CN109765705B - 隔垫物高度测量装置及隔垫物高度测量方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种隔垫物高度测量装置及隔垫物高度测量方法。所述隔垫物高度测量装置包括：测量镜头及与所述测量镜头相连的校正模块；所述测量镜头用于按照测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度；所述校正模块用于在测量镜头拍摄隔垫物并测量隔垫物的高度的同时，对所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头中的位置及所述隔垫物在测量镜头中的清晰度，通过在隔垫物高度测量的同时进行自动校正测量算法，能够有效减少算法校正时间，提升生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种隔垫物高度测量装置及隔垫物高度测量方法。
背景技术
液晶显示装置(LCD，Liquid Crystal Display)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。通常液晶显示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶体管基板(TFT，Thin Film Transistor)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成。其中，液晶层厚度即盒厚(Cell Gap)主要通过设置在阵列基板和彩膜基板之间的隔垫物(Photo Spacer，PS)的高度来进行控制，液晶层厚度对液晶显示装置的结构参数和显示质量有重要的影响。
目前使用的隔垫物一般通过掩膜、光刻等工艺形成在彩膜基板上的黑矩阵上；在彩膜基板和薄膜晶体管基板对盒后即形成液晶显示面板，处于彩膜基板和薄膜晶体管基板之间的隔垫物对上述两个基板进行支撑以及缓冲作用，从而维持预定的盒厚，保证画面显示的稳定。目前，大尺寸高分辨率的电视越来越受到消费者青睐。在大尺寸液晶显示面板中，通常会使用两种类型以上的隔垫物，如在在彩膜基板上设置主隔垫物(Main PS)、及辅助隔垫物(Sub PS)，起到多级缓冲的作用，以防止各种Mura或者不良的发生。其中，主隔垫物的高度大于辅助隔垫物的高度，辅助隔垫物的数量大于主隔垫物的数量，两者需要通过不同工艺形成。当液晶面板成盒后，主隔垫物会有一定的压缩量，支撑盒厚，处于压缩状态，而辅助隔垫物没有压缩量。当液晶面板受到过大外力的时候，辅助隔垫物才被压缩，起到辅助支撑作用。
隔垫物高度测量装置(PS Height，PSH)主要负责显示面板的隔垫物的高度进行量测。受PSH机台的3D量测原理限制，在PSH长时间未量测某一类型的产品后，再次量测该类型的产品时，采用原有的测量算法(Recipe)进行量测时，会出现隔垫物在测量镜头中图像变得模糊，或在测量镜头中的位置出现偏移，甚至超出测量镜头的拍摄范围的情况，因此，在PSH对长期未测的某一类型的产品再次进行量测时，均需要人工手动调整测量算法，以保证测量的准确性，且人工手动调整测量算法的过程需要停机进行，效率很低，严重影响生产效率，造成产能损失。
发明内容
本发明的目的在于提供一种隔垫物高度测量装置，能够通过在隔垫物高度测量的同时通过自动校正测量算法，有效减少算法校正时间，提升生产效率。
本发明的目的还在于提供一种隔垫物高度测量方法，能够通过在隔垫物高度测量的同时通过自动校正测量算法，有效减少算法校正时间，提升生产效率。
为实现上述目的，本发明提供了一种隔垫物高度测量装置，包括：测量镜头及与所述测量镜头相连的校正模块；
所述测量镜头用于按照测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度；
所述校正模块用于在测量镜头拍摄隔垫物并测量隔垫物的高度的同时，对所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头中的位置及所述隔垫物在测量镜头中的清晰度。
所述隔垫物高度测量装置还包括与所述校正模块相连的控制模块；
所述控制模块用于接收控制信号，并根据控制信号控制所述校正模块开始工作或停止工作。
所述隔垫物高度测量装置还包括与所述校正模块及测量镜头相连的存储模块；
所述存储模块用于存储测量算法；
所述测量镜头还用于从所述存储模块获取测量算法；
所述校正模块还用于将经过校正后的测量算法保存到存储模块中替代校正前的测量算法。
所述校正模块对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头中的位置更靠近测量镜头的中心。
所述校正模块对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头中的清晰度更高。
本发明还提供一种隔垫物高度测量方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供隔垫物高度测量装置，包括：测量镜头及与所述测量镜头相连的校正模块；
步骤S2、所述测量镜头按照预设的测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度，同时所述校正模块对所述预设的测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头中的位置及所述隔垫物在测量镜头中的清晰度。
所述步骤S1中所述隔垫物高度测量装置还包括与所述校正模块相连的控制模块；
所述步骤S2中还包括通过所述控制模块接收控制信号，并根据控制信号控制所述校正模块开始工作或停止工作。
所述步骤S1中还包括与所述校正模块及测量镜头相连的存储模块，所述存储模块中存储有测量算法；
所述步骤S2中还包括所述测量镜头从所述存储模块获取的测量算法，以及所述校正模块将经过校正后的测量算法保存到所述存储模块中替代校正前的测量算法。
所述步骤S2中所述校正模块对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头中的位置更靠近测量镜头的中心。
所述步骤S2中所述校正模块对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头中的清晰度更高。
本发明的有益效果：本发明提供了一种隔垫物高度测量装置，包括：测量镜头及与所述测量镜头相连的校正模块；所述测量镜头用于按照测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度；所述校正模块用于在测量镜头拍摄隔垫物并测量隔垫物的高度的同时，对所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头中的位置及所述隔垫物在测量镜头中的清晰度，通过在隔垫物高度测量的同时进行自动校正测量算法，能够有效减少算法校正时间，提升生产效率。本发明还提供一种隔垫物高度测量方法，能够有效减少算法校正时间，提升生产效率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的隔垫物高度测量装置的示意图；
图2为本发明的隔垫物高度测量方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种隔垫物高度测量装置，包括：测量镜头10及与所述测量镜头10相连的校正模块20；
所述测量镜头10用于按照测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度；
所述校正模块20用于在测量镜头10拍摄隔垫物并测量隔垫物的高度的同时，对所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头10中的位置及所述隔垫物在测量镜头10中的清晰度。
具体地，所述隔垫物高度测量装置还包括与所述校正模块20相连的控制模块30；所述控制模块30用于接收控制信号，并根据控制信号控制所述校正模块20开始工作或停止工作。
详细地，通过设置一控制按键向所述控制模块30发送控制信号，当所述控制按键被按下时，向所述控制模块30发送控制所述校正模块20开始工作的控制信号，当所述控制按键未被按下，向所述控制模块30发送控制所述校正模块20停止工作的控制信号。
进一步地，所述隔垫物高度测量装置，还包括与所述校正模块20及测量镜头10相连的存储模块40；所述存储模块40用于存储测量算法；所述测量镜头10还用于从所述存储模块40获取测量算法；所述校正模块20还用于将经过校正后的测量算法保存到存储模块40中替代校正前的测量算法。
进一步地，所述校正模块20保存校正后的测量算法之前还需要经过保存确认，并在保存确认通过时保存校正后的测量算法，否则不保存所述校正后的测量算法，所述存储模块40中仍采用校正前的测量算法，以防止校正出错，导致测量错误。
需要说明的是，所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正的目的为：在所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头10中的位置更靠近测量镜头10的中心；以及在所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头10中的清晰度更高。
进一步地，本发明的隔垫物高度测量装置的详细过程包括：提供一待测量的隔垫物，先按下控制按键，所述控制模块30控制所述校正模块20开始工作，随后测量镜头10拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度，同时所述校正模块20所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头10中的位置及所述隔垫物在测量镜头10中的清晰度，接着操作人员对校正后的测量算法进行保存确认，若校正成功，则操作人员通过保存确认，所述校正模块20将经过校正后的测量算法保存到存储模块40中替代校正前的测量算法，若校正不成功，则操作人员不通过保存确认，所述存储模块40中仍存储校正前的测量算法；接着，无论是否保存校正后的算法，所述隔垫物高度测量装置均会结束当前待测量的隔垫物的测量，并开始下一个待测量的隔垫物的测量，且在下一个待测量的隔垫物的测量开始前，会向操作人员确认是否需要在下一个待测量的隔垫物的高度测量的同时继续进行测量算法的校正，若操作人员确认需要，则校正模块20继续工作，重复上述测量及校正的过程，若操作人员确认不需要，则进行常规测量环节，测量镜头10直接根据存储模块40中存储的测量算法进行测量，校正模块20停止工作，通常情况下，操作人员会在校正后的测量算法能够稳定且准确的得出测量结果时，停止校正，进入常规测量操作。
从而，本发明的隔垫物高度测量装置在对长期未测的某一类型的产品再次进行量测时，能够在高度测量的同时自动完成测量算法的校正，相比于现有技术，无需停机，也无需人工手段调整测试算法，能够有效减少算法校正时间，尤其是减少长期未测的某一类型的产品的第一次测量所需要的时间，大幅提升生产效率。
请参阅图2，本发明提供一种隔垫物高度测量方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供隔垫物高度测量装置，包括：测量镜头10及与所述测量镜头10相连的校正模块20。
具体地，所述步骤S1中所述隔垫物高度测量装置还包括与所述校正模块20相连的控制模块30以及与所述校正模块20及测量镜头10相连的存储模块40。
进一步地，所述存储模块40中存储有测量算法；
步骤S2、所述测量镜头10按照预设的测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度，同时所述校正模块20对所述预设的测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头10中的位置及所述隔垫物在测量镜头10中的清晰度。
具体地，所述步骤S2中还包括通过所述控制模块30接收控制信号，并根据控制信号控制所述校正模块20开始工作或停止工作。
进一步地，所述步骤S2中还包括所述测量镜头10从所述存储模块40获取的测量算法，以及所述校正模块20将经过校正后的测量算法保存到所述存储模块40中替代校正前的测量算法。
进一步地，所述校正模块20保存校正后的测量算法之前还需要经过保存确认，并在保存确认通过时保存校正后的测量算法，否则不保存所述校正后的测量算法，所述存储模块40中仍采用校正前的测量算法，以防止校正出错，导致测量错误。
需要说明的是，所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正的目的为：在所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头10中的位置更靠近测量镜头10的中心；以及在所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头10中的清晰度更高。
需要说明的是，所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正的目的为：在所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头10中的位置更靠近测量镜头10的中心；以及在所述校正模块20对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头10中的清晰度更高。
进一步地，本发明的隔垫物高度测量方法的详细过程包括：提供一待测量的隔垫物，先按下控制按键，所述控制模块30控制所述校正模块20开始工作，随后测量镜头10拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度，同时所述校正模块20所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头10中的位置及所述隔垫物在测量镜头10中的清晰度，接着操作人员对校正后的测量算法进行保存确认，若校正成功，则操作人员通过保存确认，所述校正模块20将经过校正后的测量算法保存到存储模块40中替代校正前的测量算法，若校正不成功，则操作人员不通过保存确认，所述存储模块40中仍存储校正前的测量算法；接着，无论是否保存校正后的算法，所述隔垫物高度测量装置均会结束当前待测量的隔垫物的测量，并开始下一个待测量的隔垫物的测量，且在下一个待测量的隔垫物的测量开始前，会向操作人员确认是否需要在下一个待测量的隔垫物的高度测量的同时继续进行测量算法的校正，若操作人员确认需要，则校正模块20继续工作，重复上述测量及校正的过程，若操作人员确认不需要，则进行常规测量环节，测量镜头10直接根据存储模块40中存储的测量算法进行测量，校正模块20停止工作，通常情况下，操作人员会在校正后的测量算法能够稳定且准确的得出测量结果时，停止校正，进入常规测量操作。
从而，本发明的隔垫物高度测量方法在对长期未测的某一类型的产品再次进行量测时，能够在高度测量的同时自动完成测量算法的校正，相比于现有技术，无需停机，也无需人工手段调整测试算法，能够有效减少算法校正时间，尤其是减少长期未测的某一类型的产品的第一次测量所需要的时间，大幅提升生产效率。
综上所述，本发明提供了一种隔垫物高度测量装置，包括：测量镜头及与所述测量镜头相连的校正模块；所述测量镜头用于按照测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度；所述校正模块用于在测量镜头拍摄隔垫物并测量隔垫物的高度的同时，对所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头中的位置及所述隔垫物在测量镜头中的清晰度，通过在隔垫物高度测量的同时进行自动校正测量算法，能够有效减少算法校正时间，提升生产效率。本发明还提供一种隔垫物高度测量方法，能够有效减少算法校正时间，提升生产效率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种隔垫物高度测量装置，其特征在于，包括：测量镜头(10)及与所述测量镜头(10)相连的校正模块(20)；
所述测量镜头(10)用于按照测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度；
所述校正模块(20)用于在测量镜头(10)拍摄隔垫物并测量隔垫物的高度的同时，对所述测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头(10)中的位置及所述隔垫物在测量镜头(10)中的清晰度；
所述校正模块(20)对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头(10)中的清晰度更高。
2.如权利要求1所述的隔垫物高度测量装置，其特征在于，还包括与所述校正模块(20)相连的控制模块(30)；
所述控制模块(30)用于接收控制信号，并根据控制信号控制所述校正模块(20)开始工作或停止工作。
3.如权利要求1所述的隔垫物高度测量装置，其特征在于，还包括与所述校正模块(20)及测量镜头(10)相连的存储模块(40)；
所述存储模块(40)用于存储测量算法；
所述测量镜头(10)还用于从所述存储模块(40)获取测量算法；
所述校正模块(20)还用于将经过校正后的测量算法保存到存储模块(40)中替代校正前的测量算法。
4.如权利要求1所述的隔垫物高度测量装置，其特征在于，所述校正模块(20)对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头(10)中的位置更靠近测量镜头(10)的中心。
5.一种隔垫物高度测量方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供隔垫物高度测量装置，包括：测量镜头(10)及与所述测量镜头(10)相连的校正模块(20)；
步骤S2、所述测量镜头(10)按照预设的测量算法拍摄待测量的隔垫物并测量隔垫物的高度，同时所述校正模块(20)对所述预设的测量算法进行自动校正，以调整所述隔垫物在测量镜头(10)中的位置及所述隔垫物在测量镜头(10)中的清晰度；
所述步骤S2中所述校正模块(20)对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头(10)中的清晰度更高。
6.如权利要求5所述的隔垫物高度测量方法，其特征在于，所述步骤S1中所述隔垫物高度测量装置还包括与所述校正模块(20)相连的控制模块(30)；
所述步骤S2中还包括通过所述控制模块(30)接收控制信号，并根据控制信号控制所述校正模块(20)开始工作或停止工作。
7.如权利要求5所述的隔垫物高度测量方法，其特征在于，所述步骤S1中还包括与所述校正模块(20)及测量镜头(10)相连的存储模块(40)，所述存储模块(40)中存储有测量算法；
所述步骤S2中还包括所述测量镜头(10)从所述存储模块(40)获取的测量算法，以及所述校正模块(20)将经过校正后的测量算法保存到所述存储模块(40)中替代校正前的测量算法。
8.如权利要求5所述的隔垫物高度测量方法，其特征在于，所述步骤S2中所述校正模块(20)对所述测量算法进行自动校正后，按照校正后的测量算法拍摄的隔垫物比按照校正前的测量算法拍摄的隔垫物在测量镜头(10)中的位置更靠近测量镜头(10)的中心。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |