CN109671350A - 一种防伪光刻膜带的制造方法 - Google Patents
一种防伪光刻膜带的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109671350A CN109671350A CN201910074188.7A CN201910074188A CN109671350A CN 109671350 A CN109671350 A CN 109671350A CN 201910074188 A CN201910074188 A CN 201910074188A CN 109671350 A CN109671350 A CN 109671350A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- photoetching
- fake
- film band
- reprint
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F3/00—Labels, tag tickets, or similar identification or indication means; Seals; Postage or like stamps
- G09F3/02—Forms or constructions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
Abstract
本发明实施例公开了一种防伪光刻膜带的制造方法,包括一下步骤:S1、绘制出设计图纸;S2、将光刻机对线数量设置为2200~2600,将设计图纸光刻在玻璃板上;S3、对玻璃板喷银、电铸翻版,得到金属镍板;S4、对金属镍板再次翻版得到工作板单元,将多块工作板单元拼接得到工作板;S5通过高温高压将工作板上的图案镜像复制到薄膜材料上得到防伪光刻膜带。与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:由于每次翻版会对光刻膜带表面造成约20%的损失,本发明的一种防伪光刻膜带的制造方法通过提高光刻时光刻机的对线数量,使得制造出来的原始光刻膜带达到成像极限,若对原始光刻膜带再次翻版伪造光刻膜带,其表面部分图案会丢失,实现防止光刻膜被伪造的功能。
Description
技术领域
本发明涉及光刻膜带防伪造技术领域,尤其涉及一种防伪光刻膜带的制造方法。
背景技术
利用全息印刷技术做出防伪标识,附于包装物表面是当前最为流行的防伪手段。常用的是激光彩虹模压全息图文防伪技术,它是应用激光彩虹全息图制版技术和模压复制技术,在产品上制作的一种可视的图文信息。彩虹全息图像是以普遍全息图像作为拍摄物体,经一系列程序处理后制成的彩虹全息照片。如用光致抗蚀刻剂的感光片代替普通照片拍摄的全息图,经曝光处理后,即得到一张浮雕型位相全息图,即制作彩虹全息图的母版。母版表面充满了凹凸不平的干涉条纹,其精细度可达每毫米千余条。这些浮雕状的条纹载录了被拍物体的光波强度与位相信息,实现了全息记录。然后用真空镀膜或化学电镀方法,在母版表面镀上一层很薄的金属膜,再电镀上适当厚度的镍或其他金属,做成一块机械性能良好的模压金属板。将此板装在压印机上,热压聚酯类塑料薄膜,把浮雕型全息图压印在薄膜上,最后在薄膜上再真空蒸镀一层铝膜,以提高膜的反射率。在铝膜上盖镀或涂布保护层后,便制成全息图片,即不透明的激光模压全息防伪图。这种全息图可用日光观察,日光中的每一种波长的光都会被图片上的干涉条纹所衍射,因有不同的衍射角,故在不同的角度观看时,有不同颜色的再现图像。
光刻膜带设计制造企业在根据客户需求制造出光刻膜带后,会将光刻膜带交给印刷企业印刷到产品包装上,作为防伪标识。但在这一过程中,出现了印刷企业内部人员违法窃取部分光刻膜带,利用逆向工程的手段,通过光刻膜带翻版得到工作板,然后通过工作板私制防伪标识,并将其销售给制假企业,使得假冒伪劣产品也能够获取真防伪标识的情况,从而造成产品真正的厂家巨大的经济损失以及商誉损害。
发明内容
本发明的目的在于克服上述技术不足,提出一种防伪光刻膜带的制造方法,解决现有技术中光刻膜带容易被翻版伪造的技术问题。
为了达到上述技术目的,本发明实施例提供了一种防伪光刻膜带的制造方法,该一种防伪光刻膜带的制造方法包括以下步骤:
S1、绘制出设计图纸;
S2、将光刻机对线数量设置为2200~2600,将设计图纸光刻在玻璃板上;
S3、对玻璃板喷银、电铸翻版,得到金属镍板;
S4、对金属镍板再次翻版得到工作板单元,将多块工作板单元拼接得到工作板;
S5通过高温高压将工作板上的图案镜像复制到薄膜材料上得到防伪光刻膜带。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:由于每次翻版会对光刻膜带表面造成约20%的损失,本发明的一种防伪光刻膜带的制造方法通过提高光刻时光刻机的对线数量,使得制造出来的原始光刻膜带达到成像极限,若对原始光刻膜带再次翻版伪造光刻膜带,其表面部分图案会丢失,实现防止光刻膜被伪造的功能。
附图说明
图1是传统工艺制得工作模板刻痕底部横剖面图;
图2是传统工艺制得光刻膜带刻痕底部横剖面图;
图3是对传统工艺制得的光刻膜带翻版制得的伪造光刻膜带的刻痕底部横剖面图;
图4是本发明提供的方法制得工作模板刻痕底部横剖面图;
图5是本发明提供的方法制得光刻膜带刻痕底部横剖面图;
图6是对本发明提供的方法制得的光刻膜带翻版制得的伪造光刻膜带的刻痕底部横剖面图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
本发明提供的一种防伪光刻膜带的制造方法包括如下步骤:
S1、在计算机上使用专业的绘图软件绘制出设计图纸。
S2、选用衍射光刻机,并将光刻机对线数量设置为2200~2600,优选的,发明人经过多次试验发现对线数量为2400~2500时,防伪效果最好。然后将设计图纸光刻在玻璃板上,玻璃板的光刻面平整,并且在上面均匀涂敷一层光刻胶。
S3、对光刻完毕的玻璃板喷银,然后电铸翻版,得到金属镍板。
S4、对金属镍板再次翻版得到工作板单元,因为工作板单元上只有一个图案,为了在后续生产过程中提高生产效率,需要将多块工作板单元拼接得到工作板,工作板上包含多个图案,在后续印刷过程中能够在一次印刷中获得多个图案的印刷制品,再进行裁剪。
S5根据所生产的光刻膜带类型的不同,配置不同的涂料,然后在PET(polyethylene terephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)、OPP(O-phenylphenol,邻苯基苯酚)、PVC(Polyvinyl chloride,聚氯乙烯)等薄膜材料上均匀涂刷各种专用涂层,形成分离层和图像层,通过高温高压将工作板上的图案镜像复制到薄膜材料的图象层上得到防伪光刻膜带。
衍射光刻机的工作原理是将激光通过高频光栅,使之发生衍射,然后再在光刻胶上雕刻。因此肉眼观察到的图案上每一道刻痕,刻痕底部的其微观形态是凹凸不平的波浪形干涉条纹,其中相邻的波峰与波谷的轴线称为一个对线,一个对线的长度称为线宽。根据生产需求的不同,可以在光刻机上设置1毫米长度内对线的数量,对线数量越大,线宽越小,图案的亮度越小;反之对线数量越小,线宽越大,图案的亮度越大。日光中的每一种波长的光都会被干涉条纹所衍射,因有不同的衍射角,故在不同的角度观看时,会呈现不同颜色的再现图像。
在制造光刻膜带的过程中,步骤S3和S4的翻版作业中,干涉条纹没有损耗,而在步骤S5利用工作板制作光刻膜带的过程中,干涉条纹表面会产生约20%的损耗,即干涉条纹沿波峰轴线方向会损耗掉约20%振幅高度。此后每一次对光刻膜带翻版均会造成干涉条纹的损耗。
光刻膜带的设计制造企业在根据客户需求制作出原版光刻膜带之后,需要将原版光刻膜带交给印刷企业来生产该防伪标签。由于原版光刻膜带内含有多个重复的图案,不法人员能够很轻易地在原版光刻膜带的边角上裁剪窃取少量的图案,并且不容易被发现。为了能够大规模的伪造,不法人员需要将窃取的含有少量图案的原版光刻膜带翻版制造工作板单元,然后将多个工作板单元拼接成工作板,再利用工作板制造盗版光刻膜带。在此伪造过程中,翻版制造工作板单元和制造盗版光刻膜带这两个工序中,均会导致干涉条纹的磨损。导致相邻两条干涉条纹之间间距减小。
请参见图1至图3,图1是传统工艺制得工作模板刻痕底部横剖面图;图2是传统工艺制得光刻膜带刻痕底部横剖面图;图3是对传统工艺制得的光刻膜带翻版制得的伪造光刻膜带的刻痕底部横剖面图。
在传统工艺中,使用衍射光刻机进行光刻时,一般设置的对线数量为800~1200。对线数量较小,线宽较大,伪造之后的盗版光刻膜带的干涉条纹虽然经过三次损耗,相邻两条干涉条纹之间的间距S在缩小之后依然足够大,能够对日光中每一个波长的光进行干涉,在不同的角度观看时,呈现不同颜色的再现图像。虽然亮度会略微降低,但对于非专业的消费者来说难以分辨。
请参见图4至图6,图4是本发明提供的方法制得工作模板刻痕底部横剖面图;图5是本发明提供的方法制得光刻膜带刻痕底部横剖面图;图6是对本发明提供的方法制得的光刻膜带翻版制得的伪造光刻膜带的刻痕底部横剖面图。
本发明提供的一种防伪光刻膜带的制造方法在使用衍射光刻机进行光刻时,设置的对线数量为2200~2600,并且发明人经过多次实验,还确定了一个更佳的防伪范围2400~2500。通过大幅提高光刻时的对线数量,使得图案上的线宽较小。在步骤S5利用工作板制作光刻膜带的过程中,干涉条纹表面产生的约20%的损耗,使得原版光刻膜带上图案的相邻两条干涉条纹之间的间距S进一步缩小,接近甚至达到成像极限。当不法分子再进行翻版伪造盗版的光刻膜带时,再经过两次损耗的干涉条纹由于间距S过小,无法对日光中每一个波长的光进行干涉,使之在某个角度范围时部分甚至整个图案处于暗色状态,使得消费者能够很容易发现该防伪标识是伪造的。
实施本发明实施例,具有如下有益效果:由于每次翻版会对光刻膜带表面造成约20%的损失,本发明的一种防伪光刻膜带的制造方法通过提高光刻时光刻机的对线数量,使得制造出来的原始光刻膜带达到成像极限,若对原始光刻膜带再次翻版伪造光刻膜带,其表面部分图案会丢失,实现防止光刻膜被伪造的功能。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种防伪光刻膜带的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、绘制出设计图纸;
S2、将光刻机对线数量设置为2200~2600,将所述设计图纸光刻在玻璃板上;
S3、对所述玻璃板喷银、电铸翻版,得到金属镍板;
S4、对所述金属镍板再次翻版得到工作板单元,将多块所述工作板单元拼接得到工作板;
S5通过高温高压将所述工作板上的图案镜像复制到薄膜材料上得到所述防伪光刻膜带。
2.根据权利要求1所述的一种防伪光刻膜带的制造方法,其特征在于,步骤S2中,所述光刻机对线数量设置为2400~2500。
3.根据权利要求2所述的一种防伪光刻膜带的制造方法,其特征在于,所述光刻机为衍射光刻机。
4.根据权利要求3所述的一种防伪光刻膜带的制造方法,其特征在于,所述玻璃板的光刻面均匀涂敷一层光刻胶。
5.根据权利要求4所述的一种防伪光刻膜带的制造方法,其特征在于,所述薄膜材料包括分离层和成像层,步骤S5中,所述图案镜像复制到所述成像层上。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910074188.7A CN109671350A (zh) | 2019-01-25 | 2019-01-25 | 一种防伪光刻膜带的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910074188.7A CN109671350A (zh) | 2019-01-25 | 2019-01-25 | 一种防伪光刻膜带的制造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109671350A true CN109671350A (zh) | 2019-04-23 |
Family
ID=66150109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910074188.7A Pending CN109671350A (zh) | 2019-01-25 | 2019-01-25 | 一种防伪光刻膜带的制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109671350A (zh) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1385727A (zh) * | 2001-05-16 | 2002-12-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 工作波长193纳米投影光刻物镜 |
CN1385728A (zh) * | 2001-05-16 | 2002-12-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 超分辨力投影光刻物镜 |
JP2003072021A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Process Lab Micron:Kk | 印刷用メタルマスク |
EP1481283A1 (en) * | 2002-03-05 | 2004-12-01 | Brewer Science, Inc. | Lithography pattern shrink process and articles |
CN1687846A (zh) * | 2005-05-09 | 2005-10-26 | 中国科学院光电技术研究所 | 采用微光刻技术制作缩微汉字的方法 |
CN1766609A (zh) * | 2002-09-05 | 2006-05-03 | 株式会社东芝 | 光掩模评价方法 |
CN101726990A (zh) * | 2009-12-15 | 2010-06-09 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种用于200nm以下线宽超衍射光刻的硅掩模及其制作方法 |
WO2012167085A2 (en) * | 2011-06-02 | 2012-12-06 | Dow Corning Corporation | Photovoltaic module assembly and method of assembling the same |
CN103903039A (zh) * | 2014-03-26 | 2014-07-02 | 深圳大学 | 隐形编码全息防伪膜、其制作方法及识别系统 |
CN204463697U (zh) * | 2015-01-09 | 2015-07-08 | 海南广鑫印务股份有限公司 | 一种复合一体式全息图文信息防伪标识卡 |
CN205508263U (zh) * | 2016-03-11 | 2016-08-24 | 税俊 | 全息定位烫标签 |
-
2019
- 2019-01-25 CN CN201910074188.7A patent/CN109671350A/zh active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1385727A (zh) * | 2001-05-16 | 2002-12-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 工作波长193纳米投影光刻物镜 |
CN1385728A (zh) * | 2001-05-16 | 2002-12-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 超分辨力投影光刻物镜 |
JP2003072021A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Process Lab Micron:Kk | 印刷用メタルマスク |
EP1481283A1 (en) * | 2002-03-05 | 2004-12-01 | Brewer Science, Inc. | Lithography pattern shrink process and articles |
CN1766609A (zh) * | 2002-09-05 | 2006-05-03 | 株式会社东芝 | 光掩模评价方法 |
CN1687846A (zh) * | 2005-05-09 | 2005-10-26 | 中国科学院光电技术研究所 | 采用微光刻技术制作缩微汉字的方法 |
CN101726990A (zh) * | 2009-12-15 | 2010-06-09 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种用于200nm以下线宽超衍射光刻的硅掩模及其制作方法 |
WO2012167085A2 (en) * | 2011-06-02 | 2012-12-06 | Dow Corning Corporation | Photovoltaic module assembly and method of assembling the same |
CN103903039A (zh) * | 2014-03-26 | 2014-07-02 | 深圳大学 | 隐形编码全息防伪膜、其制作方法及识别系统 |
CN204463697U (zh) * | 2015-01-09 | 2015-07-08 | 海南广鑫印务股份有限公司 | 一种复合一体式全息图文信息防伪标识卡 |
CN205508263U (zh) * | 2016-03-11 | 2016-08-24 | 税俊 | 全息定位烫标签 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
谭俊峤: "《世纪跨越 1999-2008中国包装印刷工业》", 30 April 2009, 北京:印刷工业出版社 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1258448C (zh) | 光学可变防伪图样 | |
JP2006528369A5 (zh) | ||
BRPI0909365B1 (pt) | elemento de segurança e método para a produção de um elemento de segurança | |
JP5143855B2 (ja) | 表示体及びラベル付き物品 | |
CN102905909A (zh) | 防伪元件、具有这种防伪元件的有价文件和这种防伪元件的制造方法 | |
JPH01246582A (ja) | 不連続ホログラムを製造する方法および不連続ホログラムを持つ物品 | |
US11472216B2 (en) | Method for producing security elements, and security elements | |
JP2010204348A (ja) | 表示体及びラベル付き物品 | |
JP2012159589A (ja) | 表示体及びラベル付き物品 | |
CN211455118U (zh) | 彩虹特征识别防伪标识 | |
CN210417620U (zh) | 一种纯白铂金镭射包装材料 | |
CN111645437B (zh) | 激光加密防伪转移膜及其制备方法 | |
CN109671350A (zh) | 一种防伪光刻膜带的制造方法 | |
CN1127431C (zh) | 全息图像定位包装膜及制造工艺和用途 | |
CN103862908A (zh) | 镭射母版及制造该镭射母版的光刻机 | |
JP2013020084A (ja) | 計算機ホログラムを有する表示体及びラベル付き物品 | |
CN206999887U (zh) | 同位异像图案烫印版 | |
JP6907943B2 (ja) | 光学素子、および光学素子付き物品 | |
JP2011022478A (ja) | 微細線からなる立体表示画像 | |
KR102214046B1 (ko) | 보안용 홀로그램 스티커 라벨의 제조방법 | |
Behrens et al. | Method to emboss holograms into the surface of sheet metals | |
JP5644077B2 (ja) | 真正性識別体、真正性判定シート及び真正性判定方法 | |
JP2018072660A (ja) | 金属光沢エンボス加飾シート、金属光沢エンボス加飾シートの製造方法及び金属光沢エンボス加飾シートの製造装置 | |
KR20130010301A (ko) | 다중이미지의 워터마크를 갖는 위조 방지용 홀로그램필름, 그 제조방법 및 워터마크 식별방법 | |
JP2005246893A (ja) | 記録物製造方法及び記録物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20190423 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |