CN109690403A - 正型平板印刷版原版及平板印刷版的制作方法 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 157
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 168
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 claims abstract description 51
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims abstract description 33
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims abstract description 33
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims abstract description 11
- -1 sulfoamido Chemical group 0.000 claims description 72
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 71
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 61
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 59
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 50
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 45
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 44
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 28
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 230000037452 priming Effects 0.000 claims description 12
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 195
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 65
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 58
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 58
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 56
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 49
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 49
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 35
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 27
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 26
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 238000011161 development Methods 0.000 description 20
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 15
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 15
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Natural products OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 14
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 14
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 11
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 11
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 10
- 230000035755 proliferation Effects 0.000 description 10
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical compound [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 8
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 7
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 6
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 6
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N alpha-methacrylic acid Natural products CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 4
- 229930014669 anthocyanidin Natural products 0.000 description 4
- 150000001452 anthocyanidin derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 235000008758 anthocyanidins Nutrition 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 4
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 3
- XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-M cerotate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 3
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 210000004876 tela submucosa Anatomy 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 125000005000 thioaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazine Chemical compound C1=CN=NC=N1 FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexene Chemical compound CC1=CCCCC1 CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 4-Chlorotoluene Chemical compound CC1=CC=C(Cl)C=C1 NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001597008 Nomeidae Species 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical group O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010808 liquid waste Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 2
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 108010001861 pregnancy-associated glycoprotein 1 Proteins 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 201000008550 xeroderma pigmentosum group D Diseases 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical class CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 1-(2-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCN1C(=O)C=CC1=O JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHVCCCZZVQMAMT-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical class O=C1N(O)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 HHVCCCZZVQMAMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCN1C(=O)C=CC1=O DABFKTHTXOELJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 1H-1,2,3-Triazole Chemical compound C=1C=NNN=1 QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004208 3-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical group CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N Caprolactam Natural products O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N O-demethyl-aloesaponarin I Natural products O=C1C2=CC=CC(O)=C2C(=O)C2=C1C=C(O)C(C(O)=O)=C2C MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007171 acid catalysis Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical group C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910001914 chlorine tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001047 cyclobutenyl group Chemical group C1(=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000009034 developmental inhibition Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 description 1
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N ensulizole Chemical compound N1C2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C2N=C1C1=CC=CC=C1 UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000655 ensulizole Drugs 0.000 description 1
- 210000000981 epithelium Anatomy 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 229940100630 metacresol Drugs 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- SXMHECGYSOUMFN-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-methylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)N(C)CC1=CC=CC=C1 SXMHECGYSOUMFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NCIAGQNZQHYKGR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-triol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(O)C(O)=CC2=C1 NCIAGQNZQHYKGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3-diol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC(O)=C21 XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N pent-2-ene Chemical compound CCC=CC QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000000837 restrainer Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 235000013599 spices Nutrition 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004319 trichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010148 water-pollination Effects 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical group C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
本发明提供一种正型平板印刷版原版及使用了正型平板印刷版原版的平板印刷版的制作方法,该正型平板印刷版原版在具有亲水性表面的支撑体上具有图像记录层,该图像记录层含有:高分子化合物1,在主链上具有选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个键,且在主链上具有磺酰胺基;高分子化合物2‑1或高分子化合物2‑2,该高分子化合物2‑1包含由下述式S‑1表示的构成单元及由下述式S‑2表示的构成单元中的至少一种,该高分子化合物2‑2包含由下述式EV‑1表示的构成单元及由下述式EV‑2表示的构成单元;及红外线吸收剂。
Description
技术领域
本公开涉及一种正型平板印刷版原版及平板印刷版的制作方法。
背景技术
在平板印刷领域中,近年来的激光的发展非常惊人,尤其在近红外至红外具有发光区域的固体激光及半导体激光能够轻松地获得高输出且小型的装置。在平板印刷领域中,作为根据计算机等的数字数据直接制版时的曝光光源,这些激光是非常有用的。
红外线激光用正型平板印刷版原版将碱可溶性粘合剂树脂和吸收光并产生热的红外线吸收剂(例如,红外线吸收染料(IR染料))等作为必要成分。该IR染料等在未曝光部(图像部)作为显影抑制剂发挥作用,即通过与粘合剂树脂的相互作用使粘合剂树脂对显影液的溶解性实质上降低,在曝光部(非图像部),IR染料等与粘合剂树脂的相互作用因所产生的热而减弱,溶解于碱显影液而形成平板印刷版。
发明内容
发明要解决的技术课题
如上所述的红外线激光用正型平板印刷版原版的图像形成能力依赖于基于图像记录层表面的红外线激光曝光的发热,因此在支撑体附近,通过热向支撑体扩散而形成图像,即用于图像记录层的可溶化中的热量变少,有时成为低灵敏度。因此,无法充分获得非图像部中的记录层的显影抑制能消失效果,存在图像部与非图像部之差变小而高亮再现性不充分的问题。
并且,为了解决上述高亮再现性的问题,可以考虑使用包括能够更轻松地显影非图像部的即具有对碱水溶液的溶解性更良好的特性的材料的记录层,但这种记录层即便在图像部区域中也存在化学性变弱、容易因显影液或印刷中所使用的油墨清洗溶剂、洁版液等而受到损伤等耐化学性差的问题,迫切期待具有在未曝光部区域中皮膜的耐化学性及耐久性优异且通过曝光解除溶解抑制作用之后显影性优异的特性的树脂材料。
为了与上述相同的目的而提出各种改进技术,例如,在欧洲专利第1826001号说明书中记载有一种在具有亲水性表面或亲水性层的支撑体上具有热敏层的热敏正型平板印刷版原版,该热敏层包含红外线吸收剂、酚醛树脂及具有由下述式I或式II表示的单体单元的碱可溶性树脂。
[化学式1]
并且,在国际公开第2014/106554号中记载有一种含有由下述式III表示的结构及由式IV表示的结构的共聚物及包含上述共聚物的平板印刷版原版。
[化学式2]
在国际公开第2016/133072号中记载有一种感光性树脂组合物,其特征在于,含有在主链上具有多环式结构且在主链上具有磺酰胺基的高分子化合物及红外线吸收剂。
近年来,印刷材料(纸、油墨等)逐渐多种多样化,根据印刷材料的种类,即使在使用了相同印刷版的情况下,也存在可印刷的张数(以下称为“印刷耐久性”大幅下降的问题。
在欧洲专利第1826001号说明书中所记载的发明及国际公开第2014/106554号中所记载的发明中存在如下问题:作为粘合剂树脂之一,使用导入了耐化学性高的单元的高分子化合物,由此可获得高耐化学性,但是由于图像记录层本身的强度弱,因此在使用尤其低品质的印刷材料(纸、油墨)时的印刷中的印刷耐久性及耐化学性差。
并且,在国际公开第2016/133072号中记载有一种通过在主链上具有磺酰胺基及多环式结构而印刷耐久性及耐化学性优异的平板印刷版原版,但是随着上述印刷材料的多种多样化,期望印刷耐久性、耐化学性的进一步提高。
并且,本发明人等发现了存在如下问题:在将正型平板印刷版原版曝光后,经过一段时间之后进行显影来制作平板印刷版的情况下,在使用所获得的平板印刷版形成的印刷品中产生污垢。
推测这是因为在曝光后,图像记录层中的碱可溶性树脂与红外线吸收剂等低分子成分之间的相互作用得到恢复,显影性下降。
本公开中,将在正型平板印刷版原版的曝光后,随着经过一段时间之后进行显影来制作平板印刷版的情况下,抑制在使用所获得的平板印刷版而形成的印刷品产生的污垢的情况还称为“正型平板印刷版原版的曝光后的经时稳定性高”。
本发明的一实施方式欲解决的课题在于,提供一种所获得的平板印刷版的耐化学性及印刷耐久性优异且曝光后的经时稳定性高的正型平板印刷版原版。
并且,本发明的另一实施方式欲解决的课题在于,提供一种使用了上述正型平板印刷版原版的平板印刷版的制作方法。
用于解决技术课题的手段
在用于解决上述问题的方案中包含以下方式。
<1>一种正型平板印刷版原版,其在具有亲水性表面的支撑体上具有图像记录层,该图像记录层含有:高分子化合物1,在主链上具有选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个键,且在主链上具有磺酰胺基;高分子化合物2-1或高分子化合物2-2,该高分子化合物2-1包含由下述式S-1表示的构成单元及由下述式S-2表示的构成单元中的至少一种,该高分子化合物2-2包含由下述式EV-1表示的构成单元及由下述式EV-2表示的构成单元;及红外线吸收剂。
[化学式3]
式S-1及S-2中,RS1表示氢原子或烷基,Z表示-O-或-N(RS2)-,RS2表示氢原子、烷基、烯基或炔基,Ar1及Ar2分别独立地表示芳香族基,Ar1及Ar2中的至少一个为杂芳香族基,sa及sb分别独立地表示0或1。
[化学式4]
式EV-1或式EV-2中,L表示二价的连接基团,x为0或1,R1表示具有至少一个羟基的芳香环或杂芳香环,R2及R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的线状或支链状或者环状的烷基、可以具有取代基的线状或支链状或者环状的烯基、或者可以具有取代基的芳香环、或者可以具有取代基的杂芳香环。
<2>根据<1>所述的正型平板印刷版原版,其中,上述高分子化合物1在主链上还具有多环式结构。
<3>根据<1>或<2>所述的正型平板印刷版原版,其中,上述高分子化合物1包含由下述式A-1表示的构成单元来作为具有上述磺酰胺基的构成单元。
[化学式5]
式A-1中,R4表示二价的连接基团。
<4>根据<3>所述的正型平板印刷版原版,其中,由上述式A-1表示的构成单元包含由下述式B1-1~式B1-6中的任一个表示的构成单元。
[化学式6]
式B1-1~式B1-6中,RB11、RB12、RB21、RB22、RB31~RB33、RB41、RB42、RB51、RB52及RB61~RB63分别独立地表示氢原子、磺酰胺基、羟基、羧基、烷基或卤素原子,ZB11表示-C(R)2-、-C(=O)-、-O-、-NR-、-S-或单键,ZB21表示-C(R)2-、-O-、-NR-、-S-或单键,R分别独立地表示氢原子或烷基,XB21表示-C(R’)2-、-O-、-NR’-、-S-或单键,R’分别独立地表示氢原子或烷基。
<5>根据<3>所述的正型平板印刷版原版,其中,由上述式A-1表示的构成单元包含由下述式B1-1或式B1-2表示的构成单元。
[化学式7]
式B1-1或式B1-2中,RB11、RB12、RB21及RB22分别独立地表示氢原子、磺酰胺基、羟基、羧基、烷基或卤素原子,ZB11表示-C(R)2-、-C(=O)-、-O-、-NR-、-S-或单键,ZB21表示-C(R)2-、-O-、-NR-、-S-或单键,R分别独立地表示氢原子或烷基,XB21表示-C(R’)2-、-O-、-NR’-、-S-或单键,R’分别独立地表示氢原子或烷基。
<6>根据<1>至<4>中任一项所述的正型平板印刷版原版,其中,上述图像记录层含有高分子化合物2-2,上述高分子化合物2-2为由下述式VA表示的高分子化合物2-2。
[化学式8]
式VA中,R1表示具有至少一个羟基的芳香环或杂芳香环,R2A表示可以具有取代基的烷基,a为10~55摩尔%,b为15~60摩尔%,c为10~60摩尔%,d为0~10摩尔%。
<7>根据<1>至<6>中任一项所述的正型平板印刷版原版,其在具有上述亲水性表面的支撑体上具备依次具有下层及上层的记录层,上述下层及上述上层中的至少一个为上述图像记录层。
<8>根据<7>所述的正型平板印刷版原版,其中,上述下层为上述图像记录层,上述上层为其它记录层。
<9>根据<1>至<8>中任一项所述的正型平板印刷版原版,其在具有上述亲水性表面的支撑体与上述图像记录层之间具有底涂层。
<10>一种平板印刷版的制作方法,其包括:曝光工序,对<1>至<9>中任一项所述的正型平板印刷版原版进行图像曝光;及显影工序,使用pH8.5~13.5的碱水溶液来对经曝光的正型平板印刷版原版进行显影。
发明效果
根据本发明的一实施方式,能够提供一种所获得的平板印刷版的耐化学性及印刷耐久性优异且曝光后的经时稳定性高的正型平板印刷版原版。
并且,根据本发明的另一实施方式,能够提供一种使用了上述正型平板印刷版原版的平板印刷版的制作方法。
具体实施方式
以下,对本公开的内容进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明是基于本公开的代表性实施方式来进行的,但本公开并不限定于这种实施方式。
另外,在本申请说明书中,表示数值范围的“~”以将其前后记载的数值作为下限值及上限值而包含的含义进行使用。
并且,本申请说明书中的基团(原子团)的标记中,未标有取代及未取代的标记不仅包含不具有取代基的基团,而且还包含具有取代基的基团。例如,“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未取代的烷基),还包含具有取代基的烷基(取代的烷基)。
并且,本公开中,“质量%”与“重量%”的含义相同,“质量份”与“重量份”的含义相同。
而且,本公开中,2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。
本发明中,“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的连接链,“侧链”表示从主链分支的分子链。
并且,关于本公开中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn),只要无特别说明,则是通过使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制造的商品名称)的色谱柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置、且通过溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射计进行检测,并使用作为标准物质的聚苯乙烯换算而得的分子量。
本公开中,“可以具有取代基”是指包含具有取代基的情况和不具有取代基的情况这两者,例如,可以具有取代基的烷基的记载中包含具有取代基的烷基和不具有取代基的烷基这两者。
以下,对本公开进行详细说明。
(正型平板印刷版原版)
本公开所涉及的正型平板印刷版原版(以下,还简称为“平板印刷版原版”。)在具有亲水性表面的支撑体(以下,还简称为“支撑体”)上具有图像记录层,该图像记录层含有:高分子化合物1,在主链上具有选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个键,且在主链上具有磺酰胺基;高分子化合物2-1或高分子化合物2-2,该高分子化合物2-1包含由式S-1表示的构成单元及由式S-2表示的构成单元中的至少一种,该高分子化合物2-2包含由式EV-1表示的构成单元及由式EV-2表示的构成单元;及红外线吸收剂。
本公开所涉及的正型平板印刷版原版可以在支撑体上具有上述图像记录层,支撑体与上述图像记录层可以接触,在支撑体与上述图像记录层之间可以具有其他层(例如,底涂层)。
本发明人等进行深入研究的结果,发现了通过采用上述结构,可获得所获得的平板印刷版的耐化学性及印刷耐久性优异且曝光后的经时稳定性高的正型平板印刷版原版。
基于此的优异效果的作用机理虽然不明确,但推断如下。
包含于高分子化合物2-1或2-2中的侧链上的磺酰胺基或酚性氢氧基的空间位阻少,因此认为容易与高分子化合物1的主链上所包含的磺酰胺基产生相互作用。
因此推测,与单独包含高分子化合物1的情况、或单独包含高分子化合物2-1或2-2的情况相比,树脂之间的相互作用变得牢固,所获得的印刷版的图像部的强度得到提高,因此印刷耐久性及耐化学性优异。
并且认为,通过含有高分子化合物1和高分子化合物2-1或高分子化合物2-2这2种高分子化合物,红外线吸收剂等低分子成分与高分子化合物之间的相互作用分散于2种高分子化合物中,并有效地抑制曝光后的相互作用的恢复。
因此,推测正型平板印刷版原版的曝光后的经时稳定性变高(还称为“印刷后稳定性”。)。
<图像记录层>
本公开所涉及的平板印刷版原版具有图像记录层,该图像记录层含有:高分子化合物1,在主链上具有选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个键,且在主链上具有磺酰胺基;高分子化合物2-1或高分子化合物2-2,该高分子化合物2-1包含由式S-1表示的构成单元及由式S-2表示的构成单元中的至少一种,该高分子化合物2-2包含由式EV-1表示的构成单元及由式EV-2表示的构成单元;及红外线吸收剂。
上述图像记录层例如能够通过将图像记录层中所包含的各成分溶解于溶剂中并涂布于支撑体上而形成。
作为在此使用的溶剂,能够举出二氯乙烷、环己酮、甲乙酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、环丁砜、γ-丁内酯、甲苯等,但并不限定于此。这些溶剂可单独使用或者混合使用。
以下,对上述图像记录层中所包含的各成分进行详细说明。
〔高分子化合物1〕
高分子化合物1为在主链上具有选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个键且在主链上具有磺酰胺基的高分子化合物。
-脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键-
本公开中所使用的高分子化合物1在主链上具有选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个。
并且,本公开中所使用的高分子化合物1中,主链骨架优选为选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个。
并且,作为高分子化合物1的主链骨架,从兼顾图像形成性、印刷耐久性、制造适应性的观点考虑,优选氨基甲酸酯键,从兼顾耐化学性、印刷耐久性、显影性的观点考虑,优选脲键。
本公开所涉及的高分子化合物1的主链上所包含的脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键,分别是指由下述化学式表示的键。
[化学式9]
-主链/侧链酸基-
高分子化合物1在主链上具有磺酰胺基。
高分子化合物1优选在侧链上具有其他酸基。作为侧链的酸基,优选酚性氢氧基、磺酰胺基或羧基。
另外,将对应于高分子化合物2-1或高分子化合物2-2的高分子化合物、即包含由式S-1表示的构成单元及由式S-2表示的构成单元中的至少一种的高分子化合物及包含由式EV-1表示的构成单元以及由式EV-2表示的构成单元的高分子化合物设为不对应于高分子化合物1的化合物。
-多环式结构-
从印刷耐久性及耐化学性的观点考虑,高分子化合物1优选在主链上还具有多环式结构。
多环式结构是指稠环式烃结构、稠合多环芳香族结构及通过单键键合多个芳烃而得的结构,优选萘衍生物结构及蒽衍生物结构、联苯结构、三联苯结构。萘衍生物结构及蒽衍生物结构中,优选萘结构、呫吨酮结构、蒽酮结构、呫吨结构、二氢蒽结构、蒽结构,从耐化学性、印刷耐久性、显影性的观点考虑,更优选呫吨酮结构、蒽酮结构、联苯结构、萘结构,进一步优选呫吨酮结构、蒽酮结构。
-由式A-1表示的构成单元-
本公开中所使用的高分子化合物1优选包含由下述式A-1表示的构成单元来作为具有上述磺酰胺基的构成单元。
式A-1中所包含的2个磺酰胺基均为高分子化合物1在主链上所具有的磺酰胺基。
通过高分子化合物1包含由式A-1表示的构成单元,在结构上,高分子化合物1的酸值变高,因此可获得显影性优异的正型平板印刷版原版。
[化学式10]
式A-1中,R4表示二价的连接基团,优选表示包含上述多环式结构的二价的连接基团或包含亚苯基的二价的连接基团,从印刷耐久性的观点考虑,更优选表示包含上述多环式结构的二价的连接基团。
本公开所涉及的高分子化合物1中,优选相对于高分子化合物1的总质量,包含10~90质量%的由式A-1表示的构成单元,更优选包含30~80质量%,进一步优选包含50~75质量%。
-包含亚苯基的二价的连接基团-
作为包含上述亚苯基的二价的连接基团,优选亚苯基或由下述式Ph-1表示的基团。
[化学式11]
式Ph-1中,LB表示醚键(-O-)或磺酰基(-S(=O)2-),波浪线部分表示与式A-1中的磺酰胺基的硫原子的键合部位。
优选在R4表示亚苯基的情况下,式A-1中的2个磺酰胺基与亚苯基键合,以便成为间位。
并且,上述亚苯基可以被取代。作为取代基,可举出烷基、羟基或卤素原子,优选烷基。作为上述烷基,优选碳原子数1~8的烷基,更优选碳原子数1~4的烷基,进一步优选甲基。
-由式B1-1~式B1-6表示的构成单元-
由上述式A-1表示的构成单元优选包含由下述式B1-1~式B1-6中的任一个表示的构成单元,更优选包含由下述式B1-1或式B1-2表示的构成单元。
[化学式12]
式B1-1~式B1-6中,RB11、RB12、RB21、RB22、RB31~RB33、RB41、RB42、RB51、RB52及RB61~RB63分别独立地表示氢原子、磺酰胺基、羟基、羧基、烷基或卤素原子,ZB11表示-C(R)2-、-C(=O)-、-O-、-NR-、-S-或单键,ZB21表示-C(R)2-、-O-、-NR-、-S-或单键,R分别独立地表示氢原子或烷基,XB21表示-C(R’)2-、-O-、-NR’-、-S-或单键,R’分别独立地表示氢原子或烷基。
式B1-1~式B1-6中,RB11、RB12、RB21、RB22、RB31~RB33、RB41、RB42、RB51、RB52及RB61~RB63分别独立地表示氢原子、磺酰胺基、氢氧基、羧基、烷基或卤素原子,优选氢原子、烷基或卤素原子,更优选氢原子。并且,从提高显影性的观点考虑,优选磺酰胺基、氢氧基、羧基这样的酸基。
式B1-1~式B1-6中,ZB11及ZB21分别独立地表示-C(R)2-、-O-、-NR-、-S-或单键,优选-C(R)2-、-O-,更优选-O-。
式B1-1~式B1-6中,R表示氢原子或烷基,优选氢原子。
式B1-1~式B1-6中,XB21表示-C(R’)2-、-O-、-NR’-、-S-或单键,优选-C(R’)2-。
式B1-1~式B1-6中,R’表示氢原子或烷基,优选氢原子。
本公开所涉及的高分子化合物1中,优选相对于高分子化合物1的总质量,包含10~90质量%的由式B1-1~式B1-6表示的结构,更优选包含30~80质量%,进一步优选包含50~75质量%。
-由式A-2表示的构成单元-
本公开中所使用的高分子化合物1优选包含由下述式A-2表示的构成单元来作为具有上述磺酰胺基的构成单元。
式A-2中所包含的2个磺酰胺基均为高分子化合物1在主链上所具有的磺酰胺基。
[化学式13]
式A-2中,R5~R7分别独立地表示二价的连接基团。
式A-2中,R5与式A-1中的R4含义相同,优选的方式也相同。
式A-2中,R6及R7分别独立地表示二价的连接基团,优选亚烷基、亚芳基、二价的饱和脂环式烃基、二价的不饱和脂环式烃基或连结多个这些基团而得的二价的基团,更优选亚烷基或亚芳基。
作为上述亚烷基,优选碳原子数1~20的亚烷基,更优选碳原子数2~15的亚烷基,进一步优选碳原子数2~8的亚烷基。并且,上述亚烷基可以在碳链中含有氧原子。作为亚烷基可以具有的取代基,可举出烷基、芳基、卤素原子等。
作为上述亚芳基,优选碳原子数6~20的亚芳基,更优选亚苯基或亚萘基,进一步优选亚苯基。上述亚芳基可以在环结构中具有杂原子,作为杂原子,可举出氧原子、氮原子、硫原子。
作为二价的饱和脂环式烃基,优选碳原子数4~10的二价的饱和脂环式烃基,更优选碳原子数4~8的二价的饱和脂环式烃基,进一步优选碳原子数6~8的二价的饱和脂环式烃基。并且,作为上述二价的饱和脂环式烃基可以含有的取代基,可举出烷基、芳基、卤素原子等。
作为上述二价的不饱和脂环式烃基,可举出环戊烯基、环戊二烯基、环己烯基、环己二烯基、环庚烯基等。
作为连结多个这些基团而得的二价的基团,优选键合多个亚烷基与亚芳基或亚烷基与二价的饱和脂环式烃基而成的基团,优选依次键合亚烷基-亚芳基-亚烷基或亚烷基-二价的饱和脂环式烃基-亚烷基而成的基团。
-由式B2-1~式B2-6表示的构成单元-
由上述式A-2表示的构成单元优选包含由下述式B2-1~式B2-6中的任一个表示的构成单元,更优选包含由下述式B2-1或式B2-2表示的构成单元。
[化学式14]
式B2-1~式B2-6中,R6及R7与式A-2中的R6及R7含义相同,优选的方式也相同。
式B2-1~式B2-6中,RB11、RB12、RB21、RB22、RB31~RB33、RB41、RB42、RB51、RB52、RB61~RB63、ZB11、ZB21及XB21分别与式B1-1~式B1-6中的RB11、RB12、RB21、RB22、RB31~RB33、RB41、RB42、RB51、RB52、RB61~RB63、ZB11、ZB21及XB21含义相同,优选的方式也相同。
本公开中所使用的高分子化合物1中,从所获得的平板印刷版的显影性的观点考虑,优选相对于高分子化合物1的总质量,包含10~90质量%的由式A-2表示的构成单元,更优选包含20~80质量%,进一步优选包含30~70质量%。
由式A-2表示的构成单元优选为源自后述在主链上具有磺酰胺基的特定的二胺化合物或在主链上具有磺酰胺基的特定的二醇化合物中的构成单元。
-亚烷基氧基-
本公开中所使用的高分子化合物1优选在主链上还具有亚烷基氧基。
根据上述方式,可获得所获得的平板印刷版的图像形成性优异且所获得的平板印刷版的印刷耐久性优异的平板印刷版原版。
作为上述亚烷基氧基,优选碳原子数2~10的亚烷基氧基,更优选碳原子数2~8的亚烷基氧基,进一步优选碳原子数2~4的亚烷基氧基,尤其优选乙烯氧基或丙稀氧基。
并且,上述亚烷基氧基可以是聚亚烷基氧基。
作为聚亚烷基氧基,优选重复数2~50的聚亚烷基氧基,更优选重复数2~40的聚亚烷基氧基,进一步优选重复数2~30的聚亚烷基氧基。
聚亚烷基氧基的结构重复单元的优选的碳原子数与上述亚烷基氧基的优选的碳原子数相同。
-高分子化合物1的例-
本公开中所使用的高分子化合物1优选为包含由下述式D-1~式D-3中的任一个表示的构成单元的组合的高分子化合物。
[化学式15]
式D-1~式D-3中,LD11、LD21及LD31分别独立地表示由式A-2表示的构成单元,优选的方式也相同。
式D-1~式D-3中,LD12、LD22及LD32分别独立地表示亚烷基、亚芳基、羰基、磺酰基、酰胺键、氨基甲酸酯键、单键或它们中的2个以上键合而得的连接基团,优选碳原子数1~20的亚烷基、碳原子数6~20的亚芳基、羰基、磺酰基、酰胺键、氨基甲酸酯键、单键或它们中的2个以上键合而得的连接基团,更优选碳原子数1~15的亚烷基、亚苯基、亚萘基、羰基、磺酰基、酰胺键、氨基甲酸酯键、单键或它们中的2个以上键合而得的连接基团,进一步优选碳原子数1~15的亚烷基、亚苯基、亚萘基或它们中的2个以上键合而得的连接基团。
式D-1~式D-3中,LD13、LD23及LD33分别独立地表示亚烷基、亚烷基氧基、亚芳基、羰基、磺酰基、酰胺键、氨基甲酸酯键、单键或它们中的2个以上键合而得的连接基团,优选碳原子数1~20的亚烷基、碳原子数2~10的亚烷基氧基、碳原子数6~20的亚芳基、羰基、磺酰基、酰胺键、氨基甲酸酯键、单键或它们中的2个以上键合而得的连接基团,更优选碳原子数1~15的亚烷基、碳原子数2~8的亚烷基氧基、亚苯基、亚萘基、羰基、磺酰基、酰胺键、氨基甲酸酯键、单键或它们中的2个以上键合而得的连接基团,进一步优选碳原子数1~15的亚烷基、碳原子数2~4的亚烷基氧基、亚苯基、亚萘基或它们中的2个以上键合而得的连接基团。
上述亚烷基氧基可以形成聚亚烷基氧基。作为聚亚烷基氧基,优选重复数2~50的聚亚烷基氧基,更优选重复数2~40的聚亚烷基氧基,进一步优选重复数2~30的聚亚烷基氧基。聚亚烷基氧基的结构重复单元的优选的碳原子数与上述亚烷基氧基的优选的碳原子数相同。
在LD13、LD23或LD33为亚烷基氧基的情况下,能够获得所获得的平板印刷版的图像形成性优异且所获得的平板印刷版的印刷耐久性优异的正型平板印刷版原版。
式D-1中,nD1、mD1及vD1表示将高分子化合物1的整个分子的质量设为100时的含有率(质量比),优选为nD1:mD1:vD1=90:10:0~30:60:10,更优选为nD1:mD1:vD1=80:20:0~60:30:10。并且,nD1和mD1的合计值优选为90以上,更优选为95以上。nD1、mD1及vD1的合计值优选为90以上,更优选为95以上,进一步优选为98以上。
式D-2中,nD2、mD2及vD2表示将高分子化合物1的整个分子的质量设为100时的含有率(质量比),优选为nD2:mD2:vD2=90:10:0~30:60:10,更优选为nD2:mD2:vD2=80:20:0~60:30:10。并且,nD2和mD2的合计值优选为90以上,更优选为95以上。nD2、mD2及vD2的合计值优选为90以上,更优选为95以上,进一步优选为98以上。
式D-3中,nD3、mD3及vD3表示将高分子化合物1的整个分子的质量设为100时的含有率(质量比),优选为nD3:mD3:vD3=90:10:0~30:60:10,更优选为nD3:mD3:vD3=80:20:0~60:30:10。并且,nD3和mD3的合计值优选为90以上,更优选为95以上。nD3、mD3及vD3的合计值优选为90以上,更优选为95以上,进一步优选为98以上。
包含由式D-1表示的多个构成单元的组合的化合物能够通过使在由上述LD11表示的结构的两个末端键合有氨基的二胺化合物、在由上述LD12表示的结构的两个末端键合有异氰酸酯基的二异氰酸酯化合物及在由LD13表示的结构的末端任意地键合有氨基的二胺化合物逐次进行聚合反应来制造。
包含由式D-1表示的多个构成单元的组合的化合物的末端并无特别限定,通常为氨基或异氰酸酯基,可以被单胺、单醇或单异氰酸酯等公知的封端剂封闭。
包含由式D-2表示的多个构成单元的组合的化合物能够通过使在由上述LD21表示的结构的两个末端键合有羟基的二醇化合物、在由上述LD22表示的结构的两个末端键合有异氰酸酯基的二异氰酸酯化合物及在由LD23表示的结构的末端任意地键合有羟基的二醇化合物逐次进行聚合反应来制造。
包含由式D-2表示的多个构成单元的组合的化合物的末端并无特别限定,通常为羟基或异氰酸酯基,可以被单胺、单醇或单异氰酸酯等公知的封端剂封闭。
包含由式D-3表示的多个构成单元的组合的化合物能够通过在由上述LD41表示的结构的两个末端键合有羟基的二醇化合物、在由上述LD42表示的结构的两个末端键合有羟基的二醇化合物及在由LD43表示的结构的末端任意地键合有羟基的二醇化合物的、使用了碳酸烷基酯等具有碳酸酯基的化合物的逐次聚合来制造。
包含由式D-3表示的多个构成单元的组合的化合物的末端并无特别限定,通常为羟基,可以被单醇或单胺等公知的封端剂封闭。
并且,本公开所涉及的高分子化合物1的重均分子量优选为10,000~500,000,更优选为10,000~200,000,进一步优选为20,000~100,000。
以下,举具体例,对高分子化合物1进行说明。
-在主链上具有磺酰胺基的聚脲-
作为本公开中所使用的高分子化合物1,优选在主链上具有磺酰胺基的聚脲。
在主链上具有磺酰胺基的聚脲为通过使在主链上具有磺酰胺基的特定的二胺化合物和具有2个以上的异氰酸酯基的化合物(二异氰酸酯化合物)逐次进行聚合反应生成的聚合物,且只要是在主链上具有磺酰胺基的聚脲,则并无特别限制。
作为在主链上具有上述磺酰胺基的特定的二胺化合物,例如可优选举出下述SA-1~SA-26。
另外,二胺化合物的主链是指形成聚脲等高分子化合物时成为高分子化合物的主链的碳链。
将在本公开中能够使用的上述聚脲的优选的具体例示于以下。具体例PU-1~PU-20是指使后述在主链上具有磺酰胺基的二胺化合物、具有2个以上的异氰酸酯基的化合物及任意的其他二胺化合物以下述表中所记载的比例(摩尔比)进行反应而制成的高分子化合物1。
并且,在表中示出用于合成聚脲的摩尔比及所获得的在主链上具有磺酰胺基的聚脲的重均分子量(Mw),但是本公开中所使用的在主链上具有磺酰胺基的聚脲并不限定于这些。
并且,聚合物的重均分子量为通过GPC法测定出的值。
[表1]
在表中由缩写表示的化合物的详细内容如下述。
[化学式16]
[化学式17]
[化学式18]
[化学式19]
[化学式20]
-在主链上具有磺酰胺基的聚氨酯-
作为本公开中所使用的高分子化合物1,优选在主链上具有磺酰胺基的聚氨酯。
本公开中所使用的在主链上具有磺酰胺基的聚氨酯,是指使在主链上具有磺酰胺基的特定的二醇化合物和具有2个以上的异氰酸酯基的化合物逐次进行聚合反应生成的聚合物,且只要是在主链上具有磺酰胺基的聚氨酯,则并无特别限制。
作为在主链上具有上述磺酰胺基的特定的二醇化合物,例如可优选举出下述SB-1~SB-26。
另外,二醇化合物的主链是指形成聚氨酯等高分子化合物时成为高分子化合物的主链的碳链。
将在本公开中能够使用的上述聚氨酯的优选的具体例示于下述表中。具体例PT-1~PT-20是指使后述在主链上含有磺酰胺基的二醇化合物与具有2个以上的异氰酸酯基的化合物以下述表中所记载的比例(摩尔比)进行反应而制成的高分子化合物1。
并且,在表中示出用于合成聚氨酯的摩尔比及所获得的在主链上具有磺酰胺基的聚氨酯的重均分子量(Mw),但是本公开中所使用的在主链上具有磺酰胺基的聚氨酯并不限定于这些。
并且,聚合物的重均分子量为通过GPC法测定出的值。
[表2]
在表中由缩写表示的化合物中,除上述化合物以外的化合物的详细内容如下述。
[化学式21]
[化学式22]
[化学式23]
-在主链上具有磺酰胺基的聚碳酸酯-
作为本公开中所使用的高分子化合物1,优选在主链上具有磺酰胺基的聚碳酸酯。
本公开中所使用的在主链上具有磺酰胺基的聚碳酸酯,是指通过使用了碳酸烷基酯等具有碳酸酯基的化合物(例如,碳酸二乙酯等)的二醇化合物和在主链上具有磺酰胺基的二醇化合物的逐次聚合反应生成的聚合物,且只要是在主链上具有磺酰胺基的聚碳酸酯,则并无特别限制。
作为在主链上具有上述磺酰胺基的二醇化合物,例如可优选举出上述SB-1~SB-26。
[表3]
-含量-
并且,相对于图像记录层的总质量,本公开所涉及的图像记录层中的高分子化合物1的含量优选为10~90质量%,更优选为20~80质量%,进一步优选为30~80质量%。
〔高分子化合物2-1〕
-由式S-1或式S-2表示的构成单元-
高分子化合物2-1包含由下述式S-1表示的构成单元及由下述式S-2表示的构成单元中的至少一种,优选包含由下述式S-1表示的构成单元。
[化学式24]
式S-1及S-2中,RS1表示氢原子或烷基,Z表示-O-或-N(RS2)-,RS2表示氢原子、烷基、烯基或炔基,Ar1及Ar2分别独立地表示芳香族基,Ar1及Ar2中的至少一个为杂芳香族基,sa及sb分别独立地表示0或1。
式S-1中,RS1表示氢原子或烷基,但是烷基为取代或未取代的烷基,优选不具有取代基的烷基。作为由RS1表示的烷基,可举出甲基、乙基、丙基、丁基等低级烷基。RS1优选氢原子或甲基。
Z表示-O-或-N(RS2)-,优选表示-N(RS2)-。其中,RS2表示氢原子、烷基、烯基或炔基,优选氢原子或不具有取代基的烷基,更优选氢原子。
sa及sb分别独立地表示0或1,优选的方式可举出sa为0且sb为1的情况、sa及sb均为0的情况、sa及sb均为1的情况,最优选sa及sb均为1的情况。
更详细而言,上述构成单元中,在sa为0且sb为1的情况下,Z优选-O-。并且,在sa及sb均为1的情况下,Z优选-N(RS2)-,其中,RS2优选氢原子。
Ar1及Ar2分别独立地表示芳香族基,至少1者为杂芳香族基。Ar1为二价的芳香族基,Ar2为一价的芳香族基。这些芳香族基为将构成芳香环的1个或2个氢原子替换为连接基团而形成的取代基。
作为这种芳香族基,可以为选自苯、萘、蒽等的烃芳香环中的基团,也可以为选自呋喃、噻吩、吡咯、咪唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、四唑、恶唑、异恶唑、噻唑、异噻唑、噻二唑、恶二唑、吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪等的杂芳环中的基团。
并且,也可以是这些多个环缩合而例如采用如苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、吲唑、苯并恶唑、喹啉、喹唑啉、苯并咪唑或苯并三唑那样的稠环的方式的基团。
这些芳香族基、杂芳香族基还可以具有取代基,作为能够导入的取代基,可举出烷基、环烷基、烯基、环烯基、芳基、杂芳基、羟基、-SH、羧酸基或其烷基酯、磺酸基或其烷基酯、次膦酸基或其烷基酯、氨基、磺酰胺基、酰胺基、硝基、卤素原子或它们中的多个键合而成的取代基等,也可以是这些取代基还具有在此举出的取代基的取代基。
Ar2优选可以具有取代基的杂芳香族基,更优选举出选自吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、四唑、恶唑、异恶唑、噻唑、异噻唑、噻二唑及恶二唑等中的包含氮原子的杂芳环。
以下,示出能够形成由式S-1或式S-2表示的构成单元的单体的例子(例示单体(A-1)~(A-27)),但是本发明并不限定于这些。以下的例示单体中,具有从主链侧为-SO2-NH-的连接基团的单体(例如,单体(A-1))为能够成为由式S-1表示的构成单元的单体,具有为-NH-SO2-的连接基团的单体(例如,单体(A-12))为能够成为由式S-2表示的构成单元的单体。
另外,下述示例中,Me表示甲基。
[化学式25]
[化学式26]
高分子化合物2-1优选包含由式S-1表示的构成单元及由下述式S-2表示的构成单元中的至少一种的碱可溶性的聚合物。高分子化合物2-1中所包含的由式S-1或式S-2表示的构成单元可以单独含有1种,也可以同时使用2种以上。
相对于高分子化合物2-1中的单体单元的总量,由式S-1或式S-2表示的构成单元(其中,换算成单体单元。)的含量优选为10摩尔%~100摩尔%,更优选为20摩尔%~90摩尔%,进一步优选为30摩尔%~80摩尔%,最优选为30摩尔%~70摩尔%。
-其他构成单元-
高分子化合物2-1可以是包含除由上述式S-1或式S-2表示的构成单元以外的其他构成单元的共聚物。作为其他构成单元,可举出源自在单体的侧链结构中具有烷基、芳基等取代基的疏水性单体的构成单元或源自在单体的侧链结构中具有酸性基团、酰胺基、羟基或环氧乙烷基等的亲水性单体的构成单元等,能够根据目的从它们中适当选择,但是对于所共聚的单体种类的选择,需要在不损害高分子化合物2-1的碱可溶性的范围内进行。
作为本公开所涉及的高分子化合物2-1中能够使用的其他共聚成分,可举出(甲基)丙烯酰胺、N-取代(甲基)丙烯酰胺、N-取代马来酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、具有聚氧乙烯链的(甲基)丙烯酸酯、2-羟基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯、苯乙烯磺酸、邻乙烯基苯酸、对乙烯基苯酸或间乙烯基苯酸、乙烯基吡啶、N-乙烯基己内酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸、衣康酸、马来酸、缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯、水解乙酸乙烯酯、乙烯基膦酸等。它们中,作为优选的共聚成分,可举出N-苄基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸等。
以下,示出能够形成其他共聚成分的构成单元的单体的例(例示单体(A-28)~(A-47))。
另外,下述示例中,Me表示甲基,Et表示乙基。
[化学式27]
-分子量-
高分子化合物2-1的数均分子量(Mn)优选在10,000~500,000的范围内,更优选在10,000~200,000的范围内,最优选在10,000~100,000的范围内。并且,重均分子量(Mw)优选在10,000~1,000,000的范围内,更优选在20,000~500,000的范围内,最优选在20,000~200,000的范围内。
以下,通过各构成单元的组合,将能够优选用于本公开所涉及的平板印刷版原版的高分子化合物2-1的构成例示于下述。另外,本公开中所使用的高分子化合物2-1并不限定于此。
[表4]
-含量-
并且,在本公开所涉及的图像记录层包含高分子化合物2-1的情况下,相对于图像记录层的总质量,高分子化合物2-1的含量优选为10~90质量%,更优选为20~80质量%,进一步优选为30~80质量%。
〔高分子化合物2-2〕
-由式EV-1表示的构成单元及由式EV-2表示的构成单元-
本公开中所使用的高分子化合物2-2包含由下述式EV-1表示的构成单元及由下述式EV-2表示的构成单元。
[化学式28]
式EV-1或式EV-2中,L表示二价的连接基团,x为0或1,R1表示具有至少一个羟基的芳香环或杂芳香环,R2及R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的线状或支链状或者环状的烷基、可以具有取代基的线状或支链状或者环状的烯基、或者可以具有取代基的芳香环、或者可以具有取代基的杂芳香环。
式EV-1中,R1表示具有至少一个羟基的芳香环或杂芳香环,羟基可以相对于与L的键合部位在邻位、间位、对位中的任一个上具有。
作为芳香环的优选的例子,可举出苯基、苄基、甲苯基、邻二甲苯基、间二甲苯基、对二甲苯基、萘基、蒽基及菲基。
作为杂芳香环的优选的例子,可举出呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡唑基及苯硫基。
这些芳香环或杂芳香环还可以具有除氢氧基以外的取代基,作为取代基,可举出甲基、乙基等烷基、甲氧基、乙氧基等烷氧基、芳氧基、硫代烷基、硫代芳基、-SH、偶氮烷基、偶氮苯基等偶氮基、硫代烷基、氨基、乙烯基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基或杂脂环式基团。
R1优选具有羟基的羟基苯基或羟基萘基,更优选羟基苯基。
作为羟基苯基,可举出2-羟基苯基、3-羟基苯基或4-羟基苯基。
作为羟基萘基,可举出2,3-二羟基萘基、2,4-二羟基萘基或2,5-二羟基萘基、1,2,3-三羟基萘基及羟基萘基。
羟基苯基或羟基萘基可以具有取代基,作为优选的取代基,可举出甲氧基、乙氧基等烷氧基。
式EV-1中,L表示二价的连接基团,优选表示亚烷基、亚芳基、杂亚芳基、-O-、-C(=O)-、-C(=O)O-、-C(=O)-NH-、-NH-C(=O)-、-NH-C(=O)-O-、-O-C(=O)-NH-、-NH-C(=O)-NH-、-NH-C(=S)-NH-、-S(=O)-、-S(=O)2-、-CH=N-、-NH-NH-或由它们的键表示的基团。
上述亚烷基、亚芳基或杂亚芳基可以具有取代基,作为取代基,可举出烷基、羟基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、烷氧基及膦酸基或其盐。
L更优选亚烷基、亚芳基或杂亚芳基,进一步优选-CH2-、-CH2-CH2-、-CH2-CH2-CH2-或亚苯基。
由式EV-1表示的构成单元更优选由下述式EV-1A表示的构成单元。
[化学式29]
式EV-1A中,R1与上述式EV-1中的R1含义相同,优选的方式也相同。
式EV-2中,R2及R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的线状或支链状或者环状的烷基、可以具有取代基的线状或支链状或者环状的烯基、或者可以具有取代基的芳香环、或者可以具有取代基的杂芳香环。
作为烷基,可举出甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、氯甲基、三氯甲基、异丙基、异丁基、异戊基、新戊基、1-甲氧基丁基、异己基、环丙基、环丁基、环戊基、环己基及甲基环己基。
作为烯基,可举出乙烯基、正丙烯基、正丁烯基、正戊烯基、正己烯基、异丙烯基、异丁烯基、异戊烯基、新戊烯基、1-甲基丁烯基、异己烯基、环戊烯基、环己烯基及甲基环己烯基。
作为卤素原子,可举出氯原子。
作为芳香环,可优选举出苯基、苄基、甲苯基、邻二甲苯基、间二甲苯基、对二甲苯基、萘基、蒽基及菲基等芳基。
作为杂芳香环,可举出呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡唑基及苯硫基等。
优选R2及R3分别独立地表示氢原子、氯原子或甲基,更优选表示氢原子。
作为上述烷基、烯基、芳香环或杂芳香环中的取代基,可举出甲氧基、乙氧基等烷氧基、硫代烷基及-SH。
芳香环或杂芳香环可以具有芳氧基、硫代芳基、偶氮烷基及偶氮芳基等偶氮基或氨基来作为取代基。
由式EV-2表示的构成单元更优选由下述式EV-2A表示的构成单元。
[化学式30]
式EV-2A中,R2与上述式EV-2中的R2含义相同,优选的方式也相同。
相对于高分子化合物2-2中的单体单元的总量,由式EV-1表示的构成单元的含量(其中,换算成单体单元。)优选为10摩尔%以上,更优选为10~55摩尔%,进一步优选为15~45摩尔%,尤其优选为20~35摩尔%。
相对于高分子化合物2-2中的单体单元的总量,由式EV-2表示的构成单元的含量(其中,换算成单体单元。)优选为15摩尔%以上,更优选为15~60摩尔%,进一步优选为20~50摩尔%,尤其优选为25~45摩尔%。
并且,相对于高分子化合物2-2中的单体单元的总量,由式EV-1表示的构成单元及由式EV-2表示的构成单元的总含量(其中,换算成单体单元。)优选为50~90摩尔%,更优选为60~80摩尔%,进一步优选为65~75摩尔%。
-其他构成单元-
高分子化合物2-2还可以含有除由式EV-1表示的构成单元及由式EV-2表示的构成单元以外的其他构成单元。
作为其他构成单元,可举出由下述式EV-3表示的源自乙烯醇的构成单元及由下述式EV-4表示的构成单元。
[化学式31]
式EV-4中,RA1表示氢原子、可以具有取代基的线状或支链状或者环状的烷基、可以具有取代基的芳香环或者可以具有取代基的杂芳香环。
上述烷基、芳香环或杂芳香环中的取代基,可举出甲氧基及乙氧基等烷氧基、硫代烷基以及-SH。
并且,作为芳香环或杂芳香环芳氧基中的取代基,可举出芳氧基、硫代芳基、偶氮基及氨基。
相对于高分子化合物2-2中的单体单元的总量,由式EV-3表示的构成单元的含量(其中,换算成单体单元。)优选为10~60摩尔%,更优选为15~50摩尔%,进一步优选为20~30摩尔%。
相对于高分子化合物2-2中的单体单元的总量,由式EV-4表示的构成单元的含量(其中,换算成单体单元。)优选为0~10摩尔%,更优选小于8摩尔%,进一步优选为0摩尔%以上且小于3摩尔%,尤其优选为0摩尔%以上且小于1摩尔%。
并且,作为高分子化合物2-2,优选由下述式VA表示的聚乙烯醇缩醛。
[化学式32]
式VA中,R1表示具有至少一个羟基的芳香环或杂芳香环,R2A表示可以具有取代基的烷基,a为10~55摩尔%,b为15~60摩尔%,c为10~60摩尔%,d为0~10摩尔%。
式VA中,R1与上述式EV-1中的R1含义相同,优选的方式也相同。
式VA中,R2A表示可以具有取代基的烷基,优选甲基。
式VA中,a优选为20~50摩尔%,更优选为25~45摩尔%。
式VA中,b优选为15~45摩尔%,更优选为20~35摩尔%。
式VA中,c优选为15~50摩尔%,更优选为20~30摩尔%。
式VA中,d优选为0摩尔%以上且小于3摩尔%,更优选为0摩尔%以上且小于1摩尔%。
以下,对本公开中优选使用的高分子化合物2-2的具体例进行记载。具体例中,Mn表示数均分子量。并且,本公开中所使用的高分子化合物2-2并不限定于此。
另外,下述具体例中的化合物是随机具有由[]划分的构成单元的无规共聚物,而不是嵌段共聚物。
另外,下述示例中,Me表示甲基。
[化学式33]
[化学式34]
[化学式35]
本公开中所使用的高分子化合物2-2的数均分子量(Mn)优选为1,500以上,更优选为3,000以上且300,000以下,进一步优选为10,000以上且150,000以下。
本公开所涉及的高分子化合物2-2还可以含有除由上述式EV-1~式EV-2表示的构成单元以外的构成单元。
例如,可举出美国专利第5,169,897号说明书、国际公开第1993/3068号、美国专利第5,534,381号说明书、美国专利第5,698,360号说明书、日本特开平11-212252号公报、日本特开平11-231535号公报,日本特开2000-039707号公报、日本特开2000-275821号公报、日本特开2000-275823号公报、美国专利第6,087,066号说明书,国际公开第2001/9682号,美国专利第6,270,938号说明书,美国专利第6,596,460号说明书、国际公开第2002/73315号、国际公开第2002/96961号、美国专利第6,818,378号说明书、国际公开第2004/20484号、国际公开第2007/3030号、国际公开第2009/5582号及国际公开第2009/99518号等中所记载的构成单元。
高分子化合物2-2能够使用公知的起始材料及反应条件来制备。
例如,可举出美国专利第6,541,181号说明书、美国专利第4,665,124号说明书、美国专利第4,940,646号说明书、美国专利第5,169,898号说明书、美国专利第5,700,619号说明书、美国专利第5,792,823号说明书、美国专利第5,849,842号说明书、国际公开第93/03068号、德国专利第10011096号说明书、德国专利第3404366号说明书、美国专利第09/751,660号说明书、国际公开第01/09682号、国际公开第03/079113号、国际公开第2004/081662号、国际公开第2004/020484号、国际公开第2008/103258号及日本特开平9-328,519号公报中所记载的方法。
-含量-
并且,在本公开所涉及的图像记录层包含高分子化合物2-2的情况下,相对于图像记录层的总质量,高分子化合物2-2的含量优选为10~90质量%,更优选为20~80质量%,进一步优选为30~80质量%。
〔红外线吸收剂〕
本公开中的图像记录层含有红外线吸收剂。
作为红外线吸收剂,只要是吸收红外光并产生热的染料,则并没有特别限制,能够使用作为红外线吸收剂而已知的各种染料。
作为本公开中能够使用的红外线吸收剂,可举出国际公开第2016/047392号的0075段至0085段中所记载的红外线吸收剂。
作为在这些染料中尤其优选的染料,可举出花青色素、酞菁染料、氧杂菁染料、方酸菁色素、吡喃鎓盐、硫代吡喃鎓染料、镍硫醇络合物。而且,在将由下述式(a)表示的花青色素用于本公开的正型平板印刷版原版中的上层的情况下,通过曝光解除溶解抑制作用良好,且稳定性、经济性优异,因此最优选。
[化学式36]
式(a)中,X1表示氢原子、卤素原子、二芳基氨基、-X2-L1或由下述式(b)表示的基团。X2表示氧原子或硫原子,L1表示碳原子数1~12的烃基、具有杂原子的芳香族环或含有杂原子的碳原子数1~12的烃基。另外,在此杂原子表示N、S、O、卤素原子或Se。
[化学式37]
上述式(b)中,Xa-具有与后述的Za-相同的定义,Ra表示选自氢原子、烷基、芳基、取代或未取代的氨基、卤素原子中的取代基。
R21及R22分别独立地表示碳原子数1~12的烃基。从正型平板印刷版原版的保存稳定性的观点考虑,R21及R22优选碳原子数为2个以上的烃基,进而,尤其优选R21与R22彼此键合而形成5元环或6元环。
Ar1、Ar2可以分别相同,也可以不同,且表示可以具有取代基的芳香烃基。作为优选的芳香烃基,可举出苯环及萘环。并且,作为优选的取代基,可举出碳原子数1~12的烃基、卤素原子、碳原子数1~12的烷氧基。
Y11、Y12可以分别相同,也可以不同,且表示硫原子或碳原子数3~12的二烷基亚甲基。R23及R24可以分别相同,也可以不同,且表示可以具有取代基的碳原子数1~20的烃基。作为优选的取代基,可举出碳原子数1~12的烷氧基、羧基、磺基。
R25、R26、R27及R28可以分别相同,也可以不同,且表示氢原子或碳原子数1~12的烃基。从原料的获得性考虑,优选氢原子。并且,Za-表示抗衡阴离子。其中,由式(a)表示的花青色素在其结构内具有阴离子性取代基,无需中和电荷时,不需要Za-。从正型平板印刷版原版的保存稳定性的观点考虑,优选的Za-为卤化物离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子及磺酸根离子,尤其优选高氯酸根离子、六氟磷酸根离子及芳基磺酸根离子。
作为能够优选使用的式(a)所表示的花青色素的具体例,能够举出日本特开2001-133969号公报的0017~0019段、日本特开2002-040638号公报的0012~0038段、日本特开2002-023360号公报的0012~0023段中所记载的花青色素。作为红外线吸收剂,尤其优选以下所示的花青染料A。
[化学式38]
作为本公开所涉及的图像记录层中的红外线吸收剂的含量,相对于图像记录层的总质量,优选为0.01~50质量%,更优选为0.1~30质量%,尤其优选为1.0~30质量%。若含量为0.01质量%以上,则成为高灵敏度,并且,若为50质量%以下,则层的均匀性良好,且层的耐久性优异。
〔其他碱可溶性树脂〕
本公开所涉及的图像记录层还可以含有除高分子化合物1、高分子化合物2-1、高分子化合物2-2以外的其他碱可溶性树脂。
本公开中,“碱可溶性”是指在30℃、pH13.0的氢氧化钠水溶液5g中0.01g的树脂在200秒以内溶解。另外,溶解表示通过肉眼观察无法确认到溶解物的残留的状态。
作为本公开的图像记录层中所使用的其他碱可溶性树脂,只要具有与碱性显影液接触而溶解的特性,则并没有特别限制,优选在高分子中的主链及侧链中的至少一个上具有磺酸基、磷酸基、磺酰胺基、活性酰亚胺基等酸性官能团的碱可溶性树脂,可举出这种含有10摩尔%以上的具有赋予碱可溶性的酸性官能团的单体的树脂,更优选含有20摩尔%以上的树脂。若赋予碱可溶性的单体的共聚成分为10摩尔%以上,则可以充分获得碱可溶性,并且显影性优异。
并且,作为其他碱可溶性树脂,还优选举出酚醛清漆树脂。
作为本公开所涉及的图像记录层中能够使用的酚醛清漆树脂,优选举出苯酚甲醛树脂、间甲酚甲醛树脂、对甲酚甲醛树脂、间/对混合甲酚甲醛树脂、苯酚/甲酚(可以是间、对或间/对混合中的任一种。)混合甲醛树脂等酚醛清漆树脂或邻苯三酚丙酮树脂。
此外,如美国专利第4,123,279号说明书中所记载,可举出叔丁基酚甲醛树脂、辛基酚甲醛树脂等具有碳原子数3-8的烷基作为取代基的苯酚与甲醛的缩聚体。并且,优选其重均分子量(Mw)为500以上,更优选为1,000~700,000。并且,优选其数均分子量(Mn)为500以上,更优选为750~650,000。分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1~10。
上述其他碱可溶性树脂优选重均分子量为2,000以上且数均分子量为500以上的树脂,更优选重均分子量为5,000~300,000且数均分子量为800~250,000。并且,上述其他碱可溶性树脂的分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1~10。
本公开所涉及的图像记录层中根据需要所含的其他碱可溶性树脂可以单独使用1种,也可以同时使用2种以上。
相对于图像记录层的总质量,本公开所涉及的图像记录层中的其他碱可溶性树脂的含量优选为0~80质量%的含量,更优选为0~70质量%。并且,相对于本公开所涉及的图像记录层中所使用的高分子化合物1及2的总量100质量份,优选以80质量份以下的比例来包含。
〔酸产生剂〕
从提高灵敏度的观点考虑,优选本公开所涉及的图像记录层中含有酸产生剂。
在本公开中,酸产生剂是指利用光或热产生酸的化合物,是指通过红外线的照射或100℃以上的加热而分解从而产生酸的化合物。作为所产生的酸,优选磺酸、盐酸等pKa为2以下的强酸。通过由该酸产生剂产生的酸,对曝光部图像记录层的显影液的渗透性变高,从而图像记录层对碱水溶液的溶解性获得进一步提高。
作为本公开所涉及的图像记录层中优选使用的酸产生剂,可举出国际公开第2016/047392号的0116段至0130段中所记载的酸产生剂。
其中,从灵敏度和稳定性的观点考虑,优选使用鎓盐化合物作为酸产生剂。以下,对鎓盐化合物进行说明。
作为本公开所涉及的图像记录层中能够优选使用的鎓盐化合物,能够举出作为利用红外线曝光及通过曝光由红外线吸收剂产生的热能分解而产生酸的化合物而周知的化合物。作为适合于本公开所涉及的图像记录层中的鎓盐化合物,从灵敏度的观点考虑,能够举出公知的热聚合引发剂或具有键合解离能较小的键且具有以下描述的鎓盐结构的化合物。
作为本公开所涉及的图像记录层中优选使用的鎓盐,能够举出公知的重氮盐、碘盐、锍盐、铵盐、吡啶鎓盐、吖嗪鎓盐等,其中优选三芳基锍或二芳基碘的磺酸盐、羧酸盐、BF4 -、PF6 -、ClO4 -等。
作为本公开所涉及的正型平板印刷版原版的图像记录层中可以用作酸产生剂的鎓盐,可举出下述式(III)~(V)所表示的鎓盐。
[化学式39]
上述式(III)中,Ar11和Ar12分别独立地表示可以具有取代基的碳原子数6~20的芳基。作为该芳基具有取代基时的优选的取代基,可举出卤素原子、硝基、碳原子数1~12的烷基、碳原子数1~12的烷氧基、或碳原子数1~12的芳氧基。Z11-表示选自包括卤化物离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、磺酸根离子及全氟烷基磺酸根离子等具有氟原子的磺酸根离子的组中的抗衡离子,优选高氯酸根离子、六氟磷酸根离子、芳基磺酸根离子及全氟烷基磺酸。
上述式(IV)中,Ar21表示可以具有取代基的碳原子数6~20的芳基。作为优选的取代基,可举出卤素原子、硝基、碳原子数1~12的烷基、碳原子数1~12的烷氧基、碳原子数1~12的芳氧基、碳原子数1~12的烷基氨基、碳原子数2~12的二烷基氨基、碳原子数6~12的芳基氨基或二芳基氨基(分别独立地,芳基的碳原子数为6~12)。Z21-表示与Z11-的含义相同的抗衡离子。
上述式(V)中,R31、R32及R33可以分别相同也可以不同,表示可以具有取代基的碳原子数1~20的烃基。作为优选的取代基,可举出卤素原子、硝基、碳原子数1~12的烷基、碳原子数1~12的烷氧基或碳原子数1~12的芳氧基。Z31-表示与Z11-的含义相同的抗衡离子。
本公开所涉及的图像记录层中,能够优选使用的鎓盐的具体例与国际公开第2016/047392号的0121段至0124段中所记载的化合物相同。
并且,作为上述式(III)~式(V)所表示的化合物的另一例,能够将日本特开2008-195018号公报的0036~0045段中作为自由基聚合引发剂的例子而记载的化合物优选用作本公开所涉及的图像记录层中的酸产生剂。
作为本公开所涉及的图像记录层中能够使用的酸产生剂的更优选的例子,可举出由下述式PAG-1~式PAG-5表示的化合物。另外,式PAG-1~式PAG-5中,Me表示甲基。
[化学式40]
在使本公开所涉及的图像记录层中含有这些酸产生剂的情况下,这些化合物可以单独使用,并且也可以组合使用2种以上。
相对于图像记录层的总质量,酸产生剂的含量在0.01~50质量%的范围内,优选在0.1~40质量%的范围内,更优选在0.5~30质量%的范围内。含量在上述范围时呈现添加酸产生剂的效果即提高灵敏度,并且非图像部中的残膜的产生得到抑制。
〔酸增殖剂〕
本公开所涉及的图像记录层可以含有酸增殖剂。本公开所涉及的图像记录层中的酸增殖剂是指被比较强酸的残基取代的化合物,是在酸催化剂的存在下轻松脱离而产生新的酸的化合物。即,通过酸催化剂反应分解而再次产生酸。在1反应中增加一个以上的酸,随着反应的进行,酸浓度加速增加,由此灵敏度大幅提高。该产生的酸的强度作为酸解离常数(pKa)优选为3以下,更优选为2以下。作为酸解离常数,若为3以下,则容易引发基于酸催化剂的脱离反应。
作为这种酸催化剂中所使用的酸,可举出二氯乙酸、三氯乙酸、甲磺酸、乙磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、萘磺酸、苯基磺酸等。
能够使用的酸增殖剂与国际公开第2016/047392号的0133段至0135段中所记载的酸增殖剂相同。
作为这些酸增殖剂的含量,相对于本公开所涉及的图像记录层的总质量,在0.01~20质量%的范围内,优选在0.01~10质量%的范围内,更优选在0.1~5质量%的范围内。酸增殖剂的含量在上述范围时,可以充分获得添加酸增殖剂的效果,并可以实现灵敏度的提高,并且可以抑制图像部的膜强度下降。
〔其他添加剂〕
本公开所涉及的图像记录层可以包含显影促进剂、表面活性剂、印相剂/着色剂、增塑剂、蜡剂等来作为其他添加剂。它们能够使用与国际公开第2016/047392号的0138段至0142段的记载相同的添加剂。
〔各成分的组成比〕
相对于本公开所涉及的图像记录层的总质量,高分子化合物1的含量优选为10~90质量%,高分子化合物2-1或高分子化合物2-2的含量优选为10~90质量%,红外线吸收剂的含量优选为0.01~50质量%,其他碱可溶性树脂的含量优选为0~80质量%,酸产生剂的含量优选为0~30质量%,酸增殖剂的含量优选为0~20质量%,显影促进剂的含量优选为0~20质量%,表面活性剂的含量优选为0~5质量%,印相剂/着色剂的含量优选为0~10质量%,增塑剂的含量优选为0~10质量%,蜡剂的含量优选为0~10质量%。
在本公开所涉及的图像记录层包含高分子化合物2-1的情况下,本公开所涉及的图像记录层中所包含的高分子化合物1与高分子化合物2-1的含有比(质量比)优选为高分子化合物1:高分子化合物2-1=1:5~5:1,更优选为1:3~3:1。
在本公开所涉及的图像记录层包含高分子化合物2-2的情况下,本公开所涉及的图像记录层中所包含的高分子化合物1与高分子化合物2-2的含有比(质量比)优选为高分子化合物1:高分子化合物2-2=1:5~5:1,更优选为1:3~3:1。
〔上层及下层〕
本公开所涉及的正型平板印刷版原版中,优选在具有上述亲水性表面的支撑体上具备依次具有下层及上层的记录层,下层及上层的至少一个为上述图像记录层(含有高分子化合物1、高分子化合物2-1或高分子化合物2-2及红外线吸收剂的图像记录层。还称为“本公开所涉及的图像记录层”。)。
还将具有上述下层及上述上层的正型平板印刷版原版称为“双层结构的正型平板印刷版原版”。
本公开中,记录层是指利用热而对碱水溶液的溶解性发生变化的层。优选上述下层及上述上层的每一个均为记录层。
在上述下层及上述上层的任一个为本公开所涉及的图像记录层的情况下,优选其中另一个为另一记录层。
另一记录层是指与本公开所涉及的图像记录层的组成不同的记录层,优选利用热而碱水溶液的溶解性得到提高的记录层。
本公开所涉及的正型平板印刷版原版中,从使用尤其低品质的油墨、纸等材料时的印刷耐久性的观点考虑,优选上述下层为本公开所涉及的图像记录层,且上述上层为另一记录层。
获得如上所述的效果的详细机理虽然不明确,但推测对于印刷中的印刷耐久性而言,下层中所使用的树脂的膜强度非常重要,由此推断由于在本公开所涉及的图像记录层中粘合剂之间的相互作用(氢键等)较强,因此通过将本公开所涉及的图像记录层用于下层,印刷耐久性得到提高。
-下层及上层的形成-
下层及上层优选将两个层分离而形成。
作为将两个层分离而形成的方法,例如可举出利用下层中所含的成分与上层中所含的成分的溶剂溶解性差异的方法或者对上层进行涂布之后快速干燥去除溶剂的方法等。通过同时使用后一方法,可以进一步良好地进行层间的分离,因此优选。
以下,对这些方法进行详述,但将两个层分离并进行涂布的方法并不限定于这些。
作为利用下层中所含的成分与上层中所含的成分的溶剂溶解性差异的方法,在涂布上层用涂布液时,使用下层中所含的成分均不溶的溶剂类。由此,即使进行双层涂布,也能够将各层明确地分离而进行涂膜。例如,作为下层成分,选用不溶于将作为上层成分的碱可溶性树脂溶解的甲乙酮或1-甲氧基-2-丙醇等溶剂中的成分,使用将上述下层成分溶解的溶剂类对下层进行涂布、干燥,其后,将碱可溶性树脂作为主体的上层使用甲乙酮或1-甲氧基-2-丙醇等进行溶解,并进行涂布、干燥,由此能够实现双层化。
接着,作为对第二层(上层)进行涂布之后使溶剂极为快速地干燥的方法,能够通过如下方法来实现:从相对于卷筒纸的行进方向大致呈直角设置的狭缝喷嘴喷吹高压空气的方法或利用将蒸汽等加热介质供给至内部的辊(加热辊),从料片的下表面供给热能作为传导热的方法;或这些方法的组合。
涂布于本公开所涉及的正型平板印刷版原版的支撑体上的下层成分的干燥后的涂布量优选在0.5~4.0g/m2的范围内,更优选在0.6~2.5g/m2的范围内。若为0.5g/m2以上,则印刷耐久性优异,若为4.0g/m2以下,则图像再现性及灵敏度优异。
并且,上层成分的干燥后的涂布量优选在0.05~1.0g/m2的范围内,更优选在0.08~0.7g/m2的范围内。若为0.05g/m2以上,则显影宽容度及耐划伤性优异,若为1.0g/m2以下,则灵敏度优异。
作为合计下层与上层的干燥后的涂布量,优选在0.6~4.0g/m2的范围内,更优选在0.7~2.5g/m2的范围内。若为0.6g/m2以上,则印刷耐久性优异,若为4.0g/m2以下,则图像再现性及灵敏度优异。
〔上层〕
本公开所涉及的双层结构的正型平板印刷版原版的上层可以是本公开所涉及的图像记录层,但优选另一记录层。
本公开所涉及的双层结构的正型平板印刷版原版的上层优选为利用热而对碱水溶液的溶解性获得提高的红外线感应性的正型记录层。
上层中的利用热而对碱水溶液的溶解性获得提高的机理并没有特别限制,只要含有粘合剂树脂且所加热的区域的溶解性获得提高,则均能够使用。作为图像形成中所利用的热,可举出含有红外线吸收剂的下层被曝光时所产生的热。
作为利用热而对碱水溶液的溶解性获得提高的上层,例如优选举出含有酚醛清漆树脂、氨基甲酸酯树脂等具有氢键能的碱可溶性树脂的层、含有水不溶性且碱可溶性树脂和具有溶解抑制作用的化合物的层、含有可烧蚀的化合物的层等。
并且,通过在上层中还添加红外线吸收剂,上层中所产生的热也能够利用于图像形成。作为含有红外线吸收剂的上层的结构,例如优选举出含有红外线吸收剂、水不溶性且碱可溶性树脂及具有溶解抑制作用的化合物的层、含有红外线吸收剂、水不溶性且碱可溶性树脂及酸产生剂的层等。
-水不溶性且碱可溶性树脂-
优选在本公开所涉及的上层中含有水不溶性且碱可溶性树脂。通过含有水不溶性且碱可溶性树脂,在红外线吸收剂与水不溶性且碱可溶性树脂所具有的极性基团之间形成相互作用,从而形成具有正型感光性的层。
以下,对一般的水不溶性且碱可溶性树脂进行详述,但是其中例如能够优选举出聚酰胺树脂、环氧树脂、聚甲醛树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚苯乙烯系树脂、酚醛清漆型苯酚系树脂等。
作为本公开中能够使用的水不溶性且碱可溶性树脂,只要具有若与碱性显影液接触则溶解的特性,则并无特别限制,但是优选为在高分子中的主链和/或侧链上含有酸性基团的均聚物、它们的共聚物或它们的混合物。
作为这种具有酸性基团的水不溶性且碱可溶性树脂,优选具有酚性氢氧基、羧基、磺酸基、磷酸基、磺酰胺基、活性酰亚胺基等官能团。因此,这种树脂能够通过使含有一个以上具有上述官能团的烯属不饱和单体的单体混合物共聚来适当地生成。具有上述官能团的烯属不饱和单体除了丙烯酸、甲基丙烯酸以外,还能够优选例示出下式所表示的化合物及其混合物。另外,下式中,R40表示氢原子或甲基。
[化学式41]
作为本公开中能够使用的水不溶性且碱可溶性树脂,优选为除了上述聚合性单体以外,还使其他聚合性单体共聚而获得的高分子化合物。作为此时的共聚比,优选含有10摩尔%以上如具有酚性氢氧基、羧基、磺酸基、磷酸基、磺酰胺基、活性酰亚胺基等官能团的单体之类的赋予碱可溶性的单体,更优选含有20摩尔%以上。若赋予碱可溶性的单体的共聚成分为10摩尔%以上,则可以充分获得碱可溶性,并且显影性优异。
作为可使用的其他聚合性单体,能够例示出下面举出的化合物。
丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯等丙烯酸烷基酯及甲基丙烯酸烷基酯。丙烯酸2-羟基乙酯或甲基丙烯酸2-羟基乙酯等具有脂肪族氢氧基的丙烯酸酯类及甲基丙烯酸酯类。丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺等丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺。乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等乙烯基酯类。苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯等苯乙烯类。N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、丙烯腈、甲基丙烯腈等其他含氮原子单体。N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-丙基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-2-甲基苯基马来酰亚胺、N-2,6-二乙基苯基马来酰亚胺、N-2-氯苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺、N-羟基苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺类。
在这些其他烯属不饱和单体中,优选使用的是(甲基)丙烯酸酯类、(甲基)丙烯酸酰胺类、马来酰亚胺类、(甲基)丙烯腈。
并且,作为碱可溶性树脂,还优选举出作为本公开所涉及的图像记录层的任意成分而举出作为其他碱可溶性树脂而举出的酚醛清漆树脂。
并且,也能够将上述水不溶性且碱可溶性树脂用于本公开所涉及的图像记录层。
另外,本发明中的上层中能够在不损害本公开所涉及的正型平板印刷版原版的效果的范围内同时使用其他树脂。上层本身尤其在非图像部区域要求显现碱可溶性,因此需选择不损害该特性的树脂。从该观点考虑,作为可同时使用的树脂,可举出水不溶性且碱可溶性树脂。以下,对一般的水不溶性且碱可溶性树脂进行详述,但其中例如能够优选举出聚酰胺树脂、环氧树脂、聚甲醛树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚苯乙烯系树脂、酚醛清漆型苯酚系树脂等。
并且,作为混合的量,相对于上述水不溶性且碱可溶性树脂优选为50质量%以下。
上述水不溶性且碱可溶性树脂优选重均分子量为2,000以上且数均分子量为500以上,更优选重均分子量为5,000~300,000且数均分子量为800~250,000。并且,上述碱可溶性树脂的分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1~10。
本公开中的另一记录层中的碱可溶性树脂可以单独使用1种,也可以同时使用2种以上。
相对于另一记录层的总质量,本公开中的另一记录层中的碱可溶性树脂的含量优选为2.0~99.5质量%,更优选为10.0~99.0质量%,进一步优选为20.0~90.0质量%。若碱可溶性树脂的添加为2.0质量%以上,则记录层(感光层)的耐久性优异,并且若为99.5质量%以下,则灵敏度及耐久性这两者优异。
-红外线吸收剂-
在上述上层中可以包含红外线吸收剂。
作为红外线吸收剂,只要是吸收红外光并产生热的染料,则并无特别限制,同样地能够使用上述的本公开所涉及的图像记录层中所使用的红外线吸收剂。
尤其优选的染料为由上述式(a)表示的花青色素。
通过在上层中含有红外线吸收剂,对红外光的灵敏度变得良好。
作为上层中的红外线吸收剂的添加量,相对于上层的总固体成分优选为0.01~50质量%,更优选为0.1~30质量%,尤其优选为1.0~10质量%。通过添加量为0.01质量%以上,灵敏度得到改良,并且,若为50质量%以下,则层的均匀性良好,且层的耐久性优异。
-其他成分-
此外,双层结构的平板印刷版原版中的上层可以含有酸产生剂、酸增殖剂、显影促进剂、表面活性剂、印相剂/着色剂、增塑剂、蜡剂等。
关于这些成分,同样地能够使用前述的本公开所涉及的图像记录层中所使用的各种成分,优选方式也相同。
〔下层〕
本公开中的双层结构的平板印刷版原版的下层优选本公开所涉及的图像记录层。
通过将本公开所涉及的图像记录层用于下层,能够获得图像形成性及印刷耐久性优异的印刷版。
在将本公开所涉及的图像记录层用于上层的情况下,下层也优选本公开所涉及的图像记录层,但是下层可以是另一记录层。此时的下层的优选方式与上述中说明的上层的优选方式相同。
<具有亲水性表面的支撑体>
作为本公开所涉及的正型平板印刷版原版中所使用的支撑体,只要是具备所需强度和耐久性的尺寸方面稳定的板状物,则并没有特别限制,能够使用与国际公开第2016/047392号的0166段之0169段的记载相同的支撑体。
上述记载中,尤其优选铝支撑体,优选实施了亲水化处理的铝支撑体。
<底涂层>
本公开所涉及的正型平板印刷版原版中,优选在具有上述亲水性表面的支撑体与图像记录层之间具有底涂层。
在本公开所涉及的正型平板印刷版原版为双层结构的平板印刷版的情况下,优选在具有上述亲水性表面的支撑体与下层之间具有底涂层。
作为底涂层成分可以使用各种有机化合物,例如优选举出羧甲基纤维素、糊精等具有氨基的膦酸类、有机膦酸、有机磷酸、有机次膦酸、氨基酸类、以及具有羟基的胺的盐酸盐等。并且,这些底涂层成分可以单独使用1种,也可以混合使用2种以上。底涂层中所使用的化合物的详细内容、底涂层的形成方法记载于日本特开2009-175195号公报的0171~0172段中,它们的记载也适用于本公开。
底涂层的涂覆量优选为2~200mg/m2,更优选为5~100mg/m2。若涂覆量在上述范围内,则可以获得充分的印刷耐久性能。
<背涂层>
在本公开所涉及的平板印刷版原版的支撑体背面根据需要设置有背涂层。作为这种背涂层,优选使用日本特开平5-045885号公报中所记载的有机高分子化合物及日本特开平6-035174号公报中所记载的包括使有机或无机金属化合物水解及缩聚而获得的金属氧化物的涂覆层。这些涂覆层中,Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等硅的烷氧基化合物廉价且易获得,从中获得的金属氧化物的涂覆层的耐显影液优异,因此尤其优选。
(平板印刷版的制作方法)
本公开所涉及的平板印刷版的制作方法的特征在于,依次包含对上述平板印刷版原版进行图像曝光的曝光工序及使用pH8.5~13.5的碱水溶液进行显影的显影工序。
根据本公开所涉及的平板印刷版的制作方法,可获得由非图像部的残膜引起的污垢的产生得到抑制,且印刷耐久性、耐化学性优异的平板印刷版。
以下,对本公开所涉及的平板印刷版的制作方法的各工序进行详细说明。
<曝光工序>
本公开的平板印刷版的制作方法包含对本公开的正型平板印刷版原版进行图像曝光的曝光工序。详细内容与国际公开第2016/047392号的0173段至0175段的记载相同。
<显影工序>
本公开的平板印刷版的制作方法包含使用pH8.5~13.5的碱水溶液(以下,还称为“显影液”。)进行显影的显影工序。
〔显影液〕
显影工序中所使用的显影液为pH8.5~13.5的水溶液,更优选pH12~13.5的碱水溶液。表面活性剂有助于提高处理性。
并且,上述显影液优选包含表面活性剂,更优选至少包含阴离子性表面活性剂或非离子性表面活性剂。表面活性剂有助于提高处理性。
上述显影液中所使用的表面活性剂能够使用阴离子性、非离子性、阳离子性及两性表面活性剂中的任一种,但如已叙述那样,优选阴离子性、非离子性的表面活性剂。
作为本公开的平板印刷版的制作方法中的显影液中所使用的阴离子性、非离子性、阳离子性及两性表面活性剂,能够使用日本特开2013-134341号公报的0128~0131段中所记载的物质。
并且,从对水的稳定的溶解性或混浊性的观点考虑,HLB(亲水亲油平衡值:Hydrophile-Lipophile Balance)值优选为6以上,更优选为8以上。
作为上述显影液中所使用的表面活性剂,优选阴离子性表面活性剂及非离子性表面活性剂,尤其优选含有磺酸或磺酸盐的阴离子性表面活性剂及具有芳香环和环氧乙烷链的非离子表面活性剂。
表面活性剂能够单独使用或者组合使用。
表面活性剂在显影液中的含量优选为0.01~10质量%,更优选为0.01~5质量%。
为了将上述显影液保持为pH8.5~13.5,使碳酸离子、碳酸氢离子作为缓冲剂而存在,由此,即使长时间使用显影液也能够抑制pH的变动,并能够抑制由pH的变动引起的显影性下降、显影残渣的产生等。为了使碳酸离子、碳酸氢离子存在于显影液中,可以将碳酸盐和碳酸氢盐添加到显影液中,也可以通过添加碳酸盐或碳酸氢盐之后调整pH来产生碳酸离子和碳酸氢离子。碳酸盐及碳酸氢盐并没有特别限定,但是优选碱金属盐。作为碱金属,可举出锂、钠、钾,尤其优选钠。它们可以单独使用,也可以组合使用2种以上。
碳酸盐及碳酸氢盐的总量相对于显影液的总质量优选0.3~20质量%,更优选0.5~10质量%,尤其优选1~5质量%。若总量为0.3质量%以上,则显影性、处理能力不会下降,若为20质量%以下,则难以产生沉淀或晶体,进而在显影液的废液处理时、中和时难以凝胶化,不会妨碍废液处理。
显影工序之后,优选连续地或不连续地设置干燥工序。利用热风、红外线、远红外线等进行干燥。
作为在本公开的平板印刷版的制作方法中优选使用的自动处理机,使用具有显影部和干燥部的装置,在显影槽中对正型平板印刷版原版进行显影和涂胶,然后,在干燥部进行干燥而获得平板印刷版。
并且,以提高印刷耐久性等为目的,也能够在非常强的条件下对显影后的印刷版进行加热。加热温度优选在200~500℃的范围内。若温度较低,则无法获得充分的图像强化作用,当过高时有可能产生支撑体的劣化、图像部的热分解等问题。
对于如此获得的平板印刷版,安装于胶版印刷机上,优选使用于多张印刷。
以下,根据实施例对本发明进行详细说明。关于以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理顺序等只要不脱离本发明的实施方式的主旨,则能够适当地变更。因此,本发明的实施方式的范围不限定于以下所示的具体例。另外,本实施例中,所谓“份”、“%”,只要无特别说明,则是指“质量份”、“质量%”。
以下,实施例中的化合物PU-1~化合物PU-20、化合物PT-1~化合物PT-20、化合物PC-1~化合物PC-14、化合物PA-1~化合物PA-12及化合物PE-1~化合物PE-19分别表示与上述具体例中所示的化合物PU-1~化合物PU-20、化合物PT-1~化合物PT-20、化合物PC-1~化合物PC-14、化合物PA-1~化合物PA-12及化合物PE-1~化合物PE-19相同的化合物。
(实施例)
<化合物PU-1~化合物PU-20、化合物PT-1~化合物PT-20、化合物PC-1~化合物PC-14的合成>
化合物PU-1~化合物PU-20、化合物PT-1~化合物PT-20、化合物PC-1~化合物PC-14是参考国际公开第2016/133072号中所记载的方法进行了合成。
<化合物PA-1~化合物PA-12的合成>
化合物PA-1~化合物PA-12是参考欧洲专利第1826001号说明书中所记载的方法进行了合成。
<化合物PE-1~化合物PE-12的合成>
化合物PE-1~化合物PE-12是参考国际申请第2014/106554号中所记载的方法进行了合成。
<支撑体的制作>
对厚度0.3mm的材质1S的铝合金板实施下述(A-a)~(A-k)所示的处理来制造出平板印刷版用支撑体。另外,在所有的处理工序之间实施水洗处理,水洗处理之后用轧辊进行了除液。
(A-a)机械粗糙化处理(刷粒法(brush grain method))
将研磨剂的悬浮液(比重1.1g/cm3)作为研磨浆液,一边向铝板的表面供给,一边利用旋转的硬毛束刷进行了机械粗糙化处理。
将研磨材料的中位直径(μm)设为30μm,将刷根数设为4根,将刷的转速(rpm)设为250rpm。硬毛束刷的材质为6/10尼龙,刷毛的直径为0.3mm、毛长为50mm。关于刷,在φ300mm的不锈钢制筒上开孔并密集地植毛。硬毛束刷下部的两根支撑辊(φ200mm)的距离为300mm。硬毛束刷被按压直至使刷旋转的驱动马达的负荷相对于将硬毛束刷按压在铝板之前的负荷增加10kW。刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。
(A-b)碱蚀刻处理
在温度70℃下,利用喷管对上述所获得的铝板喷吹苛性钠浓度26质量%、铝离子浓度6.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。其后,通过喷射进行了水洗。铝溶解量为10g/m2。
(A-c)酸性水溶液中的去污处理
接着,在硝酸水溶液中进行了去污处理。用于去污处理的硝酸水溶液使用了用于下一工序的电化学粗糙化的硝酸的废液。其液温为35℃。通过喷射喷吹去污液来进行了3秒去污处理。
(A-d)电化学粗糙化处理
使用硝酸电解60Hz的交流电压连续进行了电化学粗糙化处理。此时的电解液使用了在温度35℃、硝酸10.4g/L的水溶液中添加硝酸铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。作为交流电源波形,使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空(duty)比为1:1的梯形的矩形波交流,并将碳电极作为对电极来进行了电化学粗糙化处理。辅助阳极使用了铁素体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2,使从电源流过的电流的5%分流到辅助阳极。电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为185C/dm2。其后,通过喷射进行了水洗。
(A-e)碱蚀刻处理
在温度50℃下,利用喷管对上述所获得的铝板喷吹苛性钠浓度5质量%、铝离子浓度0.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。其后,通过喷射进行了水洗。铝溶解量为0.5g/m2。
(A-f)酸性水溶液中的去污处理
接着,在硫酸水溶液中进行了去污处理。用于去污处理的硫酸水溶液使用了硫酸浓度170g/L、铝离子浓度5g/L的液。其液温为30℃。通过喷射喷吹去污液来进行了3秒去污处理。
(A-g)电化学粗糙化处理
使用盐酸电解60Hz的交流电压连续进行了电化学粗糙化处理。电解液使用了在液温35℃、盐酸6.2g/L的水溶液中添加氯化铝而将铝离子浓度调整为4.5g/L的电解液。使用电流值从零达到峰值为止的时间tp为0.8msec、占空比为1:1的梯形的矩形波交流,并将碳电极作为对电极来进行了电化学粗糙化处理。辅助阳极使用了铁素体。
电流密度以电流的峰值计为25A/dm2,盐酸电解中的电量(C/dm2)以铝板为阳极时的电量总和计为63C/dm2。其后,通过喷射进行了水洗。
(A-h)碱蚀刻处理
在温度50℃下,利用喷管对上述所获得的铝板喷吹苛性钠浓度5质量%、铝离子浓度0.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。其后,通过喷射进行了水洗。铝溶解量为0.1g/m2。
(A-i)酸性水溶液中的去污处理
接着,在硫酸水溶液中进行了去污处理。具体而言,使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(在硫酸170g/L水溶液中溶解有铝离子5g/L),在液温35℃下进行了4秒去污处理。通过喷射喷吹去污液来进行了3秒去污处理。
(A-j)阳极氧化处理
使用两级供电电解处理法的阳极氧化装置(第一及第二电解部长度各为6m、第一及第二供电部长度各为3m、第一及第二供电极部长度各为2.4m)进行了阳极氧化处理。使用了硫酸作为向第一及第二电解部供给的电解液。电解液的硫酸浓度均为50g/L(含有铝离子0.5质量%。),温度均为20℃。其后,通过喷射进行了水洗。
(A-k)硅酸盐处理
为了确保非图像部的亲水性,使用2.5质量%的3号硅酸钠水溶液在50℃下浸泡7秒来实施硅酸盐处理。Si的附着量为10mg/m2。然后,通过喷射进行了水洗。
<底涂层的形成>
在如上述那样制作出的支撑体上涂布以下所示的底涂层涂布液1之后,在80℃下干燥15秒来设置底涂层来作为支撑体。干燥后的涂覆量为15mg/m2。
〔底涂层涂布液1〕
·重均分子量2.8万的下述共聚物:0.3份
(下述结构式中,Et表示乙基,括号右下方的数值表示摩尔比。)
·甲醇:100份
·水:1份
[化学式42]
<记录层的形成>
通过线棒,将下述组成的下层形成用涂布液组合物(I)涂布于所获得的支撑体之后,在150℃的干燥烘箱中干燥40秒而使涂布量成为1.0g/m2来设置了下层。设置下层之后,利用线棒涂布下述组成的上层形成用涂布液组合物(II)而设置了上层。涂布后,在150℃下进行40秒干燥,获得合计下层与上层的涂布量为1.2g/m2的平板印刷版原版。
〔下层形成用涂布液组合物(I)〕
·表5~表7中所记载的高分子化合物1:表5~表7中所记载的量
·表5~表7中所记载的高分子化合物2-1或2-2:表5~表7中所记载的量
·间、对甲酚酚醛清漆(间/对比=6/4、重均分子量6,000):0.6份
·红外线吸收剂(IR色素(1):下述结构):0.2份
·4,4’-双羟基苯基砜:0.3份
·四氢邻苯二甲酸:0.4份
·对甲苯磺酸:0.02份
·3-甲氧基-4-重氮二苯基胺六氟磷酸盐:0.06份
·将乙基紫的抗衡离子变更为6-羟基萘磺酸的化合物:0.15份
·氟系表面活性剂(MEGAFACE F-780,DIC Corporation):0.07份
·甲乙酮:30份
·1-甲氧基-2-丁内酯:15份
·γ-丁内酯:15份
[化学式43]
IR色素(1)
〔上层形成用涂布液组合物(II)〕
·酚醛清漆树脂(间甲酚/对甲酚/苯酚=3/2/5,Mw8,000):0.68份
·红外线吸收剂(IR色素(1):上述结构):0.045份
·氟系表面活性剂(MEGAFACE F-780,DIC Corporation制造):0.03份
·甲乙酮:15.0份
·1-甲氧基-2-丙醇:30.0份
·1-(4-甲基苄基)-1-苯基哌啶鎓的5-苯甲酰基-4-羟基-2-甲氧基苯磺酸盐:0.01份
使用所获得的平板印刷版原版,进行以下评价,并将结果记载于下述表5~表7中。
<平板印刷版原版的评价>
〔图像部的耐溶解性和非图像部显影时间的评价〕
对于各实施例及比较例中的正型平版印刷版原版,利用Creo公司制造的Trendsetter VX,在光束强度9W、滚筒转速150rpm下,将测试图案以图像状描刻。
然后,浸渍于装入有FUJIFILM Co.,Ltd.制造的显影液XP-D(进行稀释而将电导率设为43mS/cm的显影液)的显影浴中,在显影温度30℃下测定了至图像部开始溶解为止的时间及非图像部的显影所需的时间。
至图像部开始溶解为止的时间设为图像部中的光学浓度(OD值)的测定值从显影处理之前的图像部中的光学浓度的测定值减小0.05为止的时间。并且,将非图像部中的光学浓度的测定值与Al支撑体的光学浓度的测定值之差成为0.02以下的浸渍时间设为非图像部显影时间。光学浓度均使用GretagMacbeth公司制造的分光光度计SpectroEye来进行了测定。
至图像部的溶解开始为止的时间越长,对碱水溶液的耐性越良好。并且,非图像部显影时间越短,非图像部中的对碱水溶液的溶解性越良好,且碱水溶液显影性(高亮再现性)越良好。因此,在正型平板印刷版原版中,图像部溶解开始时间越长,非图像部显影时间越短,且图像部溶解开始时间与非图像部显影时间之差越大,则评价为显影性越优异。将结果示于表5~表7中。
〔印刷耐久性的评价〕
对于各实施例及比较例中的正型平版印刷版原版,利用Creo公司制造的Trendsetter,在光束强度9W、滚筒转速150rpm下,将测试图案以图像状描刻。然后,使用装入有FUJIFILM Co.,Ltd.制造的显影液XP-D(进行稀释而将电导率设为43mS/cm的显影液)的Fuji Shashin Fuirumu Kabushiki Kaisha.制造的PS处理器LP940H,在显影温度为30℃下且显影时间为表5~表7中所记载的非图像部显影时间的条件下进行了显影。使用KOMORICorporation制印刷机LITHRONE,对其进行了连续印刷。就油墨而言,使用含有碳酸钙的东洋特制墨水油墨作为低品质材料的模型。此时,通过肉眼观察测定在保持充分的油墨浓度下能够印刷多少张,并评价了印刷耐久性。张数越多,评价为印刷耐久性越优异。将结果示于表5~表7中。
〔耐化学性的评价〕
对于各实施例及比较例中的正型平版印刷版原版,以与上述印刷耐久性的评价相同的方式进行了曝光、显影及印刷。此时,每印刷5,000张时加入用清洁剂(FUJIFILM Co.,Ltd.制,Multicleaner)擦拭版面的工序,评价了耐化学性。将此时的印刷耐久性为所述耐刷张数的95%以上且100%以下的设为1,将为80%以上且小于95%的设为2,将为60%以上且小于80%的设为3,将小于60%的设为4。即使在加入用清洁剂擦拭版面的工序的情况下,也评价为耐刷指数的变化越小,耐化学性越优异。将结果示于以下表5~表7中。
〔曝光经时后的曝光部显影时间〕
对于各实施例及比较例中的正型平版印刷版原版,利用Creo公司制造的Trendsetter(商品名称),在光束强度9W、滚筒转速150rpm下,将测试图案以图像状描刻。然后,在室温25℃、湿度60%的条件下静置50分钟之后,浸渍于装入有FUJIFILM Co.,Ltd.制造的显影液DT-2(商品名称)(进行稀释而将电导率设为43mS/cm的显影液)的显影浴中,在显影温度30℃下测定了非图像部的显影所需的时间。将非图像部中的光学浓度的测定值与Al支撑体的光学浓度的测定值之差成为0.02以下的浸渍时间设为曝光部显影时间。利用比上述曝光部显影时间短的时间的显影中,在印刷品中产生污垢。关于光学浓度,使用GretagMacbeth公司制造的分光光度计SpectroEye来进行了测定。将评价结果记载于表5~表7中。
[表5]
另外,上述比较例1~比较例4中所使用的CP-1、CP-2及CP-3的结构如下述。下述结构中,Me表示甲基,括号右下方的数值表示摩尔比。CP-1、CP-2及CP-3是参考国际公开第2016/133072号中所记载的方法来进行了合成。
[化学式44]
[表6]
[表7]
根据表5~表7的结果,可知本公开所涉及的正型平板印刷版原版的显影性、印刷耐久性、曝光后的经时稳定性优异。
Claims (10)
1.一种正型平板印刷版原版,其在具有亲水性表面的支撑体上具有图像记录层,该图像记录层含有:高分子化合物1,在主链上具有选自包含脲键、氨基甲酸酯键及碳酸酯键的组中的至少一个键,且在主链上具有磺酰胺基;高分子化合物2-1或高分子化合物2-2,该高分子化合物2-1包含由下述式S-1表示的构成单元及由下述式S-2表示的构成单元中的至少一种,该高分子化合物2-2包含由下述式EV-1表示的构成单元及由下述式EV-2表示的构成单元;及红外线吸收剂,
式S-1及S-2中,RS1表示氢原子或烷基,Z表示-O-或-N(RS2)-,RS2表示氢原子、烷基、烯基或炔基,Ar1及Ar2分别独立地表示芳香族基,Ar1及Ar2中的至少一个为杂芳香族基,sa及sb分别独立地表示0或1,
式EV-1或式EV-2中,L表示二价的连接基团,x为0或1,R1表示具有至少一个羟基的芳香环或杂芳香环,R2及R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、具有或不具有取代基的线状或支链状或者环状的烷基、具有或不具有取代基的线状或支链状或者环状的烯基、或具有或不具有取代基的芳香环或者具有或不具有取代基的杂芳香环。
2.根据权利要求1所述的正型平板印刷版原版,其中,
所述高分子化合物1在主链上还具有多环式结构。
3.根据权利要求1或2所述的正型平板印刷版原版,其中,
所述高分子化合物1包含由下述式A-1表示的构成单元来作为具有所述磺酰胺基的构成单元,
式A-1中,R4表示二价的连接基团。
4.根据权利要求3所述的正型平板印刷版原版,其中,
由所述式A-1表示的构成单元包含由下述式B1-1~式B1-6中的任一个表示的构成单元,
式B1-1~式B1-6中,RB11、RB12、RB21、RB22、RB31~RB33、RB41、RB42、RB51、RB52及RB61~RB63分别独立地表示氢原子、磺酰胺基、羟基、羧基、烷基或卤素原子,ZB11表示-C(R)2-、-C(=O)-、-O-、-NR-、-S-或单键,ZB21表示-C(R)2-、-O-、-NR-、-S-或单键,R分别独立地表示氢原子或烷基,XB21表示-C(R’)2-、-O-、-NR’-、-S-或单键,R’分别独立地表示氢原子或烷基。
5.根据权利要求3所述的正型平板印刷版原版,其中,
由所述式A-1表示的构成单元包含由下述式B1-1或式B1-2表示的构成单元,
式B1-1或式B1-2中,RB11、RB12、RB21及RB22分别独立地表示氢原子、磺酰胺基、羟基、羧基、烷基或卤素原子,ZB11表示-C(R)2-、-C(=O)-、-O-、-NR-、-S-或单键,ZB21表示-C(R)2-、-O-、-NR-、-S-或单键,R分别独立地表示氢原子或烷基,XB21表示-C(R’)2-、-O-、-NR’-、-S-或单键,R’分别独立地表示氢原子或烷基。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的正型平板印刷版原版,其中,
所述图像记录层含有高分子化合物2-2,所述高分子化合物2-2为由下述式VA表示的高分子化合物2-2,
式VA中,R1表示具有至少一个羟基的芳香环或杂芳香环,R2A表示具有或不具有取代基的烷基,a为10摩尔%~55摩尔%,b为15摩尔%~60摩尔%,c为10摩尔%~60摩尔%,d为0摩尔%~10摩尔%。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的正型平板印刷版原版,其在所述具有亲水性表面的支撑体上具备依次具有下层及上层的记录层,所述下层及所述上层中的至少一个为所述图像记录层。
8.根据权利要求7所述的正型平板印刷版原版,其中,
所述下层为所述图像记录层,所述上层为其它记录层。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的正型平板印刷版原版,其在所述具有亲水性表面的支撑体与所述图像记录层之间具有底涂层。
10.一种平板印刷版的制作方法,其包括:
曝光工序,对权利要求1至9中任一项所述的正型平板印刷版原版进行图像曝光;及
显影工序,使用pH8.5~13.5的碱水溶液来对经曝光的正型平板印刷版原版进行显影。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016192049 | 2016-09-29 | ||
JP2016-192049 | 2016-09-29 | ||
PCT/JP2017/029660 WO2018061511A1 (ja) | 2016-09-29 | 2017-08-18 | ポジ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109690403A true CN109690403A (zh) | 2019-04-26 |
Family
ID=61762728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201780056040.XA Pending CN109690403A (zh) | 2016-09-29 | 2017-08-18 | 正型平板印刷版原版及平板印刷版的制作方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190176459A1 (zh) |
EP (1) | EP3495887B1 (zh) |
JP (1) | JP6615374B2 (zh) |
CN (1) | CN109690403A (zh) |
WO (1) | WO2018061511A1 (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH11327129A (ja) * | 1998-05-08 | 1999-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JP2005099138A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JP4167160B2 (ja) * | 2003-09-29 | 2008-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2006058430A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
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JP5164640B2 (ja) * | 2008-04-02 | 2013-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
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-
2017
- 2017-08-18 WO PCT/JP2017/029660 patent/WO2018061511A1/ja unknown
- 2017-08-18 JP JP2018541982A patent/JP6615374B2/ja active Active
- 2017-08-18 CN CN201780056040.XA patent/CN109690403A/zh active Pending
- 2017-08-18 EP EP17855469.7A patent/EP3495887B1/en active Active
-
2019
- 2019-02-19 US US16/279,978 patent/US20190176459A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3495887A1 (en) | 2019-06-12 |
JP6615374B2 (ja) | 2019-12-04 |
EP3495887A4 (en) | 2020-01-15 |
JPWO2018061511A1 (ja) | 2019-02-21 |
WO2018061511A1 (ja) | 2018-04-05 |
EP3495887B1 (en) | 2021-09-22 |
US20190176459A1 (en) | 2019-06-13 |
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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|
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