CN109940746A - 一种用于瓷砖生产设备的施釉装置 - Google Patents
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Abstract
一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，包括喷枪，喷枪具有喷嘴，喷嘴包括第一本体（1）、第二本体（2）、连接元件（3）、流体通道（4）、混合振荡腔（5）、出口部（6）、螺旋转子（7）、气体通道，流体通道、混合振荡腔、出口部沿流体流向依次设置，其特征在于：混合振荡腔（5）内设有螺旋转子（7），螺旋转子包括螺旋叶片（71）、转轴，螺旋叶片设置于转轴外周，转轴的两端通过轴承（72）与导流架（10）连接，两个导流架分别位于第一本体、第二本体上。通过螺旋转子与进气孔的设计，釉液/液体在混合振荡腔内雾化为更微小的雾化喷雾，雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定，从而提高喷釉良品率、原料利用率。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷、瓷砖制造工艺技术领域，具体为一种用于陶瓷、瓷砖生产设备的施釉装置。
背景技术
喷釉是现代陶瓷、瓷砖施釉技术手段之一，常用喷枪或喷雾器使釉液/釉浆雾化喷到坯体表面，该施釉方式适合大规模、复杂化的生产。但现有的喷涂装置存在雾化不均匀、不稳定、原料利用率低、喷釉良品率低的问题。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，解决了喷涂装置存在雾化不均匀、不稳定、原料利用率低、喷釉良品率低的问题。
该一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，通过螺旋转子与进气孔的设计，釉液/液体在混合振荡腔内雾化为更微小的雾化喷雾，雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定，从而提高喷釉良品率、原料利用率。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为 ：
一种用于瓷砖生产设备的施釉装置/喷雾装置，包括喷枪、料源、气源，喷枪通过供给管线与料源、气源连接，喷枪具有喷嘴，喷嘴包括第一本体（1）、第二本体（2）、连接元件（3）、流体通道（4）、混合振荡腔（5）、出口部（6）、螺旋转子（7）、气体通道，第一本体与第二本体通过定位件定位并通过连接元件连接固定，流体通道、混合振荡腔、出口部沿流体流向依次设置，其特征在于：混合振荡腔（5）内设有螺旋转子（7），螺旋转子包括螺旋叶片（71）、转轴，螺旋叶片设置于转轴外周，转轴的两端通过轴承（72）与导流架（10）连接，两个导流架分别位于第一本体、第二本体上。
进一步地，所述流体通道依次包括第一直径段（41）、第一锥形段（42）、第二直径段（43）。
进一步地，所述出口部依次包括第二锥形段（61）、第三直径段（62）、第三锥形段（63），气体通道位于混合振荡腔径向外周。
进一步地，所述螺旋叶片的螺距（P）不等，且沿流体流动方向依次减小。
进一步地，所述气体通道通过多个进气孔（8）与混合振荡腔连通，进气孔相对于喷嘴中心轴线倾斜设置。
进一步地，所述出口部的径向外周的气体通道部分为倾斜段，该倾斜段内设有多个旋流片（9），旋流片与径向之间具有一锐角夹角。
进一步地，所述导流架包括多个导流部，该导流部与导流部之间形成流通通道，导流部的前端与后端都形成流线型导流部（11）。
进一步地，所述喷嘴的出口端面与旋流片（9）的出口端面之间具有轴向距离X2，喷嘴的出口端面与出口部的第三锥形段（63）的出口端面之间具有轴向距离X1，X1≠X2。
进一步地，所述X1<X2，且X1=（0.35-0.65）X2。
该一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，釉液/液体经过流体通道汇集加速后经导流架进入混合振荡腔，液体推动螺旋转子旋转，液体在螺旋转子的作用下，在螺旋转子、混合振荡腔上碰撞、振荡分裂为更微小的微滴，微滴尺寸小、均匀化程度高；同时压缩气体经多个进气孔进入，多个进气孔用于气液的混合并辅助冲击螺旋转子旋转，进一步提高液体的碰撞、振荡速度、冲击力分量，形成精细化雾化喷雾。通过螺旋转子与进气孔的设计，釉液/液体在混合振荡腔内雾化为更微小的雾化喷雾，雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定，从而提高喷釉良品率、原料利用率。
附图说明
图1为本发明喷嘴结构图；
图2为本发明螺旋转子结构图；
图3为本发明喷嘴结构图；
图4为本发明旋流片结构图；
图5为本发明导流架结构图；
图6为本发明导流架截面（P-P截面）结构图。
图中：第一本体1、第二本体2、连接元件3、流体通道4、混合振荡腔5、出口部6、螺旋转子7、进气孔8、旋流片9、导流架10、流线型导流部11、第一直径段41、第一锥形段42、第二直径段43、第二锥形段61、第三直径段62、第三锥形段63、螺旋叶片71、轴承72、釉液/液料L、压缩气体Air。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
下面结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图1-6所示，一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，包括喷枪、料源、气源，喷枪通过供给管线与料源、气源连接，喷枪具有喷嘴，喷嘴包括第一本体1、第二本体2、连接元件3、流体通道4、混合振荡腔5、出口部6、螺旋转子7、气体通道，第一本体1与第二本体2通过定位件定位（未示出），并通过连接元件3（如螺旋套、卡紧密封套）连接固定，流体通道4、混合振荡腔5、出口部6沿流体流向依次设置。流体通道4依次包括第一直径段41、第一锥形段42、第二直径段43，混合振荡腔5内设有螺旋转子7；螺旋转子7包括螺旋叶片71、转轴，螺旋叶片71设置于转轴外周，转轴的两端通过轴承72与导流架10连接，两个导流架10分别位于第一本体1、第二本体2上；出口部6依次包括第二锥形段61、第三直径段62、第三锥形段63，第二锥形段61与喷嘴中心轴线的夹角为35-45°，气体通道位于混合振荡腔5径向外周。混合振荡腔5的直径大于第二直径段43、第二锥形段61的直径。
参见图2，螺旋叶片71的螺距P不等，沿流体流动方向依次减小。气体通道通过多个进气孔8与混合振荡腔5连通，进气孔8相对于喷嘴中心轴线倾斜设置，它们的夹角为30-60°，多个进气孔8用于气液的混合并辅助冲击螺旋转子7旋转。出口部6的径向外周的气体通道部分为倾斜段，该倾斜段内设有多个旋流片9，参见附图4，在径向截面中，旋流片9与径向之间具有一锐角夹角，优选地，30-60°，旋流片9为直板型旋流片9。
参见图5-6，导流架10包括多个（四个）导流部，导流部与导流部之间形成流体通道，导流部的前端与后端都形成流线型导流部11，流线型导流部11关于导流部轴对称设置。
釉液/液体经过流体通道4汇集加速后经导流架10进入混合振荡腔5，液体推动螺旋转子7旋转，液体在螺旋转子7的作用下，在螺旋转子7、混合振荡腔5上碰撞、振荡分裂为更微小的微滴，微滴尺寸小、均匀化程度高；同时压缩气体经多个进气孔8进入，多个进气孔8用于气液的混合并辅助冲击螺旋转子7旋转，进一步提高液体的碰撞、振荡速度、冲击力分量，形成精细化雾化喷雾。通过螺旋转子7与进气孔8的设计，釉液/液体在混合振荡腔5内雾化为更微小的雾化喷雾，雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定，从而提高喷釉良品率。
参见图3，喷嘴的出口端面与旋流片9的出口端面之间具有轴向距离X2，喷嘴的出口端面与出口部6的第三锥形段63的出口端面之间具有轴向距离X1，X1<X2，优选地X1=（0.35-0.65）X2。通过该轴向距离X1、轴向距离X2的设置能够减少釉液/液体的飞溅量，尽可能地雾化全部被喷射出的液体，从而节约原料。
该一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，通过螺旋转子7与进气孔8的设计，釉液/液体在混合振荡腔5内雾化为更微小的雾化喷雾，雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定，从而提高喷釉良品率、原料利用率。
上述实施方式是对本发明的说明，不是对本发明的限定，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的保护范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (9)
1.一种于瓷砖生产设备的施釉装置，包括喷枪、料源、气源，喷枪通过供给管线与料源、气源连接，喷枪具有喷嘴，喷嘴包括第一本体（1）、第二本体（2）、连接元件（3）、流体通道（4）、混合振荡腔（5）、出口部（6）、螺旋转子（7）、气体通道，第一本体与第二本体通过定位件定位并通过连接元件连接固定，流体通道、混合振荡腔、出口部沿流体流向依次设置，其特征在于：混合振荡腔（5）内设有螺旋转子（7），螺旋转子包括螺旋叶片（71）、转轴，螺旋叶片设置于转轴外周，转轴的两端通过轴承（72）与导流架（10）连接，两个导流架分别位于第一本体、第二本体上。
2.根据权利要求1所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述流体通道依次包括第一直径段（41）、第一锥形段（42）、第二直径段（43）。
3.根据权利要求2所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述出口部依次包括第二锥形段（61）、第三直径段（62）、第三锥形段（63），气体通道位于混合振荡腔径向外周。
4.根据权利要求1所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述螺旋叶片的螺距（P）不等，且沿流体流动方向依次减小。
5.根据权利要求4所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述气体通道通过多个进气孔（8）与混合振荡腔连通，进气孔相对于喷嘴中心轴线倾斜设置。
6.根据权利要求1所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述出口部的径向外周的气体通道部分为倾斜段，该倾斜段内设有多个旋流片（9），旋流片与径向之间具有一锐角夹角。
7.根据权利要求6所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述导流架包括多个导流部，该导流部与导流部之间形成流通通道，导流部的前端与后端都形成流线型导流部（11）。
8.根据权利要求1所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述喷嘴的出口端面与旋流片（9）的出口端面之间具有轴向距离X2，喷嘴的出口端面与出口部的第三锥形段（63）的出口端面之间具有轴向距离X1，X1≠X2。
9.根据权利要求8所述的一种用于瓷砖生产设备的施釉装置，其特征在于，所述X1<X2，且X1=（0.35-0.65）X2。
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