CN109676552A - 一种吸附力均匀的真空吸附平台 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及材料加工中吸附平台领域,更具体地,涉及一种吸附力均匀的真空吸附平台,包括底座、蜂窝支撑层及面板,底座上设有抽气孔,蜂窝支撑层设于底座上,面板上设有多个吸气孔;还包括设于蜂窝支撑层与面板之间的均压腔室,均压腔室上设有与抽气孔连通的通气孔,均压腔室上设有多个支撑结构,支撑结构用于支撑面板。本发明一种吸附力均匀的真空吸附平台,将抽气孔与气泵连通时,均压腔室上的通气孔通过抽气孔与气泵直接连通,不但使得沿程压力损失得以减少,保证均压腔室内具有足够的负压强度,对气泵功率要求低,而且使得平台整体通透性良好,均压腔室内各处负压均匀,进而保证吸附平台吸附力的均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及材料加工中吸附平台领域,更具体地,涉及一种吸附力均匀的真空吸附平台。
背景技术
工厂中手工或机械加工皮革布匹等材料时,需要一个平台将材料固定,方便切割等加工。常用的一种平台就是真空吸附平台。真空吸附平台主要由面板、底座、蜂窝材料等组成。在底座中填充蜂窝材料作为蜂窝支撑层,底座上设有抽气孔,用带有吸气孔的面板盖在底座上部,对整个平台进行平整、密封处理。之后气泵通过抽气孔对平台进行抽气,使得面板表面吸气孔吸气产生吸附力,固定所需加工的材料。
目前真空吸附平台内部由蜂窝铝材填充作为蜂窝支撑层,起到支撑以及导流作用。蜂窝材料具有使用方便、耐压、易于平台后期平整处理等特点,但是由于蜂窝材料难于进行特定加工,不能在平台内部构造出合理的气体流动通道,因此其整体通透性低,致使平台表面的吸附力极度不均匀,需要高功率的气泵才能保证平台表面的吸附力达到工作要求。
发明内容
本发明旨在克服上述现有技术的缺陷,提供一种吸附力均匀的真空吸附平台,对用于对该真空吸附平台进行抽气的气泵功率要求低。
为达到上述目的,本发明采取的技术方案是:提供一种吸附力均匀的真空吸附平台,包括底座、蜂窝支撑层及面板,底座上设有抽气孔,蜂窝支撑层设于底座上,面板上设有多个吸气孔;还包括设于蜂窝支撑层与面板之间的均压腔室,均压腔室上设有与抽气孔连通的通气孔,均压腔室上设有多个支撑结构,支撑结构用于支撑面板。
抽气孔与气泵通过管道连通,通过气泵对平台进行抽气,实现吸附平台的真空吸附;蜂窝支撑层采用蜂窝铝材结构,延展性较好,在平台进行安装时,可以通过压实保证整体的密封性以及工作面的平整;将蜂窝支撑层放入底座,上面添加均压腔室,接着盖上面板,将真空吸附平台压平,进行密封,以完成该真空吸附平台的组装。
上述方案中,将抽气孔与气泵连通时,均压腔室上的通气孔通过抽气孔与气泵直接连通,不但使得沿程压力损失得以减少,保证均压腔室内具有足够的负压强度,对气泵功率要求低,而且使得平台整体通透性良好,均压腔室内各处负压均匀,进而保证吸附平台吸附力的均匀性。
优选地,关于通气孔和抽气孔的连通可采用两种方案。
第一种方案:抽气孔上设有抽气管道,通气孔和抽气孔通过抽气管道连通。抽气管道贯穿蜂窝支撑层,这样设置可以保证通气孔与气泵连通时的密封性,保证沿程压力损失减少。
第二种方案:蜂窝支撑层围绕抽气孔设置的部分形成抽气通道,通气孔和抽气孔通过抽气通道连通。通过蜂窝支撑层形成抽气通道,使得蜂窝支撑层对均压腔室的支撑力均匀,易于平台后期的平整处理,另外,这样设置也可以保证通气孔与气泵连通时的密封性,保证沿程压力损失减少。
优选地,所述支撑结构为圆柱体、正方体或长方体结构。优选为圆柱体结构的支撑结构,这样设置在保证对面板支撑强度的同时,便于气流的顺畅流动。
优选地,多个支撑结构均匀设置于均压腔室上。这样设置不但便于吸附平台的组装,而且使得面板所受支撑力均衡,保证该吸附平台的吸附效果。进一步优选地,多个支撑结构呈行列均匀设置于均压腔室上。
优选地,吸气孔分多块设于面板上,且不同块内吸气孔的孔径和相邻吸气孔之间的间距不同。由于均压腔室内压强均匀,从而可以利用小孔节流的原理,通过内外压差计算得到不同孔径吸气孔产生的吸附力,进而调整吸附平台表面不同块内吸气孔的孔径和相邻吸气孔之间的间距,达到控制平台表面吸附力大小和分布的目的,这样即可根据实际需求在面板上不同位置进行材料加工,适用多种工况、使用便利。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:将抽气孔与气泵连通时,均压腔室上的通气孔通过抽气孔与气泵直接连通,不但使得沿程压力损失得以减少,保证均压腔室内具有足够的负压强度,对气泵功率要求低,而且使得平台整体通透性良好,均压腔室内各处负压均匀,进而保证吸附平台吸附力的均匀性;吸气孔分多块设于面板上,且不同块内吸气孔的孔径和相邻吸气孔之间的间距不同的设置,使得可以利用小孔节流的原理,通过内外压差计算得到不同孔径吸气孔产生的吸附力,进而调整吸附平台表面不同块内吸气孔的孔径和相邻吸气孔之间的间距,达到控制平台表面吸附力大小和分布的目的,这样即可根据实际需求在面板上不同位置进行材料加工,适用多种工况、使用便利。
附图说明
图1为本实施例一种吸附力均匀的真空吸附平台的爆炸图。
图2为本实施例中均压腔室的示意图。
图3为本实施例中面板的示意图。
附图标记:底座1;蜂窝支撑层2;面板3;均压腔室4;抽气孔11;抽气管道12;吸气孔31;通气孔41;支撑结构42。
具体实施方式
本发明附图仅用于示例性说明,不能理解为对本发明的限制。为了更好说明以下实施例,附图某些部件会有省略、放大或缩小,并不代表实际产品的尺寸;对于本领域技术人员来说,附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。
实施例
如图1所示,本实施例提供一种吸附力均匀的真空吸附平台,包括底座1、蜂窝支撑层2及面板3,底座1上设有抽气孔11,蜂窝支撑层2设于底座1上,面板3上设有多个吸气孔31;还包括设于蜂窝支撑层2与面板3之间的均压腔室4,均压腔室4上设有与抽气孔11连通的通气孔41,均压腔室4上设有多个支撑结构42,支撑结构42用于支撑面板(3)。
本实施例中,抽气孔11与气泵通过管道连通,通过气泵对平台进行抽气,实现吸附平台的真空吸附;蜂窝支撑层2采用蜂窝铝材结构,延展性较好,在平台进行安装时,可以通过压实保证整体的密封性以及工作面的平整;将蜂窝支撑层2放入底座1,上面添加均压腔室4,接着盖上面板3,将真空吸附平台压平,进行密封,以完成该真空吸附平台的组装。
将抽气孔11与气泵连通时,均压腔室4上的通气孔41通过抽气孔11与气泵直接连通,不但使得沿程压力损失得以减少,保证均压腔室4内具有足够的负压强度,对气泵功率要求低,而且使得平台整体通透性良好,均压腔室4内各处负压均匀,进而保证吸附平台吸附力的均匀性。
关于通气孔41和抽气孔11的连通可采用两种方案。
第一种方案:抽气孔11上设有抽气管道12,通气孔41和抽气孔11通过抽气管道12连通。抽气管道12贯穿蜂窝支撑层2,这样设置可以保证通气孔41与气泵连通时的密封性,保证沿程压力损失减少。
第二种方案:蜂窝支撑层2围绕抽气孔11设置的部分形成抽气通道,通气孔41和抽气孔11通过抽气通道连通。通过蜂窝支撑层2形成抽气通道,使得蜂窝支撑层2对均压腔室4的支撑力均匀,易于平台后期的平整处理,另外,这样设置也可以保证通气孔41与气泵连通时的密封性,保证沿程压力损失减少。
其中,所述支撑结构42为圆柱体、正方体或长方体结构。如图2所示,支撑结构42为圆柱体结构,这样设置在保证对面板3支撑强度的同时,便于气流的顺畅流动。
另外,多个支撑结构42均匀设置于均压腔室4上。这样设置不但便于吸附平台的组装,而且使得面板3所受支撑力均衡,保证该吸附平台的吸附效果。
本实施例中,多个支撑结构42呈行列均匀设置于均压腔室4上。
其中,如图3所示,吸气孔31分多块设于面板3上,且不同块内吸气孔31的孔径和相邻吸气孔之间的间距不同。由于均压腔室4内压强均匀,从而可以利用小孔节流的原理,通过内外压差计算得到不同孔径吸气孔31产生的吸附力,进而调整吸附平台表面不同块内吸气孔31的孔径和相邻吸气31之间的间距,达到控制平台表面吸附力大小和分布的目的,这样即可根据实际需求在面板上不同位置进行材料加工,适用多种工况、使用便利。
经过实际样品测量,本发明相对于现有型号的吸附平台在总吸附力和吸附力均匀性上均有明显提高。
显然,本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明技术方案所作的举例,而并非是对本发明的具体实施方式的限定。凡在本发明权利要求书的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种吸附力均匀的真空吸附平台,包括底座(1)、蜂窝支撑层(2)及面板(3),底座(1)上设有抽气孔(11),蜂窝支撑层(2)设于底座(1)上,面板(3)上设有多个吸气孔(31);其特征在于,还包括设于蜂窝支撑层(2)与面板(3)之间的均压腔室(4),均压腔室(4)上设有与抽气孔(11)连通的通气孔(41),均压腔室(4)上设有多个支撑结构(42),支撑结构(42)用于支撑面板(3)。
2.根据权利要求1所述的一种吸附力均匀的真空吸附平台,其特征在于,抽气孔(11)上设有抽气管道(12),通气孔(41)和抽气孔(11)通过抽气管道(12)连通。
3.根据权利要求1所述的一种吸附力均匀的真空吸附平台,其特征在于,蜂窝支撑层(2)围绕抽气孔(11)设置的部分形成抽气通道,通气孔(41)和抽气孔(11)通过抽气通道连通。
4.根据权利要求1所述的一种吸附力均匀的真空吸附平台,其特征在于,所述支撑结构(42)为圆柱体、正方体或长方体结构。
5.根据权利要求1所述的一种吸附力均匀的真空吸附平台,其特征在于,多个支撑结构(42)均匀设置于均压腔室(4)上。
6.根据权利要求5所述的一种吸附力均匀的真空吸附平台,其特征在于,多个支撑结构(42)呈行列均匀设置于均压腔室(4)上。
7.根据权利要求1至6任一项所述的一种吸附力均匀的真空吸附平台,其特征在于,吸气孔(31)分多块设于面板(3)上,且不同块内吸气孔(31)的孔径和相邻吸气孔之间的间距不同。
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