CN109744109A - 一种地瓜的栽培方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种地瓜的栽培方法。依次进行备垄、栽苗和覆膜。本发明使地瓜长在地表，一棵地瓜秧上大概接多少地瓜，差不多就能知道，顺着地瓜芽的方向拔起地瓜几乎就都能拔出，这样就不需要盲目的起地瓜了，也防止了在起地瓜的同时把地瓜撅断，且本技术减少的草的生长，也减少过多养分的流失从而还可以使地瓜增产，通过光合作用以及防止过多的水分进入，还可以使地瓜更香甜。
Description
技术领域：
本发明涉及一种地瓜的栽培方法。
背景技术：
现市面上，大都像玉米垄稍宽的垄台直接栽种地瓜苗，这样就使得地瓜秧在接瓜的时候大部分会向地下生长，秋天时，起地瓜就需要借助镢头等一些工具的撅垄起地瓜，这样还会导致在起地瓜的同时经常会抛断地瓜，且这样正常生长出的地瓜产量也不是很好，受外部因素影响地瓜生长层面较大。
发明内容：
本发明正是针对上述问题，提供了一种地瓜的栽培方法。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案，
1、备垄
首先在平整的地上起两个垄，接着在垄台底部放置底肥和农药，然后往回收土，再经一遍垄，完成了备垄；
2、栽苗
栽苗的同时放入化肥，然后等2～3天，观察成活率，没有成活的地瓜苗再补栽一遍；
3、覆膜
给补完苗的地瓜苗覆膜，覆膜所采用的膜为宽药膜，宽度为95cm，厚度为0.01～0.1mm。
垄台的切面为梯形，上边长为30～35cm，高为20cm。
备垄后需静置2～3天定型。如果不定型泥土松动，这样的空隙会较大，垄易变形，覆膜的时候也不好覆，而且栽完的地瓜芽上层土过厚，影响成活率。
本发明的有益效果：
通常地瓜的长势都是垂直纵向生长的，膜是采用黑色加厚的药膜，因为地瓜喜暗在暗处生长，覆完膜后，膜在上边再加上土层比较浅，上土层松动，地瓜会向上生长地瓜芽就会露出一部分，这样使地瓜长在地表，从而到秋起地瓜也就不需要像往常一样起垄了。本发明使地瓜长在地表，一棵地瓜秧上大概接多少地瓜，差不多就能知道，顺着地瓜芽的方向拔起地瓜几乎就都能拔出，这样就不需要盲目的起地瓜了，也防止了在起地瓜的同时把地瓜撅断，且本技术减少的草的生长，也减少过多养分的流失从而还可以使地瓜增产，通过光合作用以及防止过多的水分进入，还可以使地瓜更香甜。
此外，覆玩膜后既不影响地瓜蔓的生长也不会让芽向下生长，从而减少养分的消耗使地瓜增产，并且如果遇到雨水过多的年份，膜会挡住一部分水分不渗入地下，干旱的情况膜还能保住地瓜所需的水分不会过多的流失，且膜上有水，经过蒸发，叶子吸收后有光作用。还能促进养分的循环。
由于地瓜生长都是纵向发展，地瓜都是丛芽根部开始生长，在芽根部地瓜开始一点点向上或者向下长大，在不敷膜的情况下如果地瓜向上生长，露出地表，这样被太阳晒过的地方都是绿的，这样的地瓜，口感差，不香甜。扣完膜的情况，地瓜就会完全被膜覆盖住，地瓜叶还是原本的颜色。到秋后地瓜尖露于地表上，农民只要顺着地瓜尖向上拔，基本上一颗秧能接多少地瓜，都能看见也都能拔出，不用向以往那样用镢头等不知方向的撅地瓜，经常会把地瓜撅断，另外膜上有药物，加上采用的是黑色的膜，黑色吸热，覆盖上膜后，里面的小草几乎就会被烤死，成长不起来，再加上膜上的药物作用，起到了很好的除草作用。没有了草也没有了蔓上多余的虚芽向地下长吸收养分，所以也提高了地瓜的产量。
具体实施方式：
实施例1
首先在平整的地上起两个垄，接着在垄台底部放置底肥和农药，然后往回收土，再经一遍垄，完成了备垄，备垄后需静置2～3天定型。接着载苗，栽苗的同时放入化肥，然后等2～3天，观察成活率，没有成活的地瓜苗再补栽一遍。然后给补完苗的地瓜苗覆膜，覆膜所采用的膜为宽药膜，宽度为95cm，厚度为0.012mm。
垄台的切面为梯形，上边长为30cm，高为20cm。
Claims (3)
1.一种地瓜的栽培方法，其特征在于，具体的栽培步骤为，
(1)备垄
首先在平整的地上起两个垄，接着在垄台底部放置底肥和农药，然后往回收土，再经一遍垄，完成了备垄；
(2)栽苗
栽苗的同时放入化肥，然后等2～3天，观察成活率，没有成活的地瓜苗再补栽一遍；
(3)覆膜
给补完苗的地瓜苗覆膜，覆膜所采用的膜为宽药膜，宽度为95cm，厚度为0.01～0.1mm。
2.根据权利要求1所述的地瓜的栽培方法，其特征在于，垄台的切面为梯形，上边长为30～35cm，高为20cm。
3.根据权利要求1所述的地瓜的栽培方法，其特征在于，备垄后需静置2～3天定型。
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