CN109930114A - 一种耐磨镜片镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种耐磨镜片镀膜方法，包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜：分别对双面镀第一膜层、分别对双面镀第二膜层、分别对双面镀第三膜层、分别对双面镀第四膜层、分别对双面镀第五膜层和分别对双面镀第六膜层。本发明的镜片镀有多个膜层，不仅能够有效地提升清晰度、防炫目、防蓝光，而且对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，能有效缓解视觉疲劳，若干层二氧化硅层和高硬度层的设置，大大提高了镜片的耐磨性能。
Description
技术领域
本发明涉及一种镜片技术领域，尤其是涉及一种耐磨镜片镀膜方法。
背景技术
随着人们文化、生活水平的不断提高，视力保健工作的开展，眼镜作为矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件，在人们生活领域中发挥了重要的作用。眼镜通常是由镜片和镜架组成，从镜片的功能上讲，它具有调节进入眼睛之光量，增加视力，保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。
目前镜片的种类繁多，如目前常见的TAC偏光镜片，其可100％阻隔有害光线，因此颇受消费者的青睐，特别适于户外运动使用，然而，在运动过程中镜片难免发生刮擦，因此镜片的耐磨程度也是消费者选购的一个考虑因素，目前市售的TAC 偏光镜片，其表面的硬度只能达到H，其耐磨性为1.5 级，很容易被硬物刮花或摔坏，影响使用者观察事物的效果，既给使用者带来不便，而且还需经常更换，增加使用成本，有待改进。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种具有防雾功能的耐磨镜片镀膜方法。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种耐磨镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第五膜层均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层和第四膜层均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为20-40nm；所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、分别对双面镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
B、分别对双面镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
C、分别对双面镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、分别对双面镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、分别对双面镀第五膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、分别对双面镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。
所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、分别对双面镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
B、分别对双面镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
C、分别对双面镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、分别对双面镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、分别对双面镀第五膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、分别对双面镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将单质存在的高纯度金属、金属合金或其它氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基片上真空蒸镀有若干层五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在镜片基片上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基片上真空蒸镀有若干层二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明采用以上技术方案，金属层的设计，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明的二氧化硅层、五氧化三钛层和金属层相互配合，主要起到控制过滤蓝光的效果，同时增加耐磨性；在镜片基片内、外表面蒸镀若干交替设置的二氧化硅层和五氧化三钛层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激；本发明在基片内、外表面上设置高硬度层，有效提高了镜片的耐磨性，可以防止其刮花；本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是镜片镀膜防雾的核心技术，同时具有过滤蓝光和防炫目功能。
本发明的镜片基片由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的镜片基片由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs。本发明的镜片镀有多个膜层，不仅能够有效地提升清晰度、防炫目、防蓝光，而且对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，能有效缓解视觉疲劳，若干层二氧化硅层和高硬度层的设置，大大提高了镜片的耐磨性能。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明耐磨镜片镀膜方法的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明的耐磨镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片1，所述基片1的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6和第六膜层7；所述第一膜层2和第五膜层6均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层3和第四膜层5均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层4为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层7为高硬度层，厚度为20-40nm；所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、分别对双面镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
B、分别对双面镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
C、分别对双面镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、分别对双面镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、分别对双面镀第五膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、分别对双面镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。
所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、分别对双面镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
B、分别对双面镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
C、分别对双面镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、分别对双面镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、分别对双面镀第五膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、分别对双面镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将单质存在的高纯度金属、金属合金或其它氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基片上真空蒸镀有若干层五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在镜片基片上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基片上真空蒸镀有若干层二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明采用以上技术方案，金属层的设计，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明的二氧化硅层、五氧化三钛层和金属层相互配合，主要起到控制过滤蓝光的效果，同时增加耐磨性；在镜片基片内、外表面蒸镀若干交替设置的二氧化硅层和五氧化三钛层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激；本发明在基片内、外表面上设置高硬度层，有效提高了镜片的耐磨性，可以防止其刮花；本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是镜片镀膜防雾的核心技术，同时具有过滤蓝光和防炫目功能。
本发明的镜片基片由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的镜片基片由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs。
以上描述不应对本发明的保护范围有任何限定。
Claims (3)
1.一种耐磨镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第五膜层均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层和第四膜层均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为20-40nm；其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、分别对双面镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
B、分别对双面镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
C、分别对双面镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、分别对双面镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、分别对双面镀第五膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、分别对双面镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。
2.根据权利要求1所述的一种耐磨镜片镀膜方法，其特征在于：所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；
A、分别对双面镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
B、分别对双面镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
C、分别对双面镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、分别对双面镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、分别对双面镀第五膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、分别对双面镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。
3.根据权利要求1或者2所述的一种耐磨镜片镀膜方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。
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