CN109669578B - 显示面板及其制造方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法及显示装置，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。另外，本发明实施例中，连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。

Description

显示面板及其制造方法和显示装置

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制造方法和显示装置。

【背景技术】

随着显示技术的发展，触控屏(Touch Panel)的应用也越来越广泛。与传统的仅能提供显示功能的显示装置相比，触控屏无需使用输入装置，且触控屏不能能够显示画面，还能够进行触控控制。目前，触控屏按照类型可分为电阻式触控屏、电容式触控屏、电磁式触控屏和红外线式触控屏。

现有技术中，需要将触控结构和显示面板进行组装以形成显示装置，从而造成触控屏显示装置的厚度较大，无法实现显示装置的薄化。

【发明内容】

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法和显示装置，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。

一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：柔性衬底基板；

位于所述柔性衬底基板之上的遮光层；

位于所述遮光层中的多个连接结构、多条第一触控电极和多条第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉绝缘设置；

每条所述第一触控电极包括多个独立的第一子触控电极，且任意相邻的两个所述第一子触控电极通过对应的连接结构电连接。

可选地，所述连接结构位于所述柔性衬底基板之上，所述第一触控电极和所述第二触控电极位于所述连接结构的远离所述柔性衬底基板的一侧，多个所述连接结构沿所述第一触控电极的延伸方向设置；

所述遮光层中具有第一凹槽和所述第二凹槽，所述第一子触控电极位于所述第一凹槽内，所述第二触控电极位于所述第二凹槽内，所述第一子触控电极作为跨桥结构。

可选地，所述第一凹槽的宽度大于所述第一子触控电极的宽度，所述第二凹槽的宽度大于所述第二触控电极的宽度；

所述第一子触控电极的宽度的范围包括2μm至4μm，所述第二触控电极的宽度的范围包括2μm至4μm。

可选地，所述第一凹槽包括电极区和与所述电极区的两端分别连通的两个连接区，所述第一子触控电极包括呈一体结构设置的第一电极主体部和第一连接部；

所述第一电极主体部设置于所述电极区内，所述第一连接部设置于所述连接区，以使所述第一子触控电极通过所述第一连接部与对应的所述连接结构直接接触；

所述连接区的深度大于所述电极区的深度；

所述电极区的深度大于所述第一电极主体部的厚度，所述第二凹槽的深度大于所述第二触控电极的厚度；

所述电极区的深度的范围包括0.3μm至0.6μm，第二凹槽的深度的范围包括0.3μm至0.6μm；

所述第一电极主体部的厚度的范围包括

至

所述第二触控电极的厚度的范围包括

至

可选地，所述遮光层包括主体部和多个呈矩阵布置的镂空部，所述第一凹槽和所述第二凹槽形成于所述主体部中，所述镂空部中填充有滤色层；所述主体部包括：

沿所述第一触控电极的延伸方向设置的第一子遮光结构，和沿所述第二触控电极的延伸方向设置的第二子遮光结构，其中，所述第一凹槽位于所述第一子遮光结构中，所述第二凹槽位于所述第二子遮光结构中；

所述第一凹槽的宽度小于所述第一子遮光结构的宽度，所述第二凹槽的宽度小于所述第二子遮光结构的宽度；

所述第一子遮光结构的宽度的范围包括5μm至10μm，所述第二子遮光结构的宽度的范围包括5μm至10μm；

所述第一凹槽的宽度的范围包括4μm至5μm，第二凹槽的宽度的范围包括4μm至5μm。

可选地，所述第一触控电极和所述第二触控电极位于所述柔性衬底基板之上，所述第一触控电极和所述第二触控电极位于所述连接结构的靠近所述柔性衬底基板的一侧，多个所述连接结构沿所述第一触控电极的延伸方向设置；

所述遮光层中具有第三凹槽，所述连接结构位于所述第三凹槽内，所述连接结构作为跨桥结构。

可选地，所述第三凹槽的宽度大于所述连接结构的宽度，所述连接结构的宽度的范围包括2μm至4μm。

可选地，所述第三凹槽包括主体区和与所述电极区的两端分别连通的两个连接区，所述连接结构包括呈一体结构设置的连接结构主体部和第二连接部；

所述连接结构主体部设置于所述电极区内，所述第二连接部设置于所述连接区，以使所述连接结构通过所述第二连接部与对应的所述第一子触控电极直接接触；

所述连接区的深度大于所述电极区的深度；

所述电极区的深度大于所述连接结构主体部的厚度；

所述电极区的深度的范围包括0.3μm至0.6μm。

可选地，所述遮光层包括遮光层主体部和多个呈矩阵布置的镂空部，所述第三凹槽形成于所述遮光层主体部中，所述镂空部中填充有滤色层；

所述第三凹槽的宽度小于所述遮光层主体部的宽度；

所述遮光层主体部的宽度的范围包括5μm至10μm；

所述第三凹槽的宽度的范围包括4μm至5μm。

可选地，所述第一子触控电极的厚度的范围包括

至

所述第二触控电极的厚度的范围包括

至

可选地，所述遮光层的厚度的范围包括0.8μm至1.5μm。

可选地，所述显示面板包括有机发光显示基板，所述柔性衬底基板位于所述有机发光显示基板中；或者，

所述显示面板包括相对设置的彩膜基板和有机发光显示基板，所述柔性衬底基板位于所述彩膜基板中。

另一方面，本发明实施例提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述显示面板。

另一方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法，包括：

在柔性衬底基板上形成导电层，并对所述到导电层进行图案化处理形成多个连接结构，或者形成多条第一触控电极和多条第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉绝缘设置，每条所述第一触控电极包括多个独立的第一子触控电极，任意相邻的两个所述第一子触控电极被对应的第二触控电极分隔，且任意相邻的两个所述第一子触控电极通过对应的连接结构电连接；

在所述导电层上形成遮光层，并通过半透过掩膜板对所述遮光层进行图案化处理以在所述遮光层中形成第一凹槽、第二凹槽、主体部和镂空部，或者形成第三凹槽、主体部和镂空部；

通过喷墨打印工艺在所述第一凹槽中形成所述第一子触控电极以及在所述第二凹槽中形成所述第二触控电极，或者在所述第三凹槽中形成所述连接结构；

在所述遮光层的镂空部中形成滤色层。

本发明实施例提供的一种发光显示面板及其制造方法和显示装置，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为图1中显示面板的平面示意图；

图3为图2中A1-A2向的截面示意图；

图4为图2中B1-B2向的截面示意图；

图5为图2中第一凹槽和第二凹槽的示意图；

图6为图5中C1-C2的截面示意图；

图7为本发明又一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图8为本发明又一实施例提供的一种显示面板的平面示意图；

图9为图8中D1-D2向的截面示意图；

图10为图8中E1-E2向的截面示意图；

图11为图8中第三凹槽的示意图；

图12为图11中F1-F2向的截面示意图；

图13为本发明又一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图14为本发明一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；

图15为本发明又一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；

图16为本发明又一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；

图17为本发明又一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图。

【具体实施方式】

为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

本说明书的描述中，需要理解的是，本申请权利要求及实施例所描述的“基本上”、“近似”、“大约”、“约”、“大致”“大体上”等词语，是指在合理的工艺操作范围内或者公差范围内，可以大体上认同的，而不是一个精确值。

应当理解，尽管在本发明实施例中可能采用术语第一、第二、第三等来描述触控电极，但这些触控电极不应限于这些术语。这些术语仅用来将触控电极彼此区分开。例如，在不脱离本发明实施例范围的情况下，第一触控电极也可以被称为第二触控电极，类似地，第二触控电极也可以被称为第一触控电极。

本案发明人通过细致深入研究，对于现有技术中的问题，如图1～图17所示，其中，图1为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；图2为图1中显示面板的平面示意图；图3为图2中A1-A2向的截面示意图；图4为图2中B1-B2向的截面示意图；图5为图2中第一凹槽和第二凹槽的示意图；图6为图5中C1-C2的截面示意图；图7为本发明又一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；图8为本发明又一实施例提供的一种显示面板的平面示意图；图9为图8中D1-D2向的截面示意图；图10为图8中E1-E2向的截面示意图；图11为图8中第三凹槽的示意图；图12为图11中F1-F2向的截面示意图；图13为本发明又一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；图14为本发明一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；图15为本发明又一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；图16为本发明又一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；图17为本发明又一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图。本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法和显示装置，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。

在相关技术中，可将触控结构贴合至显示面板上以形成触控屏，但此种方式会造成触控屏的厚度较大，往往不能实现柔性显示装置的薄化；或者，将触控结构集成于阻挡膜(Barrier film)、偏光片或者盖板(Cover lens)上，此种方式仅可以在一定程度上减薄柔性显示装置，但是也无法实现柔性显示装置的薄化。为此本发明实施例提供了一种显示面板100，如图1至图4所示，显示面板100包括相对设置的彩膜基板1和有机发光显示基板2。

本发明实施例中，有机发光显示基板2为柔性有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)显示面板。

本发明实施例中，彩膜基板1包括：柔性衬底基板3；位于柔性衬底基板3之上的遮光层4；位于遮光层4中的多个连接结构5、多条第一触控电极6和多条第二触控电极7，第一触控电极6和第二触控电极7交叉绝缘设置；每条第一触控电极6包括多个独立的第一子触控电极61，且任意相邻的两个第一子触控电极61通过对应的连接结构5电连接。其中，任意相邻的两个第一子触控电极61被对应的第二触控电极7分隔。

本发明实施例中，柔性衬底基板3的材料可包括透明聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。采用上述材料不仅可以使得柔性衬底基板3具备良好的柔性，还以使得柔性衬底基板3具备较高的透过率。当然，在实际应用中，柔性衬底基板3的材料可以采用其它高透过率的柔性材料，此处不再一一列举。

本发明实施例中，遮光层4的厚度d1的范围包括0.8μm至1.5μm，采用上述厚度范围可实现在保证遮光层4的遮光效果的前提下，减小显示面板100的厚度。本发明实施例中，遮光层4的材料可包括黑色光阻。

本发明实施例中，第一触控电极6可以为驱动电极Tx，第二触控电极7可以为感应电极Rx；或者，第一触控电极6可以为感应电极Rx，第二触控电极7可以为驱动电极Tx，在此不做具体限定。本发明实施例中，第一触控电极6和第二触控电极7的材料均可以为导电材料，例如金属或者氧化铟锡(ITO)。本发明实施例中，第一触控电极6和第二触控电极7均可以为金属网格(metal mesh)结构或者金属纳米线结构。

本发明实施例中，连接结构5的材料为反射率低于15％的金属材料或有机导电材料，例如，金属材料可以为Cr或者CrO，采用上述材料既能保证连接结构5的电连接性能，又能保证连接结构5的图案化。

本发明实施例中，如图2至图4所示，连接结构5位于柔性衬底基板3之上，第一触控电极6和第二触控电极7位于连接结构5的远离柔性衬底基板3的一侧，多个连接结构5沿第一触控电极6的延伸方向设置。如图2至图5所示，遮光层4中具有第一凹槽8和第二凹槽9，第一子触控电极61位于第一凹槽8内，第二触控电极7位于第二凹槽9内，第一子触控电极61作为跨桥结构。

本发明实施例中，第一凹槽8的宽度k1大于第一子触控电极61的宽度k2，第二凹槽9的宽度k3大于第二触控电极7的宽度k4，从而保证了触控电极结构能够设置于凹槽中。

本发明实施例中，第一子触控电极61的宽度k2的范围包括2μm至4μm，第二触控电极7的宽度k4的范围包括2μm至4μm。

表1

k2/k4	显示品质
		1μm	差
2μm	优
		3μm	优
4μm	优
		5μm	差

如上表1所示，表1示出了电极宽度与显示品质的对应关系，其中，显示品质可包括显示面板的显示性能和触控性能。如表1所示，当第一子触控电极61的宽度k2和第二触控电极7的宽度k4均为2μm至4μm，显示面板的显示品质为优；而当第一子触控电极61的宽度k2和第二触控电极7的宽度k4为1μm和5μm时，显示面板的显示品质较差。因此，本发明实施例中，第一子触控电极61的宽度k2和第二触控电极7的宽度k4均采用2μm至4μm，从而在保证触控电极结构能够设置于凹槽中的基础上，还保证了显示面板的显示性能和触控性能。

如图4和图6所示，第一凹槽8包括电极区81和与电极区81的两端分别连通的两个连接区82，第一子触控电极61包括呈一体结构设置的第一电极主体部611和第一连接部612。第一电极主体部611设置于电极区81内，第一连接部612设置于连接区82，以使第一子触控电极61通过第一连接部612与对应的连接结构5直接接触。连接区82的深度d2大于电极区81的深度d3，从而保证了跨桥连接处的电连接性能。电极区81的深度d3大于第一电极主体部611的厚度d4，第二凹槽9的深度d5大于第二触控电极7的厚度d6，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。

本发明实施例中，电极区81的深度d3的范围包括0.3μm至0.6μm，第二凹槽9的深度d5的范围包括0.3μm至0.6μm。

表2

d3/d5	显示品质
		0.1μm	差
0.2μm	差
		0.3μm	优
0.4μm	优
		0.5μm	优
0.6μm	优
		0.7μm	差
0.8μm	差

如上表2所示，表2示出了凹槽深度与显示品质的对应关系。如表2所示，当第一凹槽8中的电极区81的深度d3和第二凹槽9的深度d5为0.3μm至0.6μm时，显示面板的显示品质为优；而当第一凹槽8中的电极区81的深度d3和第二凹槽9的深度d5为0.1μm、0.2μm、0.7μm和0.8μm，显示面板的显示品质较差。因此，本发明实施例中，第一凹槽8中的电极区81的深度d3和第二凹槽9的深度d5为0.3μm至0.6μm，从而在对触控电极结构起到保护作用的基础上，保证了显示面板的显示性能和触控性能。

本发明实施例中，如图2和图6所示，遮光层4包括主体部41和多个呈矩阵布置的镂空部42，第一凹槽8和第二凹槽9形成于主体部41中，镂空部42中填充有滤色层。例如，滤色层可包括红色色阻、绿色色阻或者蓝色色阻，滤色层在图中未具体画出。主体部41包括沿第一触控电极6的延伸方向设置的第一子遮光结构411和沿第二触控电极7的延伸方向设置的第二子遮光结构412，其中，第一凹槽8位于第一子遮光结构411中，第二凹槽9位于第二子遮光结构412中。第一凹槽8的宽度k1小于第一子遮光结构411的宽度k5，第二凹槽9的宽度k3小于第二子遮光结构412的宽度k6，从而保证了凹槽能够设置于遮光层4中，进而保证了触控电极结构能够设置于遮光层4中。

本发明实施例中，第一子遮光结构411的宽度k5的范围包括5μm至10μm，第二子遮光结构412的宽度k6的范围包括5μm至10μm。

表3

k5/k6	显示品质
		3μm	差
4μm	差
		5μm	优
6μm	优
		7μm	优
8μm	优
		9μm	优
10μm	优
		11μm	差
12μm	差

如上表3所示，表3示出了遮光层的宽度与显示品质的对应关系。如上表3所示，当第一子遮光结构411的宽度k5和第二子遮光结构412的宽度k6为5μm至10μm，显示面板的显示品质为优；而当第一子遮光结构411的宽度k5和第二子遮光结构412的宽度k6为3μm、4μm、11μm和12μm时，显示面板的显示品质较差。因此，本发明实施例中，第一子遮光结构411的宽度k5和第二子遮光结构412的宽度k6的范围均采用5μm至10μm，从而在保证触控电极结构能够设置于遮光层中的基础上，保证了显示面板的显示性能和触控性能。

本发明实施中，第一凹槽8的宽度k1的范围包括4μm至5μm，第二凹槽9的宽度k3的范围包括4μm至5μm。

表4

k1/k3	显示品质
		3.5μm	差
4μm	优
		4.5μm	优
5μm	优
		5.5μm	差

如上表4所示，表4示出了凹槽宽度与显示品质的对应关系。如表4所示，当第一凹槽8的宽度k1和第二凹槽9的宽度k3为4μm至5μm，显示面板的显示品质为优；当第一凹槽8的宽度k1和第二凹槽9的宽度k3为3.5μm和5.5μm、时，显示面板的显示品质较差。因此，本发明实施例中，第一凹槽8的宽度k1和第二凹槽9的宽度k3均采用4μm至5μm，从而在保证触控电极结构能够设置于遮光层4中的基础上，保证了显示面板的显示性能和触控性能。

表5示出了在凹槽宽度和电极宽度的不同取值下显示面板的显示品质，如上表5所示，当第一子触控电极61的宽度k2和第二触控电极7的宽度k4均为2μm至4μm且第一凹槽8的宽度k1和第二凹槽9的宽度k3为4μm至5μm时，显示面板的显示品质为优；其余取值下，显示面板的显示品质较差。因此，本发明实施例中，当第一子触控电极61的宽度k2和第二触控电极7的宽度k4

表5

均为2μm至4μm且第一凹槽8的宽度k1和第二凹槽9的宽度k3为4μm至5μm时，能够保证触控电极结构设置于凹槽中，从而保证了触控电极结构设置于遮光层4中，进而保证了显示面板的显示性能和触控性能。

表6

表6示出了在凹槽宽度和遮光层宽度的不同取值下显示面板的显示品质，如上表6所示，当第一凹槽8的宽度k1和第二凹槽9的宽度k3为4μm至5μm且第一子遮光结构411的宽度k5和第二子遮光结构412的宽度k6为5μm至10μm时，显示面板的显示品质为优；其余取值下，显示面板的显示品质较差。因此，本发明实施例中，当第一凹槽8的宽度k1和第二凹槽9的宽度k3为4μm至5μm且第一子遮光结构411的宽度k5和第二子遮光结构412的宽度k6为5μm至10μm时，能够保证凹槽设置于遮光层4中，从而保证了触控电极结构设置于遮光层4中，进而保证了显示面板的显示性能和触控性能。

综上所述，第一子触控电极61的宽度k2＜第一凹槽8的宽度k1＜第一子遮光结构411的宽度k5，且第二触控电极7的宽度k4＜第二凹槽的宽度k3＜第二子遮光结构412的宽度k6，从而保证了触控电极结构能够设置于遮光层4中。

本发明实施例中，电极区81的深度d3与第一电极主体部611的厚度d4之和小于遮光层4的厚度d1，第二凹槽9的深度d5与第二触控电极7的厚度d6之和小于遮光层4的厚度d1，从而避免了触控电极结构出现短路。

本发明实施例中，彩膜基板1还包括缓冲层10，缓冲层10位于柔性衬底基板3和连接结构5之间。具体地，缓冲层10覆盖柔性衬底基板3，连接结构5位于缓冲层10之上。其中，缓冲层10为无机缓冲层。

本发明实施例中，显示面板还包括光学胶11，光学胶11位于彩膜基板1和有机发光显示基板2之间。彩膜基板1和有机发光显示基板2之间通过光学胶11贴合设置。

本发明实施例中，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。本发明实施例中，连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。本发明实施例中，由于实现了显示装置的薄化，因此有利于显示装置的弯折。

如图7所示，该显示面板100包括有机发光显示基板，该有机发光显示基板包括柔性衬底基板12；位于柔性衬底基板12之上的多个薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称TFT)13；位于薄膜晶体管13之上的平坦化层14；位于平坦化层14之上的多个发光单元15；位于发光单元15之上的薄膜封装(Thin film encapsulation，简称TFE)层16；位于薄膜封装层16之上的遮光层4；位于遮光层4中的多个连接结构5、多条第一触控电极6和多条第二触控电极7，第一触控电极6和第二触控电极7交叉绝缘设置；每条第一触控电极6包括多个独立的第一子触控电极61，且任意相邻的两个第一子触控电极61通过对应的连接结构5电连接。其中，任意相邻的两个第一子触控电极61被对应的第二触控电极7分隔。

本发明实施例中，薄膜晶体管13用于显示区中的像素驱动电路中，作为如驱动晶体管、开关控制晶体管等。薄膜晶体管13用于驱动发光单元15发光，例如，薄膜晶体管13可包括栅极、有源层、源极和漏极，源极和漏极分别与有源层电连接；发光单元15可包括阳极、阴极以及位于阳极和阴极之间的有机发光层，其中，阳极与漏极电连接，具体地，阳极可通过位于平坦化层14中的过孔与漏极电连接。需要说明的是：薄膜晶体管13和发光单元15的具体结构在图7中均未具体画出。

本发明实施例中，显示面板还可以包括：位于遮光层4之上的盖板，其中，盖板在图中未具体画出。

本实施例与上述图1中实施例的区别在于：本实施例中的柔性衬底基板12位于有机发光显示基板中，遮光层4、连接结构5、第一触控电极6和第二触控电极7均是位于有机发光显示基板中的薄膜封装层16之上的，对上述各结构的具体描述可参见图1中的实施例，此处不再重复描述。

如图1、图8至图10所示，显示面板100包括相对设置的彩膜基板1和有机发光显示基板2。

本发明实施例中，有机发光显示基板2为柔性OLED显示面板。

本发明实施例中，彩膜基板1包括：柔性衬底基板3；位于柔性衬底基板3之上的遮光层4；位于遮光层4中的多个连接结构5、多条第一触控电极6和多条第二触控电极7，第一触控电极6和第二触控电极7交叉绝缘设置；每条第一触控电极6包括多个独立的第一子触控电极61，且任意相邻的两个第一子触控电极61通过对应的连接结构5电连接。其中，任意相邻的两个第一子触控电极61被对应的第二触控电极7分隔，

本发明实施例中，柔性衬底基板3的材料可包括透明聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。采用上述材料不仅可以使得柔性衬底基板3具备良好的柔性，还以使得柔性衬底基板3具备较高的透过率。当然，在实际应用中，柔性衬底基板3的材料可以采用其它高透过率的柔性材料，此处不再一一列举。

本发明实施例中，遮光层4的厚度d1的范围包括0.8μm至1.5μm，采用上述厚度范围可实现在保证遮光层4的遮光效果的前提下，减小显示面板100的厚度。本发明实施例中，遮光层4的材料可包括黑色光阻。

本发明实施例中，第一触控电极6可以为驱动电极Tx，第二触控电极7可以为感应电极Rx；或者，第一触控电极6可以为感应电极Rx，第二触控电极7可以为驱动电极Tx，在此不做具体限定。本发明实施例中，第一触控电极6和第二触控电极7的材料均可以为导电材料，例如金属或者氧化铟锡(ITO)。本发明实施例中，第一触控电极6和第二触控电极7均可以为金属网格(metal mesh)结构或者金属纳米线结构。

本发明实施例中，连接结构5的材料为反射率低于15％的金属材料或有机导电材料，例如，金属材料可以为Cr或者CrO，采用上述材料既能保证连接结构5的电连接性能，又能保证连接结构5的图案化。

本发明实施例中，如图8至图10所示，第一触控电极6和第二触控电极7位于柔性衬底基板3之上，第一触控电极6和第二触控电极7位于连接结构5的靠近柔性衬底基板3的一侧，多个连接结构5沿第一触控电极6的延伸方向设置。如图11所示，遮光层4中具有第三凹槽17，连接结构5位于第三凹槽17内，连接结构5作为跨桥结构。

本发明实施例中，第三凹槽17的宽度k7大于连接结构5的宽度k8，从而保证了连接结构5能够设置于凹槽中。

本发明实施例中，连接结构5的宽度k8的范围包括2μm至4μm。

如图8至图12所示，第三凹槽17包括电极区171和与电极区171的两端分别连通的两个连接区172，连接结构5包括呈一体结构设置的连接结构主体部51和第二连接部52。连接结构主体部51设置于电极区171内，第二连接部52设置于连接区172，以使连接结构5通过第二连接部52与对应的第一子触控电极61直接接触；连接区172的深度d7大于电极区171的深度d8，从而保证了跨桥连接处的电连接性能。电极区171的深度d8大于连接结构主体部51的厚度d9，从而避免了受到外界按压或者冲击时连接结构受到破坏，对连接结构起到保护作用。

本发明实施例中，电极区171的深度d8的范围包括0.3μm至0.6μm。

本发明实施例中，如图8和图12所示，遮光层4包括遮光层主体部41和多个呈矩阵布置的镂空部42，第三凹槽17形成于遮光层主体部41中，镂空部42中填充有滤色层。例如，滤色层可包括红色色阻、绿色色阻或者蓝色色阻，滤色层在图中未具体画出。第三凹槽17的宽度k7小于遮光层主体部41的宽度k9。

遮光层主体部41的宽度k9的范围包括5μm至10μm；第三凹槽17的宽度k7的范围包括4μm至5μm。

第一子触控电极61的厚度d10的范围包括

至

第二触控电极7的厚度d11的范围包括

至

本发明实施例中，彩膜基板1还包括缓冲层10，缓冲层10位于柔性衬底基板3和连接结构5之间。具体地，缓冲层10覆盖柔性衬底基板3，连接结构5位于缓冲层10之上。其中，缓冲层10为无机缓冲层。

本发明实施例中，如图1所示，显示面板还包括光学胶11，光学胶11位于彩膜基板1和有机发光显示基板2之间。彩膜基板1和有机发光显示基板2之间通过光学胶11贴合设置。

本发明实施例中，关于对连接结构5的各项参数与显示品质的对应关系，可参见上述图1的实施例中对第一子触控电极的描述，此处不再赘述。

本发明实施例中，连接结构5的宽度k8＜第三凹槽17的宽度k7＜遮光层主体部41的宽度k9，从而保证了连接结构5能够设置于遮光层4中。

本发明实施例中，电极区171的深度d8与连接结构主体部51的厚度d9之和小于遮光层4的厚度d1，从而避免了连接结构出现短路。

本发明实施例中，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。本发明实施例中，连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。

如图13所示，该显示面板100包括有机发光显示基板，该有机发光显示基板包括柔性衬底基板12；位于柔性衬底基板12之上的多个薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称TFT)13；位于薄膜晶体管13之上的平坦化层14；位于平坦化层14之上的多个发光单元15；位于发光单元15之上的薄膜封装(Thin film encapsulation，简称TFE)层16；位于薄膜封装层16之上的遮光层4；位于遮光层4中的多个连接结构5、多条第一触控电极6和多条第二触控电极7，第一触控电极6和第二触控电极7交叉绝缘设置；每条第一触控电极6包括多个独立的第一子触控电极61，且任意相邻的两个第一子触控电极61通过对应的连接结构5电连接。其中，任意相邻的两个第一子触控电极61被对应的第二触控电极7分隔。

本发明实施例中，薄膜晶体管13用于显示区中的像素驱动电路中，作为如驱动晶体管、开关控制晶体管等。薄膜晶体管13用于驱动发光单元15发光，例如，薄膜晶体管13可包括栅极、有源层、源极和漏极，源极和漏极分别与有源层电连接。发光单元15可包括阳极、阴极以及位于阳极和阴极之间的有机发光层。其中，阳极与漏极电连接，具体地，阳极可通过位于平坦化层14中的过孔与漏极电连接。需要说明的是：薄膜晶体管13和发光单元15的具体结构在图7中均未具体画出。

本发明实施例中，显示面板还可以包括：位于遮光层4之上的盖板，其中，盖板在图中未具体画出。

本实施例与上述图8中实施例的区别在于：本实施例中的柔性衬底基板12位于有机发光显示基板中，遮光层4、连接结构5、第一触控电极6和第二触控电极7均是位于有机发光显示基板中的薄膜封装层16之上的，对上述各结构的具体描述可参见图8中的实施例，此处不再重复描述。

本发明实施例还提供了一种显示装置(未图示)，该显示装置包括上述显示面板。其中，显示面板的具体结构已经在上述各实施例中进行了详细说明，此处不再赘述。该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。

由于本发明实施例所提供的显示装置包括上述显示面板，因此，采用该显示装置，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。本发明实施例中，连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。

本发明一实施例提供了一种显示面板的制造方法，如图14所述，该方法包括：

步骤101、制备有机发光显示基板。

步骤102、在支撑基板上形成柔性衬底基板。

步骤103、在柔性衬底基板上形成缓冲层。

步骤104、在缓冲层上形成导电层，并对所述导电层进行图案化处理形成多个连接结构。

步骤105、在多个连接结构上形成遮光层，并通过半透过掩膜板对所述遮光层进行图案化处理以在所述遮光层中形成第一凹槽、第二凹槽、主体部和镂空部。

步骤106、通过喷墨打印工艺在所述第一凹槽中形成所述第一子触控电极以及在所述第二凹槽中形成所述第二触控电极。

步骤107、在遮光层的镂空部中形成滤色层。

步骤108、通过取下工艺将支撑基板从柔性衬底基板上分离，以制备出彩膜基板。

例如，取下工艺为激光取下工艺或者机械取下工艺。

至此，通过步骤102至步骤108，制备出了彩膜基板。

步骤109、将有机发光显示基板和彩膜基板通过涂布于彩膜基板上的光学胶进行贴合。

本实施例提供的显示面板的制造方法可用于制造图1中实施例所提供的显示面板。

本发明实施例提供的制造方法制造出的显示面板中，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。

本发明又一实施例提供了一种显示面板的制造方法，如图15所示，该方法包括：

步骤201、在支撑基板上形成柔性衬底基板。

步骤202、在柔性衬底基板之上形成多个薄膜晶体管。

步骤203、在薄膜晶体管之上形成平坦化层。

步骤204、在平坦化层上形成多个发光单元。

步骤205、在发光单元之上形成薄膜封装层。

步骤206、在薄膜封装层之上形成导电层，并对所述导电层进行图案化处理形成多个连接结构。

步骤207、在多个连接结构上形成遮光层，并通过半透过掩膜板对所述遮光层进行图案化处理以在所述遮光层中形成第一凹槽、第二凹槽、主体部和镂空部。

步骤208、通过喷墨打印工艺在所述第一凹槽中形成所述第一子触控电极以及在所述第二凹槽中形成所述第二触控电极。

步骤209、在遮光层的镂空部中形成滤色层。

步骤210、通过取下工艺将支撑基板从柔性衬底基板上分离。

例如，取下工艺为激光取下工艺或者机械取下工艺。

该方法还可以包括：在遮光层上形成盖板。

本实施例提供的显示面板的制造方法可用于制造图7中实施例所提供的显示面板。

本发明实施例提供的制造方法制造出的显示面板中，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。本发明实施例中，通过喷墨打印工艺形成触控电极，无需进行光照和湿法刻蚀制程，从而避免了对发光单元和薄膜封装层的影响。

本发明又一实施例提供了一种显示面板的制造方法，如图16所示，该方法包括：

步骤301、制备有机发光显示基板。

步骤302、在支撑基板上形成柔性衬底基板。

步骤303、在柔性衬底基板上形成缓冲层。

步骤304、在柔性衬底基板上形成导电层，并对所述到导电层进行图案化处理形成多条第一触控电极和多条第二触控电极。

步骤305、在第一触控电极和第二触控电极上形成遮光层，并通过半透过掩膜板对所述遮光层进行图案化处理以在所述遮光层中形成第三凹槽、主体部和镂空部。

步骤306、通过喷墨打印工艺在第三凹槽中形成所述连接结构。

步骤307、在遮光层的镂空部中形成滤色层。

步骤308、通过取下工艺将支撑基板从柔性衬底基板上分离，以制备出彩膜基板。

例如，取下工艺为激光取下工艺或者机械取下工艺。

至此，通过步骤102至步骤108，制备出了彩膜基板。

步骤309、将有机发光显示基板和彩膜基板通过涂布于彩膜基板上的光学胶进行贴合。

本实施例提供的显示面板的制造方法可用于制造图8中实施例所提供的显示面板。

本发明实施例提供的制造方法制造出的显示面板中，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。

本发明又一实施例提供了一种显示面板的制造方法，如图17所示，该方法包括：

步骤401、在支撑基板上形成柔性衬底基板。

步骤402、在柔性衬底基板之上形成多个薄膜晶体管。

步骤403、在薄膜晶体管之上形成平坦化层。

步骤404、在平坦化层上形成多个发光单元。

步骤405、在发光单元之上形成薄膜封装层。

步骤406、在薄膜封装层之上形成导电层，并对所述到导电层进行图案化处理形成多条第一触控电极和多条第二触控电极。

步骤407、在第一触控电极和第二触控电极上形成遮光层，并通过半透过掩膜板对所述遮光层进行图案化处理以在所述遮光层中形成第三凹槽、主体部和镂空部。

步骤408、通过喷墨打印工艺在第三凹槽中形成所述连接结构。

步骤409、在遮光层的镂空部中形成滤色层。

步骤410、通过取下工艺将支撑基板从柔性衬底基板上分离。

例如，取下工艺为激光取下工艺或者机械取下工艺。

该方法还可以包括：在遮光层上形成盖板。

本实施例提供的显示面板的制造方法可用于制造图13中实施例所提供的显示面板。

本发明实施例提供的制造方法制造出的显示面板中，通过将连接结构、第一触控电极和第二触控电极设置于遮光层中，实现了将触控结构内嵌于显示面板的结构中，从而极大的减小了显示装置的厚度，实现了显示装置的薄化。连接结构、第一触控电极和第二触控电极均设置于遮光层中，从而避免了受到外界按压或者冲击时触控电极受到破坏，对触控电极起到保护作用。本发明实施例中，通过喷墨打印工艺形成触控电极，无需进行光照和湿法刻蚀制程，从而避免了对发光单元和薄膜封装层的影响。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

Claims (9)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：柔性衬底基板；

位于所述柔性衬底基板之上的遮光层；

位于所述遮光层中的多个连接结构、多条第一触控电极和多条第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉绝缘设置；

每条所述第一触控电极包括多个独立的第一子触控电极，且任意相邻的两个所述第一子触控电极通过对应的连接结构电连接；

其中，

所述连接结构位于所述柔性衬底基板之上，所述第一触控电极和所述第二触控电极位于所述连接结构的远离所述柔性衬底基板的一侧，多个所述连接结构沿所述第一触控电极的延伸方向设置；

所述遮光层中具有第一凹槽和第二凹槽，所述第一子触控电极位于所述第一凹槽内，所述第二触控电极位于所述第二凹槽内，所述第一子触控电极作为跨桥结构；所述第一凹槽包括电极区和与所述电极区的两端分别连通的两个连接区，所述第一子触控电极包括呈一体结构设置的第一电极主体部和第一连接部；

所述第一电极主体部设置于所述电极区内，所述第一连接部设置于所述连接区，以使所述第一子触控电极通过所述第一连接部与对应的所述连接结构直接接触；

所述连接区的深度大于所述电极区的深度；

所述电极区的深度大于所述第一电极主体部的厚度，所述第二凹槽的深度大于所述第二触控电极的厚度；

所述电极区的深度的范围包括0.3μm至0.6μm，第二凹槽的深度的范围包括0.3μm至0.6μm；

所述第一电极主体部的厚度的范围包括

至

所述第二触控电极的厚度的范围包括

至

或者，

所述第一触控电极和所述第二触控电极位于所述柔性衬底基板之上，所述第一触控电极和所述第二触控电极位于所述连接结构的靠近所述柔性衬底基板的一侧，多个所述连接结构沿所述第一触控电极的延伸方向设置；

所述遮光层中具有第三凹槽，所述连接结构位于所述第三凹槽内，所述连接结构作为跨桥结构；

所述第三凹槽包括电极区和与所述电极区的两端分别连通的两个连接区，所述连接结构包括呈一体结构设置的连接结构主体部和第二连接部；

所述连接结构主体部设置于所述电极区内，所述第二连接部设置于所述连接区，以使所述连接结构通过所述第二连接部与对应的所述第一子触控电极直接接触；

所述连接区的深度大于所述电极区的深度；

所述电极区的深度大于所述连接结构主体部的厚度；

所述电极区的深度的范围包括0.3μm至0.6μm；

所述第一子触控电极的厚度的范围包括

至

所述第二触控电极的厚度的范围包括

至

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一凹槽的宽度大于所述第一子触控电极的宽度，所述第二凹槽的宽度大于所述第二触控电极的宽度；

所述第一子触控电极的宽度的范围包括2μm至4μm，所述第二触控电极的宽度的范围包括2μm至4μm。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层包括主体部和多个呈矩阵布置的镂空部，所述第一凹槽和所述第二凹槽形成于所述主体部中，所述镂空部中填充有滤色层；所述主体部包括：

沿所述第一触控电极的延伸方向设置的第一子遮光结构，和沿所述第二触控电极的延伸方向设置的第二子遮光结构，其中，所述第一凹槽位于所述第一子遮光结构中，所述第二凹槽位于所述第二子遮光结构中；

所述第一凹槽的宽度小于所述第一子遮光结构的宽度，所述第二凹槽的宽度小于所述第二子遮光结构的宽度；

所述第一子遮光结构的宽度的范围包括5μm至10μm，所述第二子遮光结构的宽度的范围包括5μm至10μm；

所述第一凹槽的宽度的范围包括4μm至5μm，第二凹槽的宽度的范围包括4μm至5μm。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第三凹槽的宽度大于所述连接结构的宽度，所述连接结构的宽度的范围包括2μm至4μm。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层包括遮光层主体部和多个呈矩阵布置的镂空部，所述第三凹槽形成于所述遮光层主体部中，所述镂空部中填充有滤色层；

所述第三凹槽的宽度小于所述遮光层主体部的宽度；

所述遮光层主体部的宽度的范围包括5μm至10μm；

所述第三凹槽的宽度的范围包括4μm至5μm。

6.根据权利要求1至5任一所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层的厚度的范围包括0.8μm至1.5μm。

7.根据权利要求1至5任一所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括有机发光显示基板，所述柔性衬底基板位于所述有机发光显示基板中；或者，

所述显示面板包括相对设置的彩膜基板和有机发光显示基板，所述柔性衬底基板位于所述彩膜基板中。

8.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1至7任一所述的显示面板。

9.一种显示面板的制造方法，其特征在于，用于制造如权利要求1至7任一所述的显示面板，包括：

在柔性衬底基板上形成导电层，并对所述导电层进行图案化处理形成多个连接结构，或者形成多条第一触控电极和多条第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉绝缘设置，每条所述第一触控电极包括多个独立的第一子触控电极，任意相邻的两个所述第一子触控电极被对应的第二触控电极分隔，且任意相邻的两个所述第一子触控电极通过对应的连接结构电连接；

在所述导电层上形成遮光层，并通过半透过掩膜板对所述遮光层进行图案化处理以在所述遮光层中形成第一凹槽、第二凹槽、主体部和镂空部，或者形成第三凹槽、主体部和镂空部；

通过喷墨打印工艺在所述第一凹槽中形成所述第一子触控电极以及在所述第二凹槽中形成所述第二触控电极，或者在所述第三凹槽中形成所述连接结构；

在所述遮光层的镂空部中形成滤色层。

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