或实心矩形，一根金属线从孔阵图案电极2的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极6相对于孔阵图案电极2的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号Ui,j，其中i表示该区块电极在孔阵图案电极2中的行号，其取值是1到m之间，j表示该该区块电极在孔阵图案电极2中的列号，其取值是1到n之间。从图3中可以清晰地看到，从孔阵图案电极2中第1行、第1列的区块电极上引出的金属线连接到外部电压信号U11，从孔阵图案电极2中第2行、第1列的区块电极上引出的金属线连接到外部电压信号U21,…，以此类推。
在本发明的另一种实施方式中，公共电极6与孔阵图案电极2具有完全相同的区块电极结构(图中未示出)，即公共电极6也包括m*n个呈矩阵状分布的区块电极，每个区块电极中单元孔的分布和形状也与孔阵图案电极2完全相同，但公共电极6中单元孔的尺寸小于孔阵图案电极2中单元孔的尺寸。
具体而言，公共电极6中阵列分布的单元孔的尺寸为纳米级，而孔阵图案电极2中单元孔的尺寸为微米至纳米级，当本发明用于雷达波时，孔阵图案电极2中单元孔的尺寸为微米级，当本发明用于可见光和红外光时，孔阵图案电极2中单元孔的尺寸是纳米级。
一根金属线从孔阵图案电极2的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极6中与孔阵图案电极2对应的区块电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号Ui,j，其中i表示该区块电极在孔阵图案电极2中的行号，其取值是1到m之间，j表示该该区块电极在孔阵图案电极2中的列号，其取值是1到n之间。从图3中可以清晰地看到，从孔阵图案电极2中第1行、第1列的区块电极上引出的金属线连接到外部电压信号U11，从孔阵图案电极2中第2行、第1列的区块电极上引出的金属线连接到外部电压信号U21,…，以此类推。
孔阵图案电极中的多个单元孔是以同心多边形、同心圆形、或平行线的方式排列，图5(a)到(f)中示出了多个以同心矩形、同心圆、以及平行线方式排列的孔结构，但应理解本发明并不局限于此。需要注意的是，在图5中，出于简要描述的目的，仅仅示出了最外层孔的排布方式，其内层的孔排布与最外层安全相同，在图中没有一一示出。
单元孔可以是具有几何中心的形状，例如，正多边形(例如三角形、菱形、正方形、五边形、六边形等)、圆形、四角星形、纺锤形、十字形、井字形等。
单元孔也可以是不具备几何中心的形状，例如多条平行直线、平行曲线、平行折线、斜井字形等。
图6示出了本发明可电控重构的液晶基电磁防护膜的工作原理，其具体为：入射光波在液晶与孔阵图案电极以及公共电极的界面处分别激励特定频率的共振性表面波，并进一步通过液晶的介电作用在特定方向上产生所需要的反射波和透射波，通过调变液晶材料的介电行为对反射波和透射波的强度和偏振等进行调节。
根据本发明的另一个方面，提供了一种用于制备上述可电控重构的液晶基电磁防护膜的方法，包括以下步骤：
(1)清洗过程：依次采用丙酮、酒精和去离子水溶剂对第一柔性基片和第二柔性基片进行超声清洗并烘干。
(2)涂胶过程：在干燥后的第一柔性基片和第二柔性基片的正面上用匀胶机涂覆正性光刻胶(或负性光刻胶)并烘干5至20分钟。
(3)光刻过程：将特定光刻版紧密盖在第一柔性基片和第二柔性基片上涂覆有光刻胶的一面，用光刻机的紫外光进行光刻10至30秒，并经过显影、腐蚀和清洗处理。
(4)显影过程：用显影液溶掉第一柔性基片和第二柔性基片上感光部分的光刻胶(或未感光部分的光刻胶)，留下未感光部分(或感光部分)，然后用去离子水冲洗并烘干2至5分钟。
(5)腐蚀过程：用常规干法腐蚀工艺把第一柔性基片和第二柔性基片上未受光刻胶保护的金属氧化物(如ITO或石墨烯膜)腐蚀掉，而将有光刻胶保护的金属氧化物(如ITO或石墨烯膜)保存下来，从而分别在第一柔性基片上形成由金属氧化物(如ITO或石墨烯)孔构成的孔阵图案电极，并在第二柔性基片上形成由金属氧化物(如ITO膜或石墨烯膜)构成的公共电极。
具体而言，孔阵图案电极上的孔可为圆形或矩形等，典型的圆形孔其孔径在几十到几个微米尺度，通过一根与孔阵图案电极的金属氧化物如ITO膜相连的细导线引出；第二柔性基片上的电极既可为纳孔阵图案电极，纳孔同样可为圆形或矩形等，典型的圆形纳孔其孔径在几百纳米到几十纳米尺度，同样通过一根与纳孔图案电极的金属氧化物如ITO膜相连的细导线引出，也可为具有百纳米厚度的均匀导电膜，同样通过一根与该膜相连的细导线引出。
(6)清洗过程：用丙酮和去离子水对腐蚀后的第一柔性基片上形成的孔阵图案电极和第二柔性基片上形成的公共电极上的残余材料进行清洗并烘干；
(7)涂覆定向层过程：用匀胶机分别在第一柔性基片上的孔阵图案电极和第二柔性基片上的公共电极上涂覆液晶定向层。
(8)烘干过程：把涂覆了液晶定向层的第一柔性基片和第二柔性基片放入退火炉中进行退火固化处理。
(9)摩擦过程：用绒布沿平行于第一柔性基片和第二柔性基片的同向边缘的方向摩擦液晶定向层，形成第一液晶定向层和第二液晶定向层，也可通过机械摩擦或压印法形成上述液晶定向层。
(10)电极板构建过程：在第一柔性基片上无孔阵图案电极端面的另一侧端面上制作保护膜构成上电极板，在第二柔性基片上无公共电极端面的另一侧端面上制作与上电极板同质的保护膜构成下电极板。
(11)灌注过程：将玻璃间隔子掺入上电极板的第一液晶定向层与下电极板的第二液晶定向层间，且位于二者的边缘处，用UV胶封住上电极板和下电极板的左右两侧，通过渗透法灌注向列型液晶在二者之间；
(12)封装过程：UV胶封住上电极板和下电极板的上下两侧并烘干。
本领域的技术人员容易理解，以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种可电控重构的液晶基电磁防护膜，包括从上到下平行设置的第一柔性基片、孔阵图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、以及第二柔性基片，其特征在于，
孔阵图案电极包括矩阵状分布的m*n个区块电极，其中m和n都是整数，每个区块电极包括多个单元孔；
公共电极为实心圆形或实心矩形，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极相对于孔阵图案电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号。
2.一种可电控重构的液晶基电磁防护膜，包括从上到下平行设置的第一柔性基片、孔阵图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、以及第二柔性基片，其特征在于，
孔阵图案电极包括矩阵状分布的m*n个区块电极，其中m和n都是整数，每个区块电极包括多个单元孔；
公共电极与孔阵图案电极具有完全相同的区块电极结构，公共电极中单元孔的尺寸小于孔阵图案电极中单元孔的尺寸；
一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极中与孔阵图案电极对应的区块电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号。
3.根据权利要求2所述的液晶基电磁防护膜，其特征在于，公共电极中阵列分布的单元孔的尺寸为纳米级。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的液晶基电磁防护膜，其特征在于，孔阵图案电极中的多个单元孔是以同心多边形、同心圆形、或平行线的方式排列。
5.根据权利要求1至3中任意一项所述的液晶基电磁防护膜，其特征在于，每个单元孔是具有几何中心的形状，包括正多边形、圆形、四角星形、纺锤形、十字形、或井字形。
6.根据权利要求1至3中任意一项所述的液晶基电磁防护膜，其特征在于，单元孔是不具备几何中心的形状，包括多条平行直线、平行曲线、平行折线、或斜井字形。
7.根据权利要求1至3中任意一项所述的液晶基电磁防护膜，其特征在于，
第一柔性基片和第二柔性基片均是由柔性材料制成，其厚度为100微米到5毫米；
液晶层的厚度在5微米到100微米之间。
8.根据权利要求1至3中任意一项所述的液晶基电磁防护膜，其特征在于，
当所述液晶基电磁防护膜用于雷达波时，孔阵图案电极中单元孔的尺寸为微米级；
当所述液晶基电磁防护膜用于可见光和红外光时，孔阵图案电极中单元孔的尺寸是纳米级。
9.一种用于制备上述权利要求1至8中任意一项所述的可电控重构的液晶基电磁防护膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)依次采用丙酮、酒精和去离子水溶剂对第一柔性基片和第二柔性基片进行超声清洗并烘干；
(2)在干燥后的第一柔性基片和第二柔性基片的正面上用匀胶机涂覆正性或负性光刻胶，并烘干5至20分钟；
(3)将光刻版紧密盖在第一柔性基片和第二柔性基片上涂覆有光刻胶的一面上，用光刻机的紫外光进行光刻10至30秒，并经过显影、腐蚀和清洗处理；
(4)用显影液溶掉第一柔性基片和第二柔性基片上感光部分或未感光部分的光刻胶，留下未感光部分或感光部分，并用去离子水冲洗并烘干2至5分钟；
(5)用常规干法腐蚀工艺把第一柔性基片和第二柔性基片上未受光刻胶保护的金属氧化物腐蚀掉，而将有光刻胶保护的金属氧化物保存下来，从而分别在第一柔性基片上形成由金属氧化物孔构成的孔阵图案电极，并在第二柔性基片上形成由金属氧化物构成的公共电极；
(6)用丙酮和去离子水对腐蚀后的第一柔性基片上形成的孔阵图案电极和第二柔性基片上形成的公共电极上的残余材料进行清洗并烘干；
(7)用匀胶机分别在第一柔性基片上的孔阵图案电极和第二柔性基片上的公共电极上涂覆液晶定向层；
(8)把涂覆了液晶定向层的第一柔性基片和第二柔性基片放入退火炉中进行退火固化处理；
(9)沿平行于第一柔性基片和第二柔性基片的同向边缘的方向摩擦液晶定向层，以形成第一液晶定向层和第二液晶定向层；
(10)在第一柔性基片上无孔阵图案电极端面的另一侧端面上制作保护膜构成上电极板，并在第二柔性基片上无公共电极端面的另一侧端面上制作与上电极板同质的保护膜构成下电极板；
(11)将玻璃间隔子掺入上电极板的第一液晶定向层与下电极板的第二液晶定向层间，且位于二者的边缘处，用UV胶封住上电极板和下电极板的左右两侧，通过渗透法灌注向列型液晶在二者之间；
(12)用UV胶封住上电极板和下电极板的上下两侧并烘干。
10.根据权利要求9所述的可电控重构的液晶基电磁防护膜的方法，其特征在于，
公共电极为实心圆形或实心矩形，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极相对于孔阵图案电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号；或者
公共电极与孔阵图案电极具有完全相同的区块电极结构，公共电极中单元孔的尺寸小于孔阵图案电极中单元孔的尺寸，一根金属线从孔阵图案电极的每一个区块电极的一侧引出，另一根金属线从公共电极中与孔阵图案电极对应的区块电极的同一侧引出，两根金属线共同连接到外部电压信号。
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| CN104330931A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-02-04 | 华中科技大学 | 一种红外液晶相控阵芯片 |
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2018
- 2018-09-26 CN CN201811120395.3A patent/CN109952010B/zh active Active
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|---|---|---|---|---|
| JP2000056393A (ja) * | 1999-07-21 | 2000-02-25 | Hitachi Ltd | 表示装置、表示素子及びマイクロレンズアレイ |
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